【課題】所定の異なる処理が互いに他方の雰囲気の影響を受けることが十分に防止された基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置は、水平方向に延びる隔壁２００で分離された２つの処理空間Ａ，Ｂを備える。すなわち、処理空間Ａ，Ｂは上下方向に積層されている。処理空間Ａには、複数のユニットＳＣ，ＣＰ，ＨＰ，ＡＨが水平方向に並設される。処理空間Ｂには、複数のユニットＳＤ，ＣＰ，ＨＰ，ＰＥＢが水平方向に並設される。処理空間Ａおよび処理空間Ｂには、それぞれ搬送ユニットが配置される。処理空間Ａと処理空間Ｂとにわたる受け渡し室ＳＨが上下方向に配置されている。受け渡し室ＳＨ内には、受け渡しユニットが上下方向に移動可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】所定の異なる処理が互いに他方の雰囲気の影響を受けることが十分に防止された基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置は、鉛直方向に延びる隔壁２００で仕切られた２つの処理空間Ａ，Ｂを有する。各処理空間Ａ，Ｂは複数の階層を含む。処理空間Ａには露光前の処理を行う複数の処理ユニットが配置される。処理空間Ｂには露光後の処理を行う複数の処理ユニットが配置される。処理空間Ａには搬送ユニット１１が配置され、処理空間Ｂには搬送ユニット２１が配置される。受け渡し室ＳＨが処理空間Ａと処理空間Ｂとにわたって配置されている。受け渡し室ＳＨ内には処理空間Ａの搬送ユニット１１との間および処理空間Ｂの搬送ユニット２１との間で基板の受け渡しを行う受け渡しユニット３１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】改善されたカセットつまりキャリヤおよび設備連結装置を提供する。
【解決手段】キャリア２００は筐体２１０と、キャビネット２３０と、少なくとも１つの基板保持体２７０と、を備える。キャビネット２３０はキャリヤ２００に接続される。キャビネット２３０は少なくとも１つのバルブ２４０、２５０、２６３を備え、少なくとも１つの還元流体２３５を包含する。基板保持体２７０は少なくとも１つの基板２８０を保持するように筐体２１０内に設けられる。 （もっと読む）

【課題】高い清浄度を長期にわたって維持することができる半導体ウェハの保管方法及び半導体ウェハ用保管具を提供する。
【解決手段】先ず、保管具に複数の半導体ウェハ１１を挿入し固定する。次に、氷点下で、水分を含有する冷気中に保管具を置く。この結果、保管具の周囲に存在するミスト１０（霧）が半導体ウェハ１１の全面に付着すると共に、半導体ウェハ１１の温度は氷点下になっているので、そこで氷結する。つまり、半導体ウェハ１１の全面に氷結層が形成される。そして、この状態で、周囲の温度を氷点下に維持することにより、半導体ウェハ１１の温度を氷点下に維持する。 （もっと読む）

【課題】チャンバに形成された開口部を内カバーによって確実に密閉できるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】内部に搬入された基板を処理するためのチャンバ５と、チャンバの一側面に形成された開口部６を開閉する内カバー１５と、内カバーの内面の周辺部に設けられ内カバーを閉じたときにチャンバの一側面の開口部の周辺部に接触するシール材２４と、チャンバの一側面の開口部の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ内カバーを閉じたときに内カバーの周辺部の複数箇所を押圧保持してシール材をチャンバの一側面に圧接させるとともに内カバーを押圧する押圧力の調整が可能な複数のクランパ２７を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面に付着しているパーティクルを簡易にかつ確実、迅速に除去すること。
【解決手段】粘着部を上に向けて粘着シートを支持台に載置し、その上に基板を載置した後、基板の裏面側の気圧を表面側の気圧より低くすることで、粘着シートと基板とを密着させ、次いでその気圧差を解除し、支持台及び粘着シートに各々形成された孔を介して、支持台の下方側から昇降ピンによって基板を持ち上げ粘着シートから剥離している。このことによって、基板裏面のパーティクルを迅速且つ確実に、簡単に除去することができる。また、露光ステージに対応した突起を備えた支持台を用いることにより、基板を露光ステージに載置したときに露光に悪影響を及ぼすパーティクルを除去することができ、良好なパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造により、直接、温調可能な基板保持装置、それを備えた露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する板状部材１を有する基板保持装置ＷＨであって、板状部材１の少なくとも一部に温度調整のための流体Ａが流通する流体流通層１０を備える。流体流通層１０は、多孔体からなる。流体Ａは、板状部材１が配置された空間９０に供給された温調気体である。
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【課題】 ステージの位置を計測するためのレーザ干渉計の光路上における空気の揺らぎを抑えて、ステージの位置を高精度に計測する。
【解決手段】 ステージを駆動するための平面モータの固定子に排気手段を設け、送風手段より吹き出される温調空気を効率的に回収する。吹き出された温調空気が固定子表面にぶつかって上空に巻き上がるのを防ぐとともに、固定子の発熱により熱せられた空気が光路上に上昇することを抑えて、光路上の揺らぎを少なくする。 （もっと読む）

【課題】基板保持手段に載置された基板の位置ずれ状態を検出し、歩留まり低下を抑制することのできる基板処理装置及び基板処理方法を得る。また、所定量以上の位置ずれが生じた場合にも基板がモジュールの壁面等に衝突することのない基板処理装置及び基板処理方法を得る。
【解決手段】複数のモジュール間または前記モジュール内において基板を枚葉式に搬送する基板搬送手段と、その動作制御を行う制御手段７０とを具備する基板処理装置であって、前記基板搬送手段は、前記基板が正しい位置に載置された際に該基板と重なるように基板保持手段５２の複数個所に設けられ、基準電位に対する静電容量がそれぞれ検出される複数のセンサＳ１〜Ｓ３とを備え、前記制御手段７０は、前記複数のセンサＳ１〜Ｓ３からの検出結果に基づき前記基板の位置ずれ状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】耐食性と機械的強度に優れたイットリア焼結体を提供する。
【解決手段】イットリア焼結体は、イットリアを主成分とし、窒化珪素を５〜４０体積％含む。 （もっと読む）

【課題】レジストを基板に塗布し、液浸露光後の基板を現像するにあたって、パーティクル汚染を抑えることのできる塗布、現像装置を提供する。
【解決手段】レジストを塗布する塗布ユニット及び現像液を供給して現像する現像ユニットを備えた処理ブロックＢ２と、液浸露光を行う露光装置Ｂ４とに接続されるインターフェイス部Ｂ３と、を備えた塗布、現像装置において、前記インターフェイス部Ｂ３に基板洗浄ユニット６と、第１の搬送機構と、第２の搬送機構とを備えた構成とする。露光後の基板を第１の搬送機構により基板洗浄ユニットに搬送して、当該洗浄ユニットにより洗浄された基板は第２の搬送機構を介して搬送されるため新たなパーティクルの付着が抑えられることで、処理ブロックＢ２の各処理ユニット及び当該各処理ユニットで処理される基板にパーティクル汚染が広がることを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】可及的に加熱立ち上がり時間を短くでき、或いは加熱処理時間を短縮できるウオーキングビーム式熱処理装置を提供する。
【解決手段】ウオーキングビーム式熱処理装置１０によれば、固定ビーム２０および可動ビーム２２は、透明な石英管から構成されたものであることから、その透明な石英管を通してハロゲンヒータ（加熱体）７８からの輻射エネルギが基板の裏面へ到達できるので、従来のウオーキングビーム式熱処理装置に比較して、均一に急速加熱することが容易となり、立ち上がり時間或いは加熱処理時間が短縮される。この結果、熱処理が基板の特性に影響を与えることが可及的に少なくされる。 （もっと読む）

焼成プレートの表面にサポートされた基板を加熱するように構成された焼成プレートと、冷却プレートの表面にサポートされた基板を冷却するように構成された冷却プレートと、該焼成プレートから該冷却プレートに基板を移送するように構成された基板移送シャトルとを備えており、該基板移送シャトルが、該焼成プレートによって加熱された基板を冷却可能な温度コントロール基板保持表面を有している集積熱ユニット。 （もっと読む）

【課題】この発明は、ゴミが付着しないように処理対象物を移動できる搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 処理対象物を収容するカセットと、このカセットと密着して固定され、かつ取り外しができる扉と、カセットの底辺に設けられ搬送ローラを備える搬送装置により、ゴミが付かないように、収容されている処理対象物を搬送できる。 （もっと読む）

【課題】貼合せ基板の製造不良を低減することのできる貼り合せ基板製造システムを提供する。
【解決手段】チャンバ７１内が大気圧下では基板Ｗ１，Ｗ２を上平板７２ａ及び下平板７２ｂにて真空吸着にてそれぞれ吸着保持し、チャンバ７１内が減圧下では各平板７２ａ，７２ｂに電圧を印加して静電吸着にてそれぞれを吸着保持する。そして、大気圧下から減圧下への切替時に基板Ｗ１，Ｗ２を吸着保持するための背圧をチャンバ７１内の圧力と等圧にする。これにより、基板Ｗ１，Ｗ２の落下，移動を防ぎ、基板Ｗ１，Ｗ２の貼合せ不良を低減する。 （もっと読む）