【課題】光学機器の計測精度を向上するとともに、光学機器における光路を囲繞するカバー内を、迅速に温度調整し温度の安定化を行う。
【解決手段】光路４を備えた光学機器Ｆが収容されるブースＫと、光路４を囲繞するカバー３と、ブースＫ内でカバー３外のブース内温度を検出するブース内温度検出手段２と、カバー３内のカバー内温度を検出するカバー内温度検出手段５と、ブースＫ内に温調空気Ｐを通流させ温調空気Ｐの温度を調整可能な第１温度調整手段と、ブース内温度を制御対象温度として制御対象温度が設定温度になるように第１温度調整手段の運転を制御する制御手段Ｅｂとを備えた温度調整システムＤにて、制御手段Ｅｂが、カバー内温度の設定温度に対する温度差が所定の基準値以上となる状態を温度乖離状態として判定し、温度乖離状態では制御対象温度をブース内温度からカバー内温度に切り替えるように構成される。 （もっと読む）

【課題】地震などの振動による被害を抑えること。
【解決手段】物体が載置されるペデスタルと、当該ペデスタルの複数位置に点接触するように設けられ、当該点接触によりペデスタルとの間に発生する静止摩擦力及び動摩擦力によってペデスタルの移動を抑制する移動抑制部とを備える。 （もっと読む）

【課題】外部からの輻射熱による筐体の温度変化を抑制する光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】内部にミラーが支持された鏡筒２７を、当該鏡筒２７の外表面２７ｂにおける光の反射率よりも高い反射率の外表面３５ｂを有するカバー３５で内包する。これにより、カバー３５の外部からの輻射熱が当該カバー３５の外表面３５ｂによって反射されやすくなる。また、カバー３５の内表面３５ａと鏡筒２７の外表面２７ｂとの間に設けられて鏡筒２７との間で輻射伝熱によって熱交換する熱交換部４１〜４６を鏡筒２７を取り囲むように設ける。そして、鏡筒２７の温度を検出する温度センサ５１〜５６からの検出信号に基づいて、熱交換部４１〜４６を制御して鏡筒２７の温度を調節する。 （もっと読む）

【課題】露光装置のチャンバに使用可能な断熱性の高い断熱材及びチャンバ材を提供する。
【解決手段】露光装置のチャンバの一部に設置可能な断熱シート２２であって、それぞれ空気よりも熱伝導率の小さい気体が封入された複数の可撓性を持つ小胞２６を連結してなる断熱用の中間層２３と、中間層２３の一方の面に複数の小胞２６の間の気体層２８を隔てて被着された可撓性を持つ第１の外装フィルム２７と、中間層２３の他方の面に複数の小胞２６の間の気体層３０を隔てて被着された第２の外装フィルム２９とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理室内部の雰囲気が外部に漏洩することを確実に防止することができるとともに、処理室内のメンテナンスを外部から容易に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。フレームには開口部２１ｚを開閉可能にメンテナンス用扉Ｄが設けられる。開口部２１ｚを取り囲むように、フレームに溝付きトリム５０１が設けられる。溝付きトリム５０１は、開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態でメンテナンス用扉Ｄに接触することによりメンテナンス用扉Ｄに対向する溝５０１ｇを有する。開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態で、溝付きトリム５０１の溝５０１ｇとメンテナンス用扉Ｄとにより形成された空間の雰囲気が吸引ユニットにより吸引される。溝５０１ｇの内側の空間が外部に対して陰圧に保たれる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス処理や交換処理等で投影光学系等の光学部材を円滑に搬送する。
【解決手段】基板上に所定のパターン像を形成する光学部材と、光学部材を支持する構造体ＣＬとを有する。構造体は、第１方向Ｚに関して光学部材の重心位置よりも高い位置で光学部材を支持する支持部４１を有する。支持部は、第１方向と交差する第２方向Ｘにそれぞれ延在し、第１方向および第２方向と交差する第３方向Ｙに関して光学部材が収容される空間４３を隔てて両側に分離して配置されるとともに、空間は第２方向に関する少なくとも一方の側が開口している。 （もっと読む）

【課題】マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】バッファ液浸装置のための環境制御手段を提供する。
【解決手段】液体を含む液浸流体が外部環境から提供され、液浸リソグラフィ装置の環境チャンバを隔離するシステムが開示される。さらに、音響信号を送信及び／又は受信するトランスデューサを使用して、気体の流量及び／又は蒸気濃度を測定するシステムが開示される。 （もっと読む）

【課題】 被空調部に対応して恒温空気供給装置の小型化を実現するとともに、被空調部と送風部における吐出口部間の距離が短い場合でも被空調部に供給する恒温空気に対する温度分布の十分な均一化を図る。
【解決手段】 被空調部Ｍに対面するべース部５の面５ｆ上における対称位置Ｘｐ，Ｘｑに、送風部３ｐ，３ｑの吐出口部３ｐｏ，３ｑｏから吐出した恒温空気Ａｃ…を整流する空気整流室Ｃｐ，Ｃｑを形成する一対のボックス部６ｐ，６ｑを設け、かつべース部５上における対称位置Ｘｐ，Ｘｑに、一対の恒温空気供給部Ｕｐ，Ｕｑを配設するとともに、送風部３ｐ，３ｑの吐出口部３ｐｏ，３ｑｏを、ボックス部６ｐ，６ｑの外面部６ｐｆ，６ｑｆに取付けることにより空気整流室Ｃｐ，Ｃｑに連通させ、かつボックス部６ｐ，６ｑを付設したべース部５に、被空調部Ｍに供給する恒温空気Ａｃ…の排出口部７ｐ，７ｑを設ける。 （もっと読む）

【課題】 生産面積効率が高いクリーンルームを構成するフォトリソグラフィー工程設備を実現する。
【解決手段】 フォトリソグラフィー工程設備２０では、フォトリソグラフィー装置１２は、観察窓１５を備えた筐体１４の内部に収容されており、観察窓１５は、少なくとも感光材を感光させる波長の光を遮断するように形成されているため、筐体１４外部で白色光による照明を行っても、観察窓１５が感光材を感光させる波長の光を透過しないので、フォトリソグラフィー装置１２において用いられる感光材の感光を防止することができる。これにより、照明装置として白色光による白色照明１７を使用することができるため、フォトリソグラフィー工程設備２０のための部屋を設ける必要がないので、生産面積効率を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】物品を処理する処理ユニットを含む処理装置における処理のスループットを向上させる。
【解決手段】処理装置１００は、物品を処理する処理ユニット２０を含む。処理装置は、外部装置２００と処理ユニット２０との間に配置された支持部と処理ユニットとの間で物品を搬送する第１搬送ユニット１４と、状態信号及び停止命令信号を出力する制御部２１とを備える。前記状態信号は、処理装置１００が特定状態になったことを示す信号であり、処理装置１００が前記特定状態になる前に出力される。外部装置２００は、物品をハンド１５ａで保持して搬送する第２搬送ユニット１５を備え、ハンド１５ａを支持部に接近させる動作を伴う搬送処理を前記状態信号に応答して開始する。前記停止命令信号は、外部装置２００に対してハンド１５ａの停止を命令する信号である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、真空露光装置、真空検査装置等に使用されるゲートバルブおよびゲートバルブを備えた露光装置に関し、弁体の開閉に伴う振動の発生を低減することを目的とする。
【解決手段】 バルブ本体の開口部を弁体の移動により開閉するゲートバルブにおいて、前記弁体の移動を案内する静圧軸受を有していることを特徴とする。また、前記静圧軸受を、前記バルブ本体に配置してなることを特徴とする。さらに、前記開口部の閉時に前記開口部を遮蔽する差動排気シールを有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、露光装置を支持する露光装置の支持構造および露光装置に関し、装置本体の振動を効果的に低減することを目的とする。
【解決手段】 露光用機器が配置される装置本体を、建屋基礎上に本体用ペデスタルを介して支持し、振動源となる補助機器を、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立した支持手段を介して支持してなることを特徴とする。また、前記露光用機器には、レチクルステージ、投影光学系およびウエハステージが含まれることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】投影光学系を支持する支持体の変形による計測誤差を低減する。
【解決手段】露光装置１００は、レチクル１０２とウエハ１１６とを位置合わせして投影光学系１０６を介してレチクル１０２のパターンをウエハ１１６に投影してウエハ１１６を露光する。露光装置１００は、位置合わせのための計測を行う計測システム１０４、１１５と、計測システム１０４、１１５を支持する計測定盤１１１と、投影光学系１０６を支持する鏡筒定盤１０８とを備える。計測定盤１１１と鏡筒定盤１０８とは、分離されている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する。露光装置は、液体のにおいを検出する検出装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】所定間隔を置いて精密加工が施される複数枚の板状の各ワークに対して同時に且つ容易に温度調整を施すことのできる板状ワークの温度調整装置を提供する。
【解決手段】精密加工が施される複数枚のガラス板を所定間隔を介して平行に積層して積層体を形成する棚体１０と、ガラス板の各々の両面に沿って空気流が平行流として流れるように、前記積層体の一端側の全面に亘って前記空気流を供給するフィルタ２２によって一壁面が形成されるチャンバー２４と、チャンバー２４に温度調整手段によって所定温度に調整された空気を送風する送風機２６とが設けられ、送風機２６を駆動する電動モータの回転数を、フィルタ２２から所定範囲の流速の空気流が供給されるように、チャンバー２４の圧力を制御するインバータ制御部４８が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】温度調節付きロード・ロック、ロード・ロックを備えたリソグラフィ装置、およびロード・ロックを用いて基板を製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板Ｗなどの物体をリソグラフィ装置の中へ移送し、リソグラフィ装置から移送するように配置されたリソグラフィ装置用ロード・ロック。物体Ｗが前記ロード・ロックの中にあるときに物体Ｗを支持する支持ユニット３３；１４１を収容するロード・ロック容積の少なくとも一部分を画定するロード・ロック外壁３８；４０。ロード・ロックはさらに、少なくともロード・ロックからリソグラフィ投影装置に向けて物体を移送する前に物体の温度を所望の温度に制御する温度調節付き構造を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体液晶露光装置から発生する熱を利用したクリーンルーム（５０）の温調システムを提供する。
【解決手段】本発明の温調システムは、気体冷却部（３２）と、気体加熱部（６０）と、略密閉された作業空間（５６）を含む気体循環路を有し、気体冷却部（３２）及び気体加熱部（６０又は６１）を経て所定温度に温調された第一気体（Ａ１）を作業空間に供給し、且つ第一気体（Ａ１）を回収する。そして、作業空間（５６）に配置された発熱体（１０１）と、発熱体からの排熱（Ａ２）を気体加熱部に導く排熱導管（５１）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】温度変化に起因するミラー部材の変形による収差変動を低減する技術の実現。
【解決手段】原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、前記原版を照明する照明光を照射する照明光学系と、照明光により照明された前記パターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記照明光学系及び前記投影光学系の少なくともいずれかを収容する真空容器と、を備え、前記照明光学系及び前記投影光学系の少なくともいずれかの温度変化を抑制するために、前記真空容器内で発生する熱及び外部から前記真空容器内に入り込む熱を吸収する吸熱手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】 複雑な空間であっても容易に配置可能であると共に、均一なダウンフローの気体を供給可能な気体供給装置等を提案する。
【解決手段】 所定の空間４６に気体Ａを供給する気体供給装置１００であって、気体供給源と、柔軟性及び気密性を有する膜体１０３と気体Ａが通過する複数の通気孔１０５を有する多孔体１０４とを含んで形成された気体室１０２と、を備え、気体供給源から気体室１０２内に導入された気体Ａを、多孔体１０４から通気孔１０５を介して所定の空間４６に供給する。
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