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Fターム[5F157CD46]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 検知制御 (665) | 検知情報 (664) | 乾燥気体、蒸気 (44) |  (5)

Fターム[5F157CD46]に分類される特許

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【課題】洗浄槽から引き上げた基板の下端部に液滴が残って不純物やパーティクル等が基板に残留するのを抑制することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留し、該洗浄液に対して基板を浸漬することができる洗浄槽と、前記洗浄槽の上方に配置され、前記基板を収容可能な乾燥室と、複数の基板を直立に保持し、前記洗浄槽と前記乾燥室とを往復可能に設けられる基板保持搬送部と、前記乾燥室に設けられ、前記乾燥室内へ有機溶剤の蒸気を供給する第1の供給部と、前記基板保持搬送部により前記乾燥室において保持される前記基板の下端部に乾燥ガスを供給可能な第2の供給部とを備える基板処理装置により上記課題が達成される。 (もっと読む)


【課題】材料ガスの濃度をある設定濃度で一定に保っている際において、材料ガスの分圧が非常に低くなり、バルブの可動範囲内では材料ガスの分圧に対応した全圧を達成することができず、材料ガスの濃度を設定濃度で一定に保てなくなるような状況が生じることを防ぐことができる材料ガス濃度制御システムを提供する。
【解決手段】材料気化システム100に用いられるものであって、前記導出管12上に設けられる第1バルブ23と、前記混合ガスにおける前記材料ガスの濃度を測定する濃度測定部CSと、前記濃度測定部CSで測定された前記材料ガスの測定濃度が、予め定められた設定濃度となるように前記第1バルブ23の開度を制御する濃度制御部CCと、前記タンク内の温度を設定温度となるように温調する温調器41と、前記温調器の設定温度を設定する温度設定部42とを備えた。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で有機ガス供給装置から供給される混合ガス中の有機ガス濃度を検出できる有機ガス濃度検出方法、及び有機ガス供給装置を提供すること。
【解決手段】ガス導入管12及びガス吐出管13を備えたバブリングタンク11内にIPA等の有機溶剤を収容し、該タンク内の有機溶剤104中に不活性ガスを通気して気化させ、ガス吐出管13から不活性ガスと有機ガスの混合ガスを吐出す有機ガス供給装置において、ガス導入管12に第1マスフローコントローラ15を設け、ガス吐出管13にマスフローメータ16を設け、第1マスフローコントローラ15からのガス流量測定値とマスフローメータ16のガス流量測定値から、混合ガス中の有機ガス濃度を検出する。 (もっと読む)


【課題】所定の熱風の生成量を制御することが可能で、且つ、熱風の清浄化において失われる熱損失の削減を図ることが可能となる熱風循環型乾燥装置を提供する。
【解決手段】熱源手段10と、送風手段20と、熱風清浄手段30と、乾燥室40とを有し、熱源手段10は、熱源となるヒーター14と、熱源のヒーターが配備された部位における熱風の経路の開口面積を制御する熱風制御板16とを有し、熱風清浄手段30の有する熱風清浄のためのろ過フィルターを格納する筐体30−1、及び筐体30−1の上蓋30−2の内側が、断熱板36を有する。 (もっと読む)


【課題】 材液量計などの検出器を用いることなく、タンク内の材料が減少していることを推定し、新しく設定された設定濃度に安定するまでにかかる時間が長くなるという不具合を防ぐことができる材料ガス濃度制御システムを提供する。
【解決手段】 導出管12上に設けられた第1バルブ23と、前記混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部21と、前記タンク内の圧力を測定する圧力測定部22と、前記濃度測定部22で測定された材料ガスの測定濃度が、予め定めた設定濃度となるように前記第1バルブ23の開度を制御する濃度制御部CCと、前記材料液の貯留量を推定する材料液量推定部245とを具備し、前記濃度制御部CCが、予め定めた設定圧力を、前記測定濃度と設定濃度との偏差が小さくなる向きに変更する設定圧力設定部243と、前記圧力測定部22で測定された測定圧力が前記設定圧力となるように前記第1バルブ23の開度を制御する第1バルブ制御部242とを具備した。 (もっと読む)


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