【課題】エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造期間および製造コストを抑制しつつ高精度に光学樹脂を加工すること。
【解決手段】基板上に加工対象となる光学樹脂層を積層し、光学樹脂層上にこの光学樹脂層に対するＸ線遮光の役割を兼ねる第１のメッキシード層およびＸ線レジスト層からなるＸ線マスク形成層を積層し、Ｘ線マスク形成層上にこのＸ線マスク形成層に対するＵＶ遮光の役割を兼ねる第２のメッキシード層およびＵＶレジスト層からなる中間マスク形成層を積層した積層基板を用意し、中間マスク形成層に形成された中間マスクを用いることによってＸ線マスク形成層に高コントラストＸ線マスクを形成し、Ｘ線マスク形成層に形成された高コントラストＸ線マスクを用いることによって光学樹脂層を加工する。 （もっと読む）

【課題】金属抵抗素子の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時にレジスト膜中に定在波が発生するのを防止して金属抵抗素子の寸法バラツキを低減する。
【解決手段】金属抵抗素子２７の下地絶縁膜２３は、金属抵抗素子２７の長手方向において、金属抵抗素子２７の接続孔２５，２５間における上面の４０％以上の部分を占める上側に凸の１つの曲面を備えている。金属抵抗素子２７はその長手方向において下地絶縁膜２３の曲面に起因して、コンタクト、コンタクト間における上面及び下面の４０％以上の部分を占める上側に凸の１つの曲面を備えている。金属抵抗素子２７の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時に、金属抵抗素子２７を形成するための金属膜の上面及び下面で露光光の反射光は上記曲面により散乱されるので、反射光と入射光によるレジスト膜中での定在波の発生が防止される。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。
【解決手段】２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３乃至１．２である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N₁,N₂を、N₁=n₁−k₁i,N₂=n₂−k₂iとし、上層、下層の膜厚をd₁,d₂とし、[n₁₀,k₁₀,d₁₀,n₂₀,k₂₀,d₂₀]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n₁,k₁,d₁,n₂,k₂,d₂が、以下の関係式を満足する。{(n₁−n₁₀)／(n_1m−n₁₀)}²＋{(k₁−k₁₀)／(k_1m−k₁₀)}²＋{(d₁−d₁₀)／(d_1m−d₁₀)}²＋{(n₂−n₂₀)／(n_2m−n₂₀)}²＋{(k₂−k₂₀)／(k_2m−k₂₀)}²＋{(d₂−d₂₀)／(d_2m−d₂₀)}²≦１ （もっと読む）

【課題】 半導体装置及びその製造方法に関し、透明基板に遮光性を持たせてウェハ検出を容易にするとともに、微細なリソグラフを可能にする。
【解決手段】 透明基板１或いは透明半導体層２の表面及び裏面の少なくとも一方に、少なくとも一辺の長さが１μｍ以下の微細加工領域４を除いた領域に可視光を遮光する遮光膜３を設けて、プロセス装置におけるセンサによるウェハ検知が可能になるとともに、露光時に透明基板１の裏面から露光光６の反射が軽減され、開口の広がりを最小限にとどめる。 （もっと読む）

犠牲反射防止コーティング（ＳＡＲＣ）材料を、その上にそれを有する基板から除去するための液体除去組成物およびプロセス。液体除去組成物は、少なくとも１種類のフッ化物含有化合物、少なくとも１種類の有機溶媒、任意に水、および任意に少なくとも１種類のキレート剤を含有する。その組成物は、アルミニウム、銅およびコバルト合金などの基板上の金属種の腐食を最小限にし、かつ半導体構造で使用される低ｋ誘電材料に損傷を与えることなく、集積回路の製造におけるＳＡＲＣ材料の少なくとも部分的な除去を達成する。 （もっと読む）

【課題】反射防止および液浸リソグラフィー用途において有用な組成物を含む、マイクロリソグラフィーのための新規物質を提供する。
【解決手段】一態様において、１以上のケイ素、アンチモン、アルミニウム、イットリウム、セリウム、ランタン、スズ、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、インジウムまたは亜鉛化合物を含む成分を含有するコーティング組成物が提供される。別の態様においては、複数の個別の粒子を含有するコーティング組成物が提供される。本発明の好ましいコーティング組成物は、反射防止の目的、特に下層をなすフォトレジストコーティング層を伴う場合に有用であり、並びに液浸リソグラフィーにおけるバリア層に有用である。 （もっと読む）

【課題】 十分に微細化された薄膜パターンの形成が可能なレジストパターンが得ることが可能なレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 加熱又は露光により酸を発生する酸発生材料を含んでおりパターン化されたレジスト層４を基板１の一面上に形成する工程と、レジスト層４に架橋性樹脂組成物５を付着させる工程と、架橋性樹脂組成物５のうちレジスト層４表面近傍の部分を加熱又は露光により架橋して、レジスト層４を被覆する架橋層６を形成する工程と、架橋性樹脂組成物５のうち架橋層６以外の部分を除去して、レジスト層４及びこれを被覆する架橋層６からなるレジストパターン１０を得る工程と、を備え、架橋性樹脂組成物が、酸の存在下で架橋する水溶性の架橋性樹脂と、無機粒子及び非水溶性樹脂のうち少なくとも一方と、架橋性樹脂を溶解する溶剤と、を含有する、レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板によって提供される情報を測定する方法を提供すること。
【解決手段】この基板は、リソグラフィ装置によって形成されたフィーチャを含んでいる。この方法は、基板上のフィーチャの上方及び／又は近傍に配置されるマーカ上に光ビームを投影すること、並びにこのマーカによって提供される情報をセンサで検出することを含む。コーティングが基板上に配置され、従って、このコーティングが光ビームとフィーチャの間にあると、光ビームが、フィーチャに反射し、マーカによって提供される情報を不正確に読み取る原因になることを実質的に防止する。 （もっと読む）