【解決手段】 ＱスイッチＣＯ_２レーザ発振器１は、レーザガスＧの充填された放電チャンバ２と、共振器を構成するリヤミラー４および出力鏡３と、レーザ光線を断続的に発振させるＱスイッチ装置５とを備えており、
上記Ｑスイッチ装置５は、内部を清浄な状態に維持されたハウジング１１と、ハウジング内部に設けられた回転チョッパ１２と、上記ハウジングを移動させる移動手段１４と、上記ハウジングに設けられてレーザ光線を透過させるレーザ光透過部材１５とを備え、
上記移動手段により上記ハウジングを移動させることで、回転チョッパのスリットを上記レーザ光線の焦点部分を通過する位置に調整することができる。
【効果】 浮遊する塵等によるレーザ光線の出力低下を防ぐとともに、Ｑスイッチ装置のメンテナンスや位置調整を容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】共振器から出射されるビームの発散角が変動しても、安定した加工を可能とするレーザビーム光学系およびこれを用いたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザビーム光学系ＬＡは、ビーム強度分布変換素子として機能する非球面レンズ４と、レーザ発振器１の取り出しミラー２でのビーム像を非球面レンズ４の上に転写するための転写光学系２４とを備える。転写光学系２４は、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受ける前の発振器取り出しミラー直後のビーム波面曲率と、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受けた後のビーム波面曲率との平均値の波面曲率をもったビームの幾何光学的な焦点位置を非球面レンズ４の上に転写する。 （もっと読む）

【課題】 ＶＯＣ物質含有水中のＶＯＣ物質を分解して無害化する技術において、ＶＯＣ物質の分解性が高く、有害物質の発生などの副作用がなく、完全度の高い分解方法と装置を提供する。
【解決手段】 透明ガラス管部５内のＶＯＣ物質含有水８に、１０００ピコ秒〜５０フェムト秒の超短パルスレ−ザ−２を集光して照射し、前記ＶＯＣ含有水中のＶＯＣ物質の分子の結合部を切断して分解し、無害な水とする方法と装置を提供し得た。
前記超短パルスレ−ザ−照射によって、ＶＯＣ物質の分子結合部を完全に切断することが可能で、有害な副生成物の発生がない、クリ−ンな技術であることが検証された。 （もっと読む）

【課題】多数のアンプユニットからなるレーザ装置を半導体製造ライン等の床面に配置するにあたり、フットプリントを低減し、光路長を短くし、光学素子群を１箇所に集中配置させ、光学素子群のメンテナンス時の作業効率を高め作業者の負担を減らすようにするとともに、振動等の影響を受け難くしレーザ出力を長期的に安定させる。
【解決手段】オシレータユニット１１の筐体と少なくとも１つのアンプユニット２１、２２の筐体の最小面積の面を除く広い面積の各面１１Ａ、２１Ａ、２２Ａ同士は隣接しかつ対向するようにオシレータユニット１１、アンプユニット２１、２２が配置されている。２つのアンプユニット２３、２４の筐体の最小面積の面を除く広い面積の各面２３Ａ、２４Ａ同士は隣接しかつ対向するように、アンプユニット２３、２４が配置されている。光学素子群３１は、一体形成されたプレート３２上に配置されて光学素子モジュール３０が構成されている。 （もっと読む）

【課題】レーザ持続時間が異なる場合であっても、レーザを安定して出力可能なミラー角度を設定する。
【解決手段】放電空間の両端に配置されたミラー（６、８）によりレーザを発振するレーザ発振器（１０）が、レーザ発振器を動作させるプログラムからレーザ出力指令と持続時間指令とを読取る読取手段（３５）と、読取手段により読取られたレーザ出力指令と持続時間指令とに基づいてミラーの角度指令値を決定するミラー角度決定手段（３６）と、ミラー角度決定手段により決定されたミラーの角度指令値に応じてミラーの角度を調節するミラー角度調節手段（１６、１８）とを含む。さらに、レーザ発振器を立上げてからレーザを出力した時間を積算してレーザ出力積算時間を算出する積算手段（２０）を具備し、積算手段により算出されたレーザ出力積算時間を持続時間に加算して新たな持続時間としてもよい。 （もっと読む）

【課題】小型で、レーザ光の増幅を効率良く行うことができ、増幅されたレーザ光の集光性に優るドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、発振によりレーザ光を生成するレーザ発振器と、レーザ発振器によって生成されるレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つのスラブ型レーザ増幅器とを具備し、少なくとも１つのスラブ型レーザ増幅器が、第１のウィンドウ及び第２のウィンドウを有し、炭酸ガス（ＣＯ_２）を含む気体で充たされたチャンバと、チャンバ内に配置され、高周波電圧が印加されることにより形成される放電領域において気体を励起してレーザ光を増幅する一対の電極と、チャンバ内に配置され、第１のウィンドウから入射するレーザ光を多重反射することにより放電領域内を伝播させて第２のウィンドウから出射させる複数のミラーを有する光学系とを含む。 （もっと読む）

レーザーミラーアセンブリは改善されたポインティング安定性を持つ。細長いミラーは凹面反射部分を持つ。一対の細長いプレーナー部分は凹面反射部分の両側に平行に伸びる。前記プレーナー部分は反射部分から段差で低くなっている。ミラーは銅から形成される。一対のステンレス鋼片（４０）はプレーナー部分（２６）に連結される。銅のミラーとステンレス鋼片（４０）に間のバイメタル効果は運転中に起きる加熱の差によるミラーの歪みに対抗する様に作用する。代替的実施の態様において、アルミニウム細片がミラーの裏面に取り付けられる。
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【課題】理想的なガウス分布から乖離したレーザビームを用いた場合においても、被照射物上（像面位置）に均一な強度分布を有するビームを照射できるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】第１のビームＬ１ａを投光する第１の投光部１と、前記第１の投光部１から投光された前記第１のビームＬ１ａが透過する光学素子２と、を備え、前記光学素子２は、前記第１のビームが入射された場合に、出射ビームの被照射物９上での断面強度プロファイルの形状が、フラット部Ｓ１−ａと前記フラット部より傾きの大きな傾斜部Ｓ１−ｂとを有するように光学設計されており、前記光学素子２を透過した第１のビームのうち、前記断面強度プロファイルにおける前記傾斜部に相当する部分を遮断するマスク４と、前記第１のビームを被照射物９へと導いて照射する第１の照射光学系３と、をさらに備える。 （もっと読む）

システム及び方法は、レーザ照射を用いて、半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工する。一実施の形態においては、偏向器は、加工窓内でレーザパルスを選択的に偏向するように構成されている。加工窓は、半導体基板を走査し、複数の横方向に離間した構造の行が加工窓を同時に通過するようにする。加工窓を走査させながら、偏向器は、加工窓内で、複数の横方向に離間した行の間で、一連のレーザパルスを選択的に偏向する。このようにして、複数の構造の行を単一の走査で加工できる。 （もっと読む）

パルスＣＯ_２レーザは、レーザの基本波長で透過性の音響光学（ＡＯ）物質を含むキャビティ内音響光学（ＡＯ）ＱスイッチでＱスイッチされる。一例では、ＡＯ材料はゲルマニウムである。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造を有し且つ安価な外部地絡保護装置を備えたレーザ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のレーザ装置１０は、３相交流電力線により電力が供給される放電励起用電源１１を具備している。この放電励起用電源１１は、その内部に３つの第１のコンデンサ１２ａ、ｂ、ｃを備えている。レーザ装置１０は、第１のコンデンサ１２ａ、ｂ、ｃそれぞれを利用して３相交流電力線の各相と接地との間の電圧を測定する電圧測定手段と、該電圧測定手段により測定された電圧の値と所定の閾値とを比較して、該電圧の値が該閾値を越えた時、３相交流電力線から放電励起用電源１１への電力の供給を遮断する電力遮断手段１８と、から構成される外部地絡保護装置を、有している。 （もっと読む）

【課題】単列構成で、パルスレーザ光の１パルス当り又は単位時間当りのエネルギーを抑えながら大きな出力を達成できる極端紫外光源用ドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、（ｉ）レーザ媒質としてＣＯ_２を用いてレーザ光を励起するレーザ放電管と、レーザ放電管を挟んで光共振器を構成する全反射ミラー及び部分反射ミラーと、全反射ミラーと部分反射ミラーとの間のレーザ光の経路に配置された音響光学素子とを有する発振段レーザ装置と、（ii）発振段レーザ装置において所定の繰り返し周波数を有するレーザ光のパルス列が所定の周期でバースト的に生成されるように音響光学素子を制御するレーザ制御部と、（iii）発振段レーザ装置から出力されるレーザ光を増幅する少なくとも１つの増幅器を含む増幅段装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】炭酸ガスレーザー励起の遠赤外ガスレーザーにおいて、波長選択可能であり、かつ、同一光軸で多波長発振させる。
【解決手段】複数の励起用炭酸ガスレーザー装置１、２から出力される複数の異なる励起レーザーを１つの遠赤外レーザー装置３に入力し、１つの遠赤外レーザー装置３から２つの異なる波長で、かつ、同じ光軸を取るレーザー光を出力させる。これにより、多波長の遠赤外レーザー発振を可能にできる。 （もっと読む）

【課題】断続的に高出力のレーザを照射して加工を行う際に生じる、レーザ発振の不安定さに起因する出力変動やポインティング位置の変動を抑制して、安定したレーザ発振を行えるレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源１１から投光されるレーザ光１７ａを集束させる集束光学系と、前記レーザ光１７ａを加工対象物８へと導いて照射する加工光学系９と、前記集束光学系と前記加工光学系９との間に配置され、前記レーザ光１７ａを反射することにより遮断可能なシャッタシステム１３と、を備える。前記シャッタシステム１３は、前記集束光学系の光路上かつ前記レーザ光１７ａの集束点Ａ近傍へと突出可能な反射鏡１４を含み、前記反射鏡１４は、突出した際に前記レーザ光１７ａを前記集束光学系および加工光学系９の光軸外へと反射（偏向）させて発散させる。 （もっと読む）

【課題】ランプから放射される光子を有効に利用することを可能とし、レーザガスを所望のイオン化状態にするために必要な電力を有効に利用する。
【解決手段】レーザガスをガス放電するための励振手段を設け、レーザガスに光子を放射してレーザガスの解離を促進するランプ７６とを設ける。このランプ７６を保持し内壁がランプ７６の光をレーザガスの放電領域に集光させる凹面状の部分を有するランプハウジング７７を設ける。ランプハウジング７７の凹面状の部分はＡｕなどの光反射材料でコーティングされている。
【選択図】図１５
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【課題】スラブレーザを製造する場合における製品ばらつきを緩和する或いは、調整項目を低減する。
【解決手段】電気的にアースされるとともに光共振器を保持するためのフランジ１２を有する真空容器内に細長い導電性電極１、２が設けられる。この導電性電極１、２を冷却する導電性電極１、２内に冷却媒体を伝送するための冷却パイプ２５、２６が、埋め込まれ或いは張り付けられている。この冷却パイプ２５、２６とフランジ１２とを接続する冷却媒体保持ブロックＡ２０が設けられる。
【選択図】図８
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システム及び方法は、材料加工のためのレーザパルス列を生成する。一実施の形態においては、連続波（ＣＷ）又は準ＣＷレーザビームから、高い繰返し速度の安定したレーザパルス列が生成される。レーザパルス列の１つ以上のレーザパルスを整形して、ターゲット材料に供給されるエネルギーを制御してもよい。他の実施の形態においては、単一のレーザパルス、ＣＷレーザビーム又は準ＣＷレーザビームから、複数のレーザビームが複数の加工ヘッドに分配される。このような実施の形態の１つでは、単一の光偏向器が、各加工ヘッドに亘って複数のレーザビームを分配する。 （もっと読む）

【課題】ダイクロイックミラーを透過したレーザ光が、レーザ発振器構成部材に損傷或いは一部の異常加熱を誘起する事を防止するとともに、ダイクロイックミラーを透過したレーザ光がダイクロイックミラーに帰還する事を防止する事によって、安定したレーザ発振を実現する。
【解決手段】レーザ装置の発振波長を選択する為に用いられるダイクロイックミラー９０を有する。ダイクロイックミラー９０は、ダイクロイックミラーホルダ７２で保持する。ダイクロイックミラーホルダ７２の内部には除去光をダイクロイックミラー９０以外の方向に反射させるための反射板７３を有する。
【選択図】図１４
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【課題】ビームプロファイラ（ビーム観察装置）により、レーザのビームプロファイルの測定だけではなく、強度の測定も可能とする。
【解決手段】レーザ加工装置３に設けられたビーム観察装置１には、レーザを分岐するビームスプリッタ１７が備えられている。ビームスプリッタ１７で分岐された一方の光がＣＣＤカメラ１５に入射され、他方がパワーディテクタ１６に入射される。そして、ＣＣＤカメラ１５によりレーザのビームプロファイルが計測され、レーザの照射形状が画像モニタ２０に表示される。また、同時にパワーディテクタ１６により、レーザの強度が測定され、出力測定モニタに出力値が表示される。 （もっと読む）

本発明は、柔軟性ある可動のバンド（１）に貫通開口部（１６）を配置するための装置および方法に関し、該貫通開口部は少なくとも１列に連続して配置され、各貫通開口部（１６）は電子部品を受けるための複数の凹部（２）のうちの１つの底部に配置され、該凹部は少なくとも１列に連続して配置され、少なくとも１つのレーザビーム（５〜８）を有するレーザデバイス（４）は、凹部（２）から離れて向かい合う、凹部（２）の底部（１３）の側面（１１）に作用するように配置され、レーザデバイス（４）は、少なくとも１つのレーザビーム（５〜８）によって、貫通開口部（１６）が所定の時間内に底部の側面（１１）の所定の位置においてバンド（１）の所定の部分（３）の中に焼き入れられ得るように設計される。
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