様々な処理装置に自由度高く対応できる汎用性に富んだ基板搬送システムを提供する。このため、トンネル１０１は、複数の処理装置１０２間を繋ぐようにレイアウトされている。また、トンネル１０１と処理装置１０２とは直接は接続されておらず、インタフェース装置１０３が介在している。すなわち、トンネル１０１はその下面においてインタフェース装置１０３と接続され、インタフェース装置１０３はその側面において処理装置１０２と接続されている。インタフェース装置１０３は、トンネル１０１の下方において、処理装置１０２の基板受け取り口に応じた高さに配置されている。
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【課題】この発明は、ゲートで仕切られたチャンバ間で搬送対象物を停止することなくスムーズに搬送できる搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】搬送装置３０は、開閉可能なゲートＧを介して隣接した２つのチャンバ３３、３４間で搬送対象物を受け渡し搬送する搬送機構４０を有する。搬送機構４０は、チャンバ３３、３４毎に設けられ、搬送対象物に固設されたラック３８に歯合するピニオン４１をそれぞれ有する。上流側のピニオン４１が回転して搬送対象物が搬送され、下流側のピニオン４１にラック３８の先端が歯合するとき、下流側のピニオン４１がレール４３に沿って傾斜した方向に退避可能となっている。 （もっと読む）

【課題】モジュラー（ｍｏｄｕｌａｒ）操作装置を備えるカセットストッカーを提供する。
【解決手段】複数の開口部１５を有するハウジング１０、開口部１５に対応して設置され、カセットを保管する少なくとも一つの操作装置２０、及びハウジング１０内に設置され、開口部１５を介して操作装置２０に保管されたカセットを取り出し搬送する搬送装置４０を有するカセットストッカー。操作装置２０は、ハウジング１０内に移動可能な状態で設置され、空気清浄器２５を有する。 （もっと読む）

電場が移動物体2の表面領域に相当する領域上に広がって発生するように電極31、31a、31bを配置することによって、大きい力及び大きい加速度を有する静電気移動装置が提供される。好ましくは、実際の移動を引き起す剪断力をさらに増加させるために、端部の区域の電極31aに対して、中央の区域の電極31bに対するよりも高い電圧が印加される。
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【課題】洗浄工程における工程待ち時間を少なくし、稼働効率を向上させる。
【解決手段】洗浄液１４を貯留する洗浄槽１３と基板洗浄用カセット２４とを有し、基板洗浄用カセット２４に収容されている基板１００を基板洗浄用カセット２４と共に洗浄槽１３に浸漬して洗浄処理を行うものにおいて、基板洗浄用カセット２４が基板１００を１枚のみ収容可能であると共に、基板洗浄用カセット２４は洗浄処理を行う前の処理工程で処理される１枚毎の上記基板に同期して洗浄槽１３に浸漬される。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
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【課題】メンテナンスが容易に行えるウエハローダ及び該ウエハローダによりウエハがロード・アンロードされる露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハローダ１０は、そのチャンバ１２の床略全面に主ベース２５を敷設し、この主ベース２５上に、副ベース２６を固定及び移動可能に配置している。この副ベース２６上には、直線運動機構、プリアライメントステージ及びアンロードスライダなどが搭載される。主ベース２５には、その表面側に所定の深さの２本の案内溝２７，２８が形成される。副ベース２６をチャンバ１２の外部に引き出す際、主ベース２５上で副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って移動させることにより、ロードロボットとアンロードロボットなどの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、円滑にチャンバ１２の外部に引き出すことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 マスクの交換時間を短縮させることができる露光システムを有する平板表示装置の製造システム及び製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも一つ以上のマスクが積載される第１マスクローディング／アンローディング装置と、前記マスクが安着するメインマスクステージと、前記第１マスクローディング／アンローディング装置に積載されたマスクを前記メインマスクステージに搬送する第１マスク搬送装置と、前記第１マスクローディング／アンローディング装置と所定間隔離隔して位置する第２マスクローディング／アンローディング装置と、前記第２マスクローディング／アンローディング装置に積載されたマスクを前記メインマスクステージに搬送する第２マスク搬送装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】 高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれも生ずることのない被処理体の搬送機構を提供する。
【解決手段】 薄い板状の被処理体Ｗを搬送するために比較的長い共通搬送エリア６内に設けられた搬送機構４０において、前記共通搬送エリアの長手方向に沿って設けられる案内レール４２と、前記案内レールに沿って移動可能になされた移動体４４Ａと、前記移動体に設けられて、前記被処理体の周縁部の下側角部に係合される断面Ｌ字状の係合段部８２，８４を有する複数の被処理体支持支柱８０とを備える。これにより、被処理体を上記係合段部により保持することにより、高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれが生ずることも防止する。 （もっと読む）

【課題】 基板ガラスの検査工程の時間短縮（タクトタイムの短縮）を図るとともに、確実な検査を行うことのできる基板ガラスの移送装置を提供する。
【解決手段】 移送装置１０は、ＰＤＰ用ガラスより幅広に位置する一対のサイドレール１６の内側に突出可能な支持ガイド２４を設け、支持ピン２６の突出にてＰＤＰ用ガラス１２の持ち上げを可能にするとともに、サイドレール１６を連桿とする四節機構１７を形成し、この四節機構１７における揺り腕１８には駆動手段を設け、当該駆動手段の稼働にて揺り腕１８、２０を揺動させ、サイドレール１６に保持されたＰＤＰ用ガラス１２を検査装置１４へ移送可能にした。このため素早い移送が可能となり、検査工程の時間短縮を図ることができる。またステージ３２が平坦になり、接触子３６によりＰＤＰ用ガラス１２がたわむのを防止でき、確実な検査を行うことができる。 （もっと読む）