説明

Fターム[5F092AD12]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | 素子の動作 (2,918) | 印加電流又は電圧 (1,470) | 検出電流方向以外 (128)

Fターム[5F092AD12]の下位に属するFターム

印加電圧 (13)

Fターム[5F092AD12]に分類される特許

101 - 115 / 115


【課題】MR変化率および信頼性の向上が図れる磁気抵抗効果素子,磁気ヘッド,および磁気ディスク装置を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子が,磁化方向が実質的に一方向に固着される磁化固着層と,磁化固着層上に配置され,かつ絶縁層と,この絶縁層を貫通する金属導電体と,を有するスペーサ層と,スペーサ層上に,金属導電体と対向して配置され,かつ磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁化自由層と,を具備する。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて動作速度の改善されたMTJセルを利用したXOR論理回路を提供する。
【解決手段】MTJセルを備え、MTJセルの抵抗を第1抵抗値と第2抵抗値との間で変換させるためのMTJセル駆動部と、基準抵抗と、基準抵抗とMTJセルとの抵抗値を比較して論理“0”または論理“1”信号を出力する比較部と、を備えるXOR論理回路において、MTJセル駆動部は、MTJセルの上下部にそれぞれ配置された上部電極及び下部電極と、上部電極上を横切る平行な第1入力ラインないし第3入力ラインと、を備えることを特徴とするMTJセルを利用したXOR論理回路である。 (もっと読む)


【課題】センス電流の通電によるMR変化率の経時変化の低減が図られた磁気抵抗効果素子,磁気ヘッド,および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】磁化固着層と,磁化自由層と,磁化固着層と磁化自由層との間に設けられたAl,Si,Mg,Ta,Zn,Tiからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む酸化物,窒化物,酸窒化物を主成分とする第1の絶縁層と第1の絶縁層を層方向に貫通する第1の電流パスを含む非磁性スペーサ層とを有し,磁化自由層に対して非磁性スペーサ層が形成された側とは反対側に配置される薄膜挿入層とを具備し,薄膜挿入層がAl,Si,Mg,Ta,Zn,Tiからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む酸化物,窒化物,または酸窒化物を主成分とすることを,特徴とする磁気抵抗効果素子。 (もっと読む)


【課題】 CCP−CPP型GMR素子のエレクトロマイグレーション耐性を改善することができる電流狭窄構造を得る。
【解決手段】
ピンド層14とフリー層16との間に位置するスペーサ層15は、2つの銅層21a,21bによって中間層35を挟んだ3層構造を有する。中間層35は、酸化マグネシウムからなる絶縁領域33の中に銅からなる電流狭窄経路としての金属領域34を多数含む。絶縁領域33は、酸化アルミニウムにマグネシウムやクロム等をドープしたものでもよい。酸素と結合し易いマグネシウムの存在により銅の酸化が防止され、しかも酸化マグネシウムは銅結晶成長に適した結晶化テンプレートとなり得るため、銅の金属領域34が十分に成長する。また、マグネシウムがドープされた酸化アルミニウムの最終的な応力状態は純粋な酸化アルミニウム層のそれと比べて異なるものとなり得る。このため、エレクトロマイグレーション耐性が向上する。 (もっと読む)


【課題】 高いMR比による高出力の垂直通電型の磁気抵抗効果素子、およびこのような磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッド、磁気再生装置を提供する。
【解決手段】 磁化固着層あるいは磁化自由層作成後、表面の酸化を行うことで酸化層を形成した後、イオンビーム照射、あるいはプラズマ照射を施すことで酸化層を薄膜化する。 (もっと読む)


一つ以上のスピン拡散層を有することにより電子スピンをMTJの外に拡散させる磁気トンネル接合または磁気抵抗トンネル接合(MTJ)、及びスピンバルブのような磁性多層膜構造、または自由層の磁化を反転させるためのスピントランスファートルクによる書き込み電流を小さくしたスピンバルブ構造。 (もっと読む)


【課題】信頼性の向上が図られた磁気抵抗効果素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第1の磁性層14、スペーサ層16、およびイオン、プラズマ、または熱で処理される被処理層を有する第2の磁性層18を順に形成する。第2の磁性層をイオン等で応力調整処理することで電流狭窄部での膜残留応力を低下させ、磁気抵抗効果素子の信頼性の向上を図る。 (もっと読む)


【課題】より高い信号検出感度を維持しつつ、エレクトロマイグレーションの発生を抑制することのできるスピンバルブ構造を提供する。
【解決手段】ピンド層20は、フリー層27の側から第1強磁性層18と結合層17と第2強磁性層16とが順に積層されたシンセティック構造を有するものである。第2強磁性層16は、面心立方構造を有するCoFeからなる第1および第2の強磁性膜13,15と、それらに挟まれた、Fe50 Co50 やFe70 Co30 などからなる中間膜14とを有する。第1および第2の強磁性膜13,15における他の層との界面は(111)面となっており、中間膜14からの鉄原子やコバルト原子などの拡散が抑制される。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィで画定された導電性ビアで作成された制限電流路を有するCPP型読み取りセンサ、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性のスペーサ層1132を含むセンサスタック構造1100が第1のシールド層1172の上に形成される。絶縁体層1140が、スペーサ層1132の上にそれに隣接して蒸着され、絶縁体層の1以上の部分を露出させるレジスト構造1392が、絶縁体層の上に形成される。レジスト構造が配置された状態で、露出した絶縁体層部分がエッチングによって除去されて、絶縁体からスペーサ層まで貫通する1以上の開口1482を形成する。続いて導電性材料1534が1以上の開口内に蒸着されて、電流制限構造1580の1以上のリソグラフィで画定された導電性ビア1582を形成する。導電性ビアは、読み取りセンサの検出領域における電流密度を増加させ、それによって同時にその抵抗と磁気抵抗を増加させる。 (もっと読む)


【課題】垂直通電型の磁気抵抗素子において、抵抗変化量の大きい磁気抵抗効果素子、及びこれを用いた磁気ヘッド、磁気再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気抵抗効果素子の強磁性層の層中あるいはこれらと非磁性スペーサ層との界面に、酸化物あるいは窒化物からなる極薄の薄膜層を挿入することにより、この薄膜層の近傍における強磁性層のバンド構造を変調させて、電子のスピンフィルタ作用を得ることができる。 その結果として、素子抵抗を上昇させることなく、室温あるいはそれよりも昇温した温度範囲において、MR変化率の高い磁気抵抗効果素子を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】低保持力(Hc<5×103 /(4π)A/m)、低磁歪(λs<5×10-6)および高MR比(dR/R≧10%)が得られる磁気再生ヘッドを提供する。
【解決手段】CPP−GMR磁気再生ヘッドに適用されるスピンバルブ構造体1のフリー層27が、組成Cov Fe(100-v) (v=20原子%〜70原子%)で表される高Fe含有量の下部FeCo層25と、組成Niw Fe(100-w) (w=85原子%〜100原子%)で表される高Ni含有量の上部NiFe層26とを含んでいる。v=20原子%未満およびw=85原子%未満である場合と比較して、保持力が低く維持されたまま、磁歪が低くなると共に、MR比が高くなる。 (もっと読む)


【課題】 熱電冷却構造を組み込むことで電流キャリー能力の高いCCP−CPP型GMR素子を備えた磁気再生ヘッドおよびその製造方法、ならびに特定層の効果的冷却が可能な冷却方法を提供する。
【解決手段】 キャップ層27からフリー層26および非磁性スペーサ層25における上側の導電層25bに至る層には負の熱電ポテンシャル材料を用いる一方、非磁性スペーサ層25における下側の導電層25aからピンド層24、反強磁性層22およびシード層(図示せず)に至る層には、正の熱電ポテンシャル材料を用い、上部導電リード層S2から、キャップ層27、フリー層26および非磁性スペーサ層25を通ってピンド層24、反強磁性層22および下部導電リード層S1へと電流を流す。熱電冷却効果が発現し、電流による発熱の大部分を担う非磁性スペーサ層25が局所的に冷却される。 (もっと読む)


【課題】適当な抵抗値を有し、高感度化が可能で、かつ制御すべき磁性体層の数の少ない、実用的な磁気抵抗効果素子、それを用いた磁気ヘッド及び磁気再生装置を提供することを可能にする。
【解決手段】センス電流を膜面に対して垂直方向に流す磁気抵抗効果素子において、ピン層、フリー層あるいは非磁性中間層の少なくともいずれかに電子反射層を設ける。電子反射層は、酸化物、あるいは窒化物、あるいはフッ化物、あるいは炭化物でもよい。スピン依存散乱効果を有効に利用しながら、適当な抵抗値を有し、高感度化が可能で、かつ制御すべき磁性体層の数が少ない、実用的な磁気抵抗効果素子を提供することができる。 (もっと読む)


磁気素子を提供するための方法及びシステムを開示する。本方法及びシステムには、固着層、自由層、及び固着層と自由層との間のスペーサ層を設ける段階を含む。スペーサ層は、絶縁性の層であり、また、規則的に配列された結晶構造を有する。また、スペーサ層は、スペーサ層をトンネル通過できるように構成される。一態様において、自由層には、スペーサ層に対して特定の結晶構造及び集合組織を有する単一の磁性層が含まれる。他の態様において、自由層には、2つの副層が含まれ、第1副層は、スペーサ層に対して特定の結晶構造及び集合組織を有し、第2副層は、より小さいモーメントを有する。更に他の態様において、本方法及びシステムは、更に、第2固着層、及び自由層と第2固着層との間に存在する非磁性の第2スペーサ層を設ける段階を含む。本磁気素子は、書き込み電流が磁気素子を通過する際、スピン転移により自由層を切り換えるように構成される。 (もっと読む)


【課題】 磁気メモリ装置に用いられる磁気素子を提供する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】 この磁気素子は、ピン止め層(122)、スペーサ層(13)、自由層(140)、およびスピンバリア層(150)を備える。スペーサ層(130)は非磁性であり、ピン止め層(122)と自由層(140)の間に配置されている。自由層(140)は、書き込み電流が磁気素子に流れた場合に、スピン移動を用いて切り替え可能である。また、自由層(140)は、スペーサ層(130)とスピンバリア層(150)の間に配置されている。スピンバリア層(150)は、自由層(140)の減衰定数に対する外側表面の寄与を低減するように構成されている。 (もっと読む)


101 - 115 / 115