【課題】フリーボールベアリングからチャンバ内への粉塵の飛散を防止することができ、しかも受け球を押さえ込んで主球の回転抵抗を増大させるための受け球押さえリングの移動抵抗を、グリスを使用しないノングリス方式にて低く抑えることができる技術の提供。
【解決手段】本体２０の球受け部２３の半球状凹面２１と主球４２との間に挿入して受け球４２を押さえ込むことで主球４２の回転抵抗を増大させるリング状の押さえ片５５を有する受け球押さえリング５０を内蔵するフリーボールベアリング１１０を台板８９ａに固定し、受け球押さえリング５０に固定されたロッド６２を移動して受け球押さえリング５０を待機位置から受け球押さえ位置に移動する押さえ用駆動装置７０が台板８９ａの裏面側に設けられているベアリングユニット、フリーボールベアリング１１０、支持テーブル、搬送設備、ターンテーブルを提供する。 （もっと読む）

【課題】ワークの浮上高さのバラツキを抑えた浮上ユニット及び浮上装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る浮上ユニットは、空気が吸引される負圧室を形成しているチャンバと、チャンバの天井壁６０に形成された横溝６４及び縦溝６２と、横溝６４の溝底を貫通する気体供給管５６と、天井壁６０を貫通し負圧室と連通するように配設された吸気孔７０と、天井壁６０に固定され吸気孔７０と連通する吸引孔を有する多孔質板と、を備えている。横溝６４には、天井壁６０の外周部６０Ｅに向けて延び出して閉じている横閉溝６４Ｓが配設されている。横閉溝６４Ｓの溝先端６４Ｔは他の溝には繋がっていない。本発明に係る浮上装置は、この浮上ユニットを並列に複数配置してなるものである。 （もっと読む）

【課題】大型の板状の搬送物を、局部的な応力集中や撓みが生じることなく、安全に搬送しうるようにした吊り下げ搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送経路に沿って走行する走行台車４に、搬送物支持部材１１を吊支し、この搬送物支持部材１１に板状の搬送物Ｗを載置して搬送するようにした吊り下げ搬送装置において、搬送物支持部材１１を、走行台車４に吊支されたフレーム１５と、このフレーム１５に取り付けられ、かつ搬送物Ｗを斜めに立て掛けて支持する側面支持部材１６、１７と、フレーム１５の下部に所要範囲に亘って上下動可能として装着され、かつ搬送物Ｗの下端を受支する複数の受け部材３０と、フレーム１５に設けられ、各受け部材３０を上方に向かって付勢する圧縮コイルばね３５とを備えるものとする。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム１には、ウェハ搬送装置４０の周囲に、第１〜第４のバッファ装置４１〜４４と第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４が配置されている。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保管するバッファ部を有している。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、バッファ部搬送機構によってレール４５上を第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４に対向する位置に移動可能になっている。第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４の各処理装置には、当該処理装置と第１〜第４のバッファ装置４１〜４４との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハの熱処理を一枚ずつ順次開始することができる提供する。
【解決手段】 半導体ウエハの熱処理装置は、管状の加熱炉と、その加熱炉内を伸びる複数の搬送シャフトと、複数の搬送シャフトをそれぞれ回転させるアクチュエータを備えている。管状の加熱炉は、半導体ウエハを搬入可能な搬入口から、半導体ウエハを搬出可能な搬出口まで伸びている。複数の搬送シャフトは、搬入口から加熱炉内を通って搬出口まで伸びているとともに、半導体ウエハの外周縁に当接可能な位置関係で配設されている。各々の搬送シャフトには、軸方向に沿って螺旋状に伸びるとともに、半導体ウエハの外周縁を受入可能な螺旋溝が形成されている。 （もっと読む）

【課題】板状部材を厚み方向に沿った線を中心として回動させる場合にもタクトを短縮できる板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１０は、上方に向かって複数の噴射口から気体を噴射することによりガラス基板１１を浮上させる浮上部材２１を有する浮上手段２０と、浮上手段２０によりガラス基板１１が浮上部材２１から浮上した状態でガラス基板１１を保持するとともに搬送方向に沿って下流側に向かってガラス基板１１を搬送する搬送手段３０とを備える。搬送手段３０は、搬送方向に沿って移動可能であるとともにガラス基板１１の厚み方向に沿った線を中心として軸回転可能な吸着パッド３４を有する。パッド３４は、ガラス基板１１の平面中央部に吸着する。 （もっと読む）

【課題】移送装置を提供する。
【解決手段】垂直軸線を形成するプロファイルと、プロファイルに隣接して設けられて被移送物を支持し、プロファイルの垂直軸線に沿ってプロファイルに対して相対的にアップ／ダウン移動するカーアセンブリーと、プロファイルとカーアセンブリーとのうち少なくとも何れか一つに設けられてカーアセンブリーのアップ／ダウン移動時、プロファイルに対するカーアセンブリーの移動経路を非接触式で案内する非接触式アップ／ダウン案内ユニットと、を含むことを特徴とする移送装置。本発明によれば、被移送物に対する高速移送が可能でありながらも、移送速度を安定的に維持及び制御し、かつ被移送物の移送過程中にパーティクルの発生を防止できるということはもとより、従来よりさらにノイズを減らせて、耐久性を向上させうる。 （もっと読む）

【課題】タクトの短縮化をより確実に実現可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する複数の塗布部とを備える塗布装置であって、前記基板搬送部は、基板搬送方向の一方の端部に前記基板を搬入する基板搬入領域を有し、前記基板搬送方向の他方の端部に前記基板を搬出する基板搬出領域を有し、複数の前記塗布部は、少なくとも隣接する２つの塗布部間の距離が前記基板の前記基板搬送方向の寸法よりも大きくなるように前記基板搬入領域と前記基板搬出領域との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】コンベアの移動中にコンベアから基板キャリアをアンロードすると共にコンベアに基板キャリアをロードする方法及び装置を提供する。
【解決手段】第１の態様において、基板キャリアを連続的に搬送するコンベアにより基板ロードステーションがサービスされる。基板ロードステーションの一部分である基板キャリアハンドラーは、コンベアの移動中にコンベアと基板キャリアを交換するように動作する。キャリア交換手順は、基板キャリアハンドラーのエンドエフェクターを、コンベアの速度に実質的に一致する速度で移動することを含む。多数の他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】ウエハ移動用無塵ケースの搬送方法とそのシステムを提供する。
【解決手段】検知システムは高架プラットフォーム上にウエハ移動用無塵ケースが有るか否かを検知すると共に、複数個の第１信号を形成して監視システムに送信し、前記監視システムは前記第１信号を判読して、そのうちの１つの搬送システムにウエハ移動用無塵ケースを空の高架プラットフォーム上に搬送するよう命令し、前記検知システムが高架プラットフォーム上にウエハ移動用無塵ケースが有るか否かを再度検知すると共に、複数個の第２信号を形成して前記監視システムに送信し、前記監視システムは前記第２信号を判読して、別の搬送システムにウエハ移動用無塵ケースを高架プラットフォームから搬送する様命令する。こうするとウエハ移動用無塵ケースの搬送速度を上げるのが比較的容易で、しかも製造コストを低減もする。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化に伴う基板処理装置の占有面積の増大を抑制することを課題とする。
【解決手段】基板処理装置を、基板保持具、内部に第一の方向に向いた第一のガイドレールを有するロードロックチャンバー並びに第二のガイドレールを有するベース部材及び前記ベース部材が移動可能に取り付けられている、前記ベースを貫く前記第一の方向とは異なる第二の方向に延在するガイドロッドを有する中間チャンバーを有し、前記ロードロックチャンバーの前記第一のガイドレールと前記ベース部材の前記第二のガイドレールが同一直線状になった状で前記基板保持具が前記第一の方向に第一方向移動手段で移動し、前記基板保持具が前記ベース部材に載置された状態で、第二方向移動手段で前記ベース部材が前記第二の方向に移動するという構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置の高さの低減、及び汚染物質等の進入の抑制を図る。
【解決手段】複数の基板Ｗが上下方向に並列的に収容される棚を有し、該棚の全段に相当する寸法の開口６ａがその一側面に形成された基板容器６が設置される容器台４２と、容器台４２を、上下方向の任意の位置で位置決め可能に移動する駆動装置４３と、容器６の棚の全段に相当する寸法よりも小さい範囲で上下方向に移動し、容器台４２との間に設けられた隔壁４４に形成される開口部４４ａと、開口部４４ａに対向する容器６の開口６ａとを介して基板容器６の棚に対する基板Ｗの搬出又は搬入を行う搬送アーム２０と、搬送アーム２０の上下方向の移動範囲に対して容器台４２の上下方向に位置を変更するように駆動装置４３を制御する制御装置と、容器台４２が位置を変更する際に、隔壁４４に形成される開口部４４ａが外部へ開放されることを防止する防止手段４７とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】シート状の基材を貼付された基板から基材を剥離する作業を効率よく行う。
【解決手段】基板から剥離され巻き取りローラ２２０に巻き取られたシートフィルムＦの巻き始め側端部Ｆsをシート剥がし爪５１２により引き出して把持し（図１４（ａ））、シート剥がし機構５１０を下方に移動させる（同図（ｂ））。最下端まで移動してくると従動ローラ５２２を配したシートガイド５２１を下降させて搬送ローラ５３１とのニップ部でシート端をクランプし、搬送ローラ５３１の回転により搬送経路Ｐに沿って回収ボックス６００まで搬送する（同図（ｃ））。 （もっと読む）

【課題】搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供する。
【解決手段】搬送装置１２は、被搬送物２８の搬送方向Ｘに延びる主面１６ａを有するベース１６と、搬送方向Ｘに延びるガイド部材１８と、ガイド部材１８にガイドされて搬送方向Ｘに移動可能な移動部材２０と、移動部材２０に固定され主面１６ａから間隙を於いて被搬送物２８を保持する保持部材２４と、ベース１６上の搬送方向Ｘにおける一部領域において、搬送方向Ｘに搬送される被搬送物２８に対し気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来のロードロックチャンバーはゲートバルブを介して各プロセスチャンバーに接続されていたので、費用が高く、スペースも大きくなってしまうという欠点があった。
【解決手段】本発明のロードロックチャンバーは、筒状シリンダーと、上記筒状シリンダー内に軸方向に気密に移動自在に設けた、軸方向に互いに分離した一方及び他方のピストンと、上記一方及び他方のピストンをそれぞれ個別に移動せしめる移動手段と、上記筒状シリンダーの側壁に設けた、上記一方のピストンにより開閉される基板挿入口と、上記一方及び他方のピストンにより開閉される排気口と、及び上記他方のピストンにより気密に開閉される基板搬出口とよりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】搬送システムをより効率的に利用することができる搬送制御方法およびこの搬送制御方法を実施する搬送制御装置を提供する。
【解決手段】中継定義テーブルを記憶した中継経路定義領域１１ｂと、特定搬送装置の情報を記憶した搬送装置情報記憶領域１１ｃと、各搬送物の搬送元情報と搬送先情報と現在位置情報とを記憶した搬送物位置情報領域１１ａと、中継定義テーブルと現在位置情報と搬送先情報とに基づいて次に搬送物を保持する装置を決定するステップと、次に搬送物を保持する装置が特定搬送装置であるか否かを判断するステップと、特定搬送装置である場合に、特定搬送装置の情報と搬送先情報と中継定義テーブルとに基づいて次の次に搬送物を保持する装置を決定するステップと、現在搬送物を保持している装置から最短時間で搬送物を受け取る特定搬送装置を次に搬送物を保持する装置に変更するステップとを実施する搬送経路決定部１４とを備えている。 （もっと読む）

薄い弱衝撃性の結晶板、特にガラス板（１１）を、汚すことなく、正確に定義された水平配向及び、定義された垂直位置に運搬するための方法及び装置が開示される。ガラス板（９）が、産業ロボットを使うことなく、また、人によって汚染されることなく位置決めされ、運搬されて、さらなる過程のために正しい位置に送られる。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイなどに使われる基板の欠陥検査装置などで、上下変動無く安定して搬送を行うための搬送機構における基板把持機構に関するものである。
【解決手段】基板搬送部に設置され基板を浮上させる基板浮上機構と、基板を把持する把持手段と、把持手段を移動させる把持搬送手段を備えた基板搬送装置において、把持手段は、基板端部を基板挟み部により挟み込む上ブロックおよび下ブロックと、上ブロックおよび下ブロックを支えかつ移動軸をそろえるための支柱と、上ブロックと下ブロックの基板挟み部の外側に配置されるチャック開閉チューブと、チャック開閉チューブ内部に流体を給排する流体給排手段と、上ブロックと下ブロックの間に配置される反発ばねと、上ブロックおよび下ブロックを支える支え梁および支えばねとを備え、少なくとも１以上の把持手段を往復運動させる把持搬送手段を備えた基板搬送装置用把持機構。 （もっと読む）

【課題】１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理するロードロック室、移送室及び１以上の処理室を含むウェハ処理用装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室と、搬送室と、前記搬送室に接続された互いに空間的に隔離される複数の処理領域を各々に形成する１つ以上の処理室と、前記搬送室内に配置された第１ウェハ・ハンドリング部材を含むウェハ処理装置を提供する。処理室は、少なくとも２つの処理領域で複数の分離されたプロセスを同時に行なうことができるように構成し、共有ガス源、共有排気システム、別個のガス分配アセンブリ、別個のＲＦ電源、および別個の温度制御システムによってもたらされる高度な処理制御により、１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】生産性を向上させることができると共に処理工程の変更に容易に対応できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１１は、大気と異なる雰囲気に調整された複数のチャンバ１５と、複数のチャンバ１５に被処理基板１２の搬送を行う基板搬送室１４とを有する。基板搬送室１４は、凸状の搬送ガイド２５に沿って凹状の搬送基台２４が摺動するようになっている。搬送基台２４には、各チャンバ１５に被処理基板１２を搬送する大気と異なる雰囲気に調整された搬送チャンバ２３が載置されている。各チャンバ１５のそれぞれは、チャンバ１５を構成する１つの辺部２０と基板搬送室１４とがゲートバルブ２１，２６を介して連通可能に接続されている。 （もっと読む）