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Fターム[5F088EA16]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | モジュール化 (1,963) | 素子間の電気的接続 (101)

Fターム[5F088EA16]に分類される特許

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【課題】半導体基板に発生したキャリアが流れ込む半導体領域を半導体基板の一方の主面側に配置した上で、放射線の入射位置を2次元で検出することが可能な放射線検出器を提供すること。
【解決手段】放射線検出器RD1は、第一導電型の半導体基板1と、半導体基板1と接合を構成する複数の第二導電型の半導体領域10と、対応する半導体領域10に接合された複数の電極21,23とを備える。電極21,23は、第一主面1aに直交する方向から見て、対応する半導体領域10を覆う。半導体領域10は、2次元配列された複数の第一及び第二半導体領域11,13を含む。複数の第一半導体領域11のうち2次元配列における第一方向に配列された第一半導体領域11同士が互いに電気的に接続され、複数の第二半導体領域13のうち第一方向に交差する第二方向に配列された第二半導体領域13同士が互いに電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】光センシング装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとが、それぞれ同じ構造の酸化物半導体トランジスタで形成される光センシング装置、及び前記光センシング装置の動作信頼性を向上させることができる駆動方法が提供される。光センシング装置によれば、光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとは、一つの基板上で同じ構造に隣接して形成され、スイッチトランジスタへの光の入射を防止するために、スイッチトランジスタの光入射面には光遮蔽膜がさらに配される。また、光センシング装置の駆動方法によれば、経時的なスイッチトランジスタのしきい電圧シフトを防止するために、光遮蔽膜には負(−)のバイアス電圧が印加される。 (もっと読む)


【課題】大面積X線検出器を提供する。
【解決手段】印刷回路基板に配置された複数のチップと、各チップに対応するように、その上に配置された複数のピクセル電極と、複数のピクセル電極と複数のピクセルパッドとを電気的に連結する再分配層と、を備え、再分配層上で、チップのピンパッドが形成された裏面上に形成された複数の第1電極パッドと、第1電極パッド及び第2電極ピンパッドを電気的に連結するワイヤーと、を備え、ワイヤーは、チップ間のギャップに配置される、大面積X線検出器である。 (もっと読む)


【課題】バイアス線が断線しても、線欠陥の発生率を低減させることが可能な放射線検出パネルおよび放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線検出パネル(センサパネルSP)が備える各バイアス線9において、当該バイアス線9の一端部9a側と他端部9b側との両側から、各放射線検出素子7にバイアス電圧を供給可能に構成し、放射線検出素子7には、バイアス線9の一端部9a側からのバイアス電圧の供給が途絶えても、当該バイアス線9の他端部9b側からバイアス電圧が供給されるようにする。具体的には、各バイアス線9において、当該バイアス線9の一端部9aを、バイアス電源14に接続し、当該バイアス線9の他端部9bを、当該バイアス線9以外のバイアス線9に接続する。 (もっと読む)


【課題】フィルファクターの低下を抑えつつ、リペア用領域を確保した放射線検出素子を提供する。
【解決手段】走査配線101及び信号配線3を、TFTスイッチ4との接続箇所において、当該接続箇所周辺よりも、接続されたTFTスイッチ4から離れる方向にシフトさせた。 (もっと読む)


【課題】安定な高周波特性を有する受光装置を提供すること。
【解決手段】一端に電源電圧が供給される受光素子50と、前記受光素子を搭載する誘電体からなるキャリア30と、前記キャリアを搭載する導電体からなるベース20と、前記受光素子の他端から出力される出力信号が第1ボンディングワイヤを介し入力するトランスインピーダンスアンプ40と、前記キャリアの表面に形成され、前記受光素子の前記一端が接続され、前記トランスインピーダンスアンプのグランドが第2ボンディングワイヤを介し接続され、前記ベースとの間に第1キャパシタを形成する第1金属膜34と、前記キャリアの表面に形成され、前記ベースとの間に第2キャパシタを形成する第2金属膜36と、前記第1金属膜と第2金属膜との間に接続された第1抵抗72と、を具備する受光装置。 (もっと読む)


【課題】小型および低コストを確保しながら、熱膨張率の差に起因して起こる、バンプの接合不良や、絶縁不良を防止することができる、検出装置、受光素子アレイ、これらの製造方法および光学センサ装置、を提供する。
【解決手段】受光素子アレイ50と、CMOS70とが、バンプ9,39同士接合され、少なくとも受光素子アレイおよび読み出し回路の一方において、相手側に対面する表面が凹状曲面であり、かつ接合されたバンプ9,39について、配列された領域の、外周寄り範囲Kに位置する接合されたバンプは、中央範囲Cに位置する接合されたバンプに比べて、太径で、高さが低いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造工程において製品の歩留りを向上させることのできる放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る放射線検出器は、配線パターン200と、配線パターン200の表面に設けられる接続部材とを有する基板20と、基板20の一部に貼り付けられる粘着部材と、粘着部材を介して基板20上に配置され、放射線を検出可能な半導体素子10とを備え、接続部材が、配線パターン200と半導体素子10とを電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】基板と変換素子と間にスイッチ素子と導電線とを備える検出装置において、変換素子とスイッチ素子又は導電線との間で生じる寄生容量を低減する。
【解決手段】基板101と、複数の電極を有するスイッチ素子109と、スイッチ素子109の複数の電極のうちの第1の電極107と電気的に接合する導電線102と、スイッチ素子109及び導電線102の上方に成膜されて配置されており、2つの電極114、116の間に配置された半導体層115を有し、2つの電極114、116のうちの一方の電極114はスイッチ素子109の複数の電極のうちの第1の電極107とは異なる第2の電極106と電気的に接合する変換素子117と、を含む検出装置100が提供され、変換素子117の一方の電極114と、スイッチ素子109の第1の電極107又は導電線102との間に空間120が存在する。 (もっと読む)


【課題】 フレキシブル基板を用いた光半導体装置において、光素子を含む筐体とフレキシブル基板との接続信頼性を向上させること。
【解決手段】 本光半導体装置100は、光素子を内蔵し、上下で対向して設けられた第1端子12および第2端子14を備えた筐体10と、第1端子12と電気的に接続される第1配線(RF、DC)が形成された第1領域22、第2端子14と電気的に接続される第2配線(DC)が形成された第2領域24、第1領域22および第2領域24の間を接続する第3領域26、第3領域26に設けられた切り込み部30により区画され第1領域22と連続した第1突出部42、第1突出部42に設けられ第1配線と電気的に接続される接触領域18を有するフレキシブル基板20とを備える。 (もっと読む)


【課題】ノイズの混入に起因する精度の低下を抑制することが可能なセンサ装置を提供する。
【解決手段】このサーモセンサ100(センサ装置)は、n型シリコン基板11の上方に配置され、熱(赤外線)を測定することにより電子を供給する電荷供給部48と、n型シリコン基板11の表面に形成され、電子が電荷供給部48から供給されるn型ウェル領域15と、n型ウェル領域15の電子が供給される領域の周辺近傍の表面に形成されるp拡散層17とを備え、p拡散層17の下方に電子を転送するための埋込みチャネル領域が設けられている。 (もっと読む)


【課題】イメージセンサに加えて、受動素子部品や能動素子部品を内部に収容しつつ、小型化を図ることのできるセラミックパッケージを提供すること。
【解決手段】セラミックパッケージ1は、セラミック基板2と、セラミック基板上に搭載されたカバー部6とにより内部空間が封止されたセラミックパッケージであって、内部空間内のセラミック基板上に搭載されたイメージセンサ4と、内部空間内のセラミック基板上に搭載された素子部8と、内部空間内のセラミック基板上に形成されて、ボンディングワイヤによってイメージセンサと電気的に接続されるリード電極10と、を有し、リード電極が形成される面と、カバー部が搭載される面とが同一面である。 (もっと読む)


【課題】 光伝送損失を低減させる光伝送路を提供する。
【解決手段】 光伝送路は、光の進行方向を変換させる光路変換面を有するコアと、前記コアの周囲を覆い、前記コアの屈折率よりも低い屈折率を有するクラッドと、透過平面視にて前記光路変換面を含む含前記クラッドの表面が凹部の底面として露出するように、前記クラッド上に設けられた樹脂層と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】容量結合が低減された光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、第1電極251と第2電極252との間に配置された光電変換層を有する光電変換素子25と、第1電極251と導通するソース領域243を有するTFT24と、TFT24のドレイン領域242と導通する第1配線222と、TFT24のゲート電極241と導通する第2配線212と、第2電極252と導通し、第1配線222と第2配線212とのうちの一方の配線222と略平行に延設された第3配線23とを備える。第2電極252が、透明導電材料からなり、光電変換層に対する光入射側に配置されている。第3配線23が、透明電極材料よりも導電性が高いメタル材料からなり、面方向における第3配線23と一方の配線222との間隔d1、d2が、面方向に垂直な厚み方向における第3配線23と一方の配線222との間の間隔よりも長い。 (もっと読む)


【課題】容量結合が低減された光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の画素領域に区画された光検出領域と、複数の画素領域の各々に配置され、第1電極251と第2電極252とに挟持された光電変換層を有する、光電変換素子25と、第1電極251と電気的に接続され、第1方向に延設された第1配線222と、第2電極252と電気的に接続され、光電変換層の厚み方向において第1配線251から離れた位置に配置されており、第1方向と交差する第2方向に延設された第2配線23と、を備える。第1配線222は、第1方向と第2方向とが交差する交差部26において分断されてなる。第1配線222を含んだ通電経路は、交差部26の厚み方向において第1配線222よりも第2配線23から離れた位置に設けられた接続導電部261を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置、エックス線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、光電変換素子及び読出回路が形成された素子層と、素子層表層に設けられた外部接続端子221とを備える。素子層は、読出回路の一部を構成する配線244の下地となる配線下地層20と、表層294と配線下地層20との間に配置された中間層291〜293と、を有する。表層294を貫通して配線244に至るコンタクトホールH3が形成されている。コンタクトホールH3の内壁面は、中間層291〜293又は表層294の面方向の一部が保持されてなりコンタクトホールH3の外側の表層294上と段差D3を構成する段差面H32を含む。外部接続端子221は、コンタクトホールH3の内壁面と表層294上とコンタクトホールH3内に露出した部分の配線244とにわたって形成された導電膜を含んでいる (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の層20、244、291〜294からなる素子層と、素子層内に設けられた光電変換素子と、素子層内に設けられて光電変換素子から信号を読出す読出回路と、素子層の表層294に設けられて読出回路を外部に接続する外部接続端子211と、を備える。素子層は、読出回路の一部を構成する配線212の下地となる配線下地層20と、表層294と配線下地層20との間に配置された中間層291〜293と、を含む。中間層291〜293上に接続導電部282〜284が設けられている。配線212が接続導電部282〜284と導通接続されているとともに外部接続端子211が接続導電部282〜284と導通接続されている。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の層からなる素子層と、素子層内に設けられた光電変換素子と、前記素子層内に設けられた読出回路と、素子層の表層294に設けられて読出回路を外部に接続する外部接続端子211と、を備える。素子層には、読出回路の一部を構成する配線212上に、表層294を貫通して配線212の一部に通じるコンタクトホールH2が形成されている。外部接続端子211は、コンタクトホール内H2と表層294上とにわたって設けられて配線212と導通接続された導電膜を含む。導電膜において外部41に導通接続される接続領域A3が、コンタクトホールH2の開口と重ならない領域になっている。 (もっと読む)


【課題】光受信器において、隣接チャンネル間のクロストークを低減する。
【解決手段】ワイヤボンドは、2以上の光電子装置を有する光電子装置チップを信号処理チップに接続するように形成される。それぞれが光電子装置の1つに対応する2以上の互いに隣接したワイヤボンドグループが形成される。例えば、それぞれのワイヤボンドグループは、ワイヤボンドグループの光電子装置のP端子を信号処理チップに接続する第1のワイヤボンドと、ワイヤボンドグループの光電子装置のN端子を信号処理チップに接続する第2のワイヤボンドと、また光電子装置チップを信号処理チップに接続する第3のワイヤボンドを備えることができる。 (もっと読む)


【課題】電子回路部品や受発光素子の基板への配設において電気的接続及び光導波路との光接続をも簡便に効率的に行う光電気集積配線基板を提供する。
【解決手段】第1の面と第2の面とで開口しかつ垂直方向に貫通する貫通孔を有する基板と、第1の面上に設けられた第1の電気配線層と、第1の電気配線層を覆い第1の面上に設けられた第1の樹脂絶縁層と、第2の面上に設けられた、第1の樹脂絶縁層の厚さと厚さが等しい第2の樹脂絶縁層と、貫通孔の内部に充填されている透明樹脂とを有し、第1の樹脂絶縁層は貫通孔の一方の開口位置を含む領域に発光・受光素子を実装するための開口部を有し、第2の樹脂絶縁層は光配線層を具備し、光配線層は貫通孔の他方の開口位置に光路変換ミラーが形成されている光電気集積配線基板。 (もっと読む)


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