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Fターム[5E346FF17]の内容

Fターム[5E346FF17]に分類される特許

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本発明の方法は、第1の主面及び第2の主面を有する第1のデバイス(14、16)をパッケージングするためのものである。封止体(18)は、第1のデバイス(14、16)の第2の主面を覆うと共に第1のデバイス(14)の側部の周辺に形成される。これにより、第1のデバイスの第1の主面が露出したまま残される。第1の誘電体層(20)は、第1のデバイスの第1の主面を覆って形成される。第1の誘電体層(20)を覆う少なくとも一部を有するサイドコンタクト境界(36、16;48、56、46;48、56、70、72)が形成される。封止体(18)は、切断されて、封止体の複数の側部(62、64)を形成する。封止体(18)の一部を複数の側部の第1の側部(64)に沿って除去することにより、複数の側部の第1の側部に沿ってサイドコンタクト境界(72、46、16)の一部が露出させられる。
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【課題】本発明は、微細な配線パターンや半導体実装等のより高い信頼性基準を満足する必要のある半導体パッケージや小型モジュール部品等の実装基板に使用する多層プリント配線基板を実現することを目的とする。
【解決手段】ビアホール12内に形成された層間接続材料13の厚さ方向の熱膨張係数が、絶縁材料からなる電気絶縁性基材11の厚さ方向の熱膨張係数よりも低く、層間接続形成温度が使用温度より高く、かつ常温において前記層間接続材料13の厚さ方向の寸法が、同一の配線層における前記層間接続材料13の厚さよりも厚いことを特徴とする多層プリント配線基板である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、微細な配線パターンや半導体実装等のより高い信頼性基準を満足する必要のある半導体パッケージや小型モジュール部品等の実装基板に使用する多層プリント配線板を実現することを目的とする。
【解決手段】絶縁材料からなる電気絶縁性基材11にビアホール12を形成する工程と、前記ビアホール12内に、厚さ方向の熱膨張係数が前記絶縁材料よりも低い層間接続材料13を形成する工程と、多層プリント配線基板の使用環境温度より高い温度にて層間接続を形成する工程を備えたことを特徴とする多層プリント配線基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】配線幅を小さくしながらもビア接続信頼性のある両面回路基板用部材もしくは多層回路基板用部材とその製造方法を提供する。
【解決手段】ビアホール形成用の孔を有する絶縁層の上に孔の内部表面を含む表面上に複数層からなる金属層が形成されている回路基板用材料において、複数層からなる金属層の最表層がニッケル、クロム、チタン、モリブデン、コバルト、鉄、亜鉛、アルミニウム、もしくはこれらの金属を含む合金の金属層であり、前記金属層の下部は銅もしくは銅を含む合金層である回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 誘電体層と導体膜とを積層した構造を持つアンテナ装置の性能を安定化させ、効率を改善する。
【解決手段】 誘電率一定で表面が極平滑な純度97%以上の高純度セラミック基板100の一方の面上に、1以上のアンテナ電極112、112、…が設けられる。高純度セラミック基板100の他方の面上に接地電極113が設けられる。接地電極113上に第1の誘電体膜120が設けられる。第1の誘電体膜120上に、アンテナ電極を制御するスイッチ回路などの電子回路132、132、…が設けられる。アンテナ電極112、112…上に、高誘電率の第2の誘電体膜130が設けられる。アンテナ電極112や接地電極113はPVD法で厚3μm以下に作成される。誘電体膜120、130はエアロゾルデポジション法で厚0.1mm以下、望ましくは10μm以下に作成される (もっと読む)


【課題】 多層配線基板の配線導体への実装および接続信頼性が高く、配線導体層の狭ピッチ化に対応することができる多層配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 絶縁層と配線導体層3とが交互に複数層積層して積層体を形成するとともに上下に位置する配線導体層3同士がそれらの間の絶縁層に形成された貫通導体6を介して電気的に接続されて成る多層配線基板において、積層体の積層方向の内側に位置する絶縁層は、樹脂から成る第一の絶縁層2であり、積層体の最表層がセラミックスおよびガラスの少なくとも一方から成る第二の絶縁層8である。 (もっと読む)


【課題】
層間接続装置において、層間の電気的な接続を確実にするとともに、基板加工を短時間で実行する。
【解決手段】
層間接続装置100は、多数のバイアホール50が形成された多層基板14の層間を接続装する。多層基板は真空容器11内に配置され、真空容器にはエアロゾル生成室と、エアロゾル生成室20が接続されている。エアロゾル生成室にガス導入部80がガスを供給制御する。金属微粒子導入部82が、バイアホールを埋める導電性の金属微粒子をエアロゾル生成室に導入制御する。エアロゾル生成室と真空室との接続部にバイアホールの配置に応じたノズル25が形成されたノズルアレイ24を配置した。 (もっと読む)


【課題】 電気回路を形成する導体層と生成した金属導体の電気的接続の信頼性を向上させると共に、装置構成を簡単にしてランニングコストを安価にすること。
【解決手段】 エアロゾル生成室20において導電性微粒子1をキャリアガスに浮遊させておき、このエアロゾルをノズル25から多層配線基板14に形成されたバイアホール50に向けて噴出させる。導電性微粒子1の直径を0.3〜10μmとすると、導電性微粒子1を毎秒600m程度で多層配線板14の導体層に衝突させると、衝突エネルギにより導電性微粒子1は多層配線板14の導体層に融着すので、多層配線板14の表面の導体層と内部の導体層を電気的に接続することができる。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20を配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、導電性ペースト26によってチップコンデンサ20の第1、第2電極21,22の表面が平滑になり、層間樹脂絶縁層40に非貫通孔43を穿設した際に、樹脂残さが残らず、バイアホール46を形成した際の電極21,22との接続信頼性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】低誘電特性,低誘電損失に優れ、かつ、充分な機械的強度を備えた多層回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁体層3と、上記絶縁体層3を保持する合金箔2と、複数の回路配線4とを備え、上記絶縁体層3と合金箔2とを貫通する電気導通路5を用いて回路配線4の各層が所定の位置で電気接続されている多層回路基板であって、上記絶縁体層3が多孔質の耐熱性材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減し、なおかつ、層間樹脂絶縁層の層数を削減したプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 両面に導体回路32を形成した第1、第2、第3樹脂基板30a、30b、30cを接着用樹脂層33a、33bを介して積層することによりコア基板30を形成し、該コア基板30内に、チップコンデンサ20を配設する。これにより、ループインダクタンスを低減し、なおかつ、層間樹脂絶縁層の層数を削減したプリント配線板を得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減したプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 第1、第2、第3樹脂基板30a、30b、30cを積層することによりコア基板30を形成し、該コア基板30内に、チップコンデンサ20を配設する。これにより、ループインダクタンスを低減することが可能となる。コア基板30の銅箔32の開口32aをコンフォーマルマスクとして、レーザで開口38を穿設するため、バイアホール50をチップコンデンサ20と適切に接続することができる。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20を配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20を収容するためプリント配線板を厚くすることがない。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20を配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20を収容するためプリント配線板を厚くすることがない。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20Aを配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20Aとの距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bを収容するためプリント配線板を厚くすることがない。コア基板30内にチップ抵抗20Bを収容するため、プリント配線板の高集積化を実現できる。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20Aを配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20Aとの距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20A、チップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するためプリント配線板を厚くすることがない。コア基板30内にチップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するため、プリント配線板の高集積化を実現できる。 (もっと読む)


【課題】 スルーホールの配設密度を高め得ると共に、厚みを薄くできる多層プリント配線板及び該多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 コア基板30に形成されたスルーホール36は、第1電解めっき層24と、無電解めっき膜26と、第2電解めっき層28とからなる。スルーホール36をめっき充填により形成するため、コア基板30の強度が高まり、反りが発生し難くなる。このため、コア基板を薄く形成でき、多層プリント配線板の放熱性を高めることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 コア基板を貫通して形成する導通部を高密度に形成することができ、放熱性、電気的特性に優れた多層配線基板を提供する。
【解決手段】 コア基板の両面または片面に配線パターン34、36が形成され、コア基板を貫通させて形成された導体部に前記配線パターンが電気的に接続された多層配線基板において、前記コア基板が、めっきにより形成されたビア柱26と導体コア部28とからなる導体部と、該ビア柱26と導体コア部28を電気的に絶縁する絶縁体部20とから成る。コア基板に配線パターンを形成した後、導体基板10を除去することによって多層配線基板が得られる。 (もっと読む)


【課題】 層間接続に用いるバイアホールの孔径をより小さく(約100μm以下)することにより、水平方向の高密度化を図り、且つ、電気的な接続信頼性の高い多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 第1の回路を形成した内層基板の回路表面に絶縁層を設け、該絶縁層の表面に第2の回路を形成し、前記第1の回路と第2の回路とをバイアホールにて接続した多層プリント配線板において、前記バイアホールの形状を、第1の回路側から第2の回路側へ移動するにつれて、バイアホールの孔径が大きくなるすり鉢形となし、且つ、バイアホールの壁面と第1の回路を形成した面との角度が45度以下となるようにする。 (もっと読む)


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