【課題】複数の露光装置間の露光特性をより高精度に合わせる。
【解決手段】露光装置の露光条件の調整方法は、互いに異なる複数の露光条件のもとで複数のパターンの像の線幅の実測値と計算値との第１の比率を複数回求めるステップ１０６，１１４と、複数の第１の比率に基づいて第２の比率を求めるステップ１２０と、複数のパターンの像の線幅の計算値を第２の比率で補正した値を用いて露光装置の比較対象の露光特性を予測するステップ１２２と、比較対象の露光特性と目標となる露光特性との比較により調整用の条件を求めるステップ１２４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】計算精度を実質的に低下させることなく、かつ計算時間を短縮して光学性能のシミュレーションを行うことができるようにする。
【解決手段】照明瞳面からの光でレチクルＲ１のパターン４４を照明する照明光学系を含む光学系の光学性能のシミュレーション方法であって、パターン４４の三次元構造を設定し、照明瞳面に二次元的に分布する複数の点光源を配置し、その複数の点光源のそれぞれからの光がその照明光学系及びその三次元構造のパターン４４を通過した後の複素振幅分布IN1R,IN1I を計算し、計算された複素振幅分布をその複数の点光源に対応させて記録したデータベースを作成する。 （もっと読む）

【課題】現実の光ファイバの劣化に即して交換寿命を報知し、経済性と安定作動の確保とを両立可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】本発明の態様は、ファイバ光増幅器２２３を有するレーザ光出力部と、波長変換光学素子３４を有する波長変換部とを備えたレーザ装置である。レーザ装置ＬＳは、ファイバ光増幅器２２３の励起光のパワーを検出して第１検出信号Ｐａを出力する励起光検出器６１と、波長変換光学素子に入射させるべき偏光方向の光の強度等を検出して第２検出信号Ｐｂを出力するｓ偏光検出器６２と、ファイバ光増幅器２２３の作動状態を判断するＦＡ判断部６８とを備える。ＦＡ判断部６８は、第１検出信号Ｐａの変化量に対する第２検出信号Ｐｂの変化量（ｄＰｂ）／（ｄＰａ）が寿命基準値以下になったときに、寿命判定信号を出力するように構成される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 短時間で適切な照明設計を行う。
【解決手段】 露光条件決定プログラムは、照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、前記第一〜第四ステップを、計算条件パラメータを変更して複数回実行して複数の第２照明形状を求め、前記複数の第２照明形状のいずれか１つを前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、をコンピュータに実行させる。 （もっと読む）

【課題】電気的に重要な箇所の寸法精度を向上し、性能・歩留まり向上、チップコスト低減の効果を得る。
【解決手段】半導体装置の製造プロセス最適化手法は、回路設計データから作成されたフォトマスクを用いて露光プロセスにより回路設計データに基づいたパターンを基板上に形成する。この最適化手法は、フォトマスクを用いて第１露光条件で第１露光装置にて基板上に形成されるパターンと、フォトマスクを用いて第２露光条件で第２露光装置にて基板上に形成されるパターンとの、予め定めた複数の箇所における差分の分布に基づく統計量を算出する際に、回路設計データより抽出した電気的特性情報に基づいて差分に重み付けをした上で統計量を算出する工程と、第２露光条件を変化させて算出する工程を繰り返し、変化させた第２露光条件の中で合計が最小或いは所定の基準値以下となる露光条件を第２露光装置の最適露光条件２１として選定する工程(Ｓ２７)とを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の目的関数に対して、被決定量を効率的に決定する。
【解決手段】照明光学系の瞳面を分割した複数の領域における光強度に対して線形関係である第１目的関数と瞳面の各領域における光強度に対して線形関係でない第２目的関数とに基づいて、瞳面に形成されるべき光強度分布を決定する。瞳面の複数の領域のうち１つの領域における光強度の値が単位量であり、他のすべての領域における光強度の値がゼロであるとしたときの像面での光強度を瞳面の各領域について算出する第１ステップと、算出された光強度を用いて第１目的関数の値および第２目的関数の値を各領域について算出する第２ステップと、第２目的関数の値が閾値未満の領域の光強度の値を第１目的関数の値の大きさにかかわらず予め定められた一定の値に設定する第３ステップと、第２目的関数の値が閾値以上の領域の光強度の値を第１目的関数の値の大きさに応じて設定する第４ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 反射させた光による悪影響を発生させることなく特定の波長の光を選択的に透過させるフィルタを提供する。
【解決手段】 第１波長を有する第１の光を反射し、前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光を透過させるフィルタであって、第１方向に沿って間隙をおいて平行に配置された複数の板状部材を含み、前記複数の板状部材のそれぞれの端面によって形成される包絡面は平面をなし、前記平面は前記第１方向と非平行である。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。マスク１２と露光対象部材２との間の露光光の光路上には、露光対象部材２における露光光の照射領域の大きさを調節可能なズームレンズ１６が設けられている。露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３、偏光変換素子１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】チャックと、光ビームを供給する照明光学系２０ｃ、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器２５、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路２７、及び空間的光変調器２５により変調された光ビームを照射する照射光学系２０ｂを有する複数の光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する。各光ビーム照射装置の空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器へ供給する光ビームの入射角度を調節する。 （もっと読む）

【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 より少ない計測(2回以上の走査方向ステップ駆動による計測)から照度分布を推定し、照度ムラセンサーの位置ずれを算出することを特徴とする露光装置を提供すること。
【解決手段】 スリット照明領域と該露光面における照度分布を測定するために、該露光面に照度ムラセンサーの受光面を一致させて該露光面に沿って移動できる照度ムラセンサーを有し、円弧状スリット内の少なくとも2点以上の位置で該露光面を走査方向にステップ移動し、その走査方向の照度分布を測定できる露光装置において、少なくとも2点以上の多点ステップの照度分布を測定し、照度分布を最小二乗法により多項式に近似し、それぞれの照度分布の頂点座標から求まるY差(走査方向の差)から照度ムラセンサーのX方向(走査直交方向)に対するずれを検出する。 （もっと読む）

【課題】感光媒体上に形成される光像にスペックルが目立たないようにし、かつ被照明領域内の明るさのムラの発生を効果的に抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、光学素子５０と、照射装置６０と、空間光変調器３０とを備える。走査デバイス６５を用いて、コヒーレント光をホログラム記録媒体５５上で走査させ、ホログラム記録媒体５５から照射されたコヒーレント光を被照明領域ＬＺと重なり合う空間光変調器３０に入射する。また、空間光変調器３０に近接して感光媒体１５を配置するため、きわめて簡易な構成で、感光媒体１５上にスペックルを目立たせずにコヒーレント光を導光できる。 （もっと読む）

【課題】光源から出る多波長光のうち、所望の波長の光を容易に選択することができるようにした露光波長調節装置及びそれを利用した露光機を提供する。
【解決手段】本発明による露光波長調節装置は、光源から出射される多波長の光の入力を受け、分離屈折させて多数の波長を出力する分離屈折部；前記分離屈折部で分離屈折されて入射される多数の波長の光経路を変化させるミラー；及び前記ミラーで反射される多数の波長の光の一部を通過させる部分光通過部を含む。 （もっと読む）

【課題】露光領域の拡大を容易になし得るようにする。
【解決手段】電気光学結晶材料からなる角柱状の部材の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けて形成したスイッチング素子９と、該スイッチング素子９の長軸方向の両端面側に該スイッチング素子９を間にしてクロスニコルに配置された一対の偏光板１２Ａ，１２Ｂとで構成した複数の光スイッチ１１を被露光体６の面に平行な面内に配置して有するパターンジェネレータ３を備え、複数の光スイッチ１１を個別に駆動して一定の明暗模様の露光パターンを生成し、これを被露光体６に照射して露光する露光装置であって、パターンジェネレータ３の光射出面側に各スイッチング素子９の長手中心軸に光軸を合致させて設けられ、スイッチング素子９の光射出端面９ａの像を被露光体６上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１７を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】正確な照明パターンを迅速に形成する。
【解決手段】光源から入射した光源光を個別に設定された反射角度で反射してそれぞれが反射光を射出する複数の反射鏡を有する空間光変調器と、複数の反射鏡の各々に設定する反射角度を算出する算出部と算出部が算出した反射角度を複数の反射鏡のそれぞれに設定する駆動部とを備えた照明装置であり、算出部は、反射光により被照射面に照明パターンを形成すべく複数の反射鏡の一部に設定する反射角度と、照明パターンの形成に寄与しない不要反射光を射出する複数の反射鏡の他の一部について、不要反射光が被照射面に照明パターンの背景を形成する反射角度とを算出する。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の波長を有した露光光を容易に評価する露光量評価方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、フォトマスクが、露光光のうちＥＵＶ光よりも長い波長を有した長波長光を反射し且つ前記ＥＵＶ光を吸収する長波長光反射膜を有している。また、フォトマスクは、前記長波長光反射膜の上層側に配置されるとともに前記ＥＵＶ光および前記長波長光を吸収する吸収膜を用いて形成されたマスクパターンを有している。そして、フォトマスクと、レジストが塗布された露光対象の基板と、をＥＵＶ露光装置内にセットする。前記フォトマスクに対し前記マスクパターン側から前記露光光を照射するとともに、前記フォトマスクで反射された露光光を前記基板に照射する。そして、前記基板に照射された露光光の露光量に基づいて、前記基板に照射された長波長光の光量分布を測定する。 （もっと読む）