【課題】表面レリーフ構造と電流狭窄構造との中心位置とを精度良く位置合わせでき、基本横モードと高次横モードの間に十分な損失差を導入できる表面レリーフ構造の形成が可能な面発光レーザの製造方法を提供する。
【解決手段】表面レリーフ構造を備え、メサ構造の面発光レーザの製造方法であって、
半導体層上の第一の誘電体膜に、メサ構造を画定するための第１のパターンと表面レリーフ構造を画定するための第２のパターンを同一工程により形成する工程と、
これらのパターンが形成された第一の誘電体膜を含む半導体層の上に、第二の誘電体膜を形成する工程と、
第２のパターンが形成された半導体層の上の第二の誘電体膜を残して、第二の誘電体膜を除去した際の第１のパターンを用いてメサ構造を形成し、その後に電流狭窄構造を形成する工程と、
第二の誘電体膜が除去された第一の誘電体膜の第２のパターンを用いて、表面レリーフ構造を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の出射面の法線に対して線対称な斜め方向である２つ方向に出射されるレーザ光の強度比を制御することが可能な２次元フォトニック結晶面発光レーザを提供する。
【解決手段】面内方向に共振モードを有する２次元フォトニック結晶を有し、レーザ光の出射面の法線に対して線対称な斜め方向である少なくとも２つの方向に、レーザ光を出射する２次元フォトニック結晶面発光レーザであって、
２次元フォトニック結晶は、
２つの方向に出射するレーザ光の出射方向ベクトルを、レーザ光の出射面に射影した射影方向に垂直な方向に沿って、２次元フォトニック結晶の格子点を構成する媒質の深さあるいは高さが一定であり、
２次元フォトニック結晶の格子点を構成する媒質の深さあるいは高さが、射影方向に沿って該射影方向に平行な方向を法線とする任意の面に対して非対称に変化している。 （もっと読む）

【課題】従来のＧＭＲＦよりも小さな面積で入射光と結合可能であり、高屈折率の材料を必要とせず、所望波長の光とそれ以外の波長の光とを別個に取り出す波長選択フィルタを提供する。
【解決手段】波長選択フィルタは、導波コア２と、導波コア２上に設けられたＤＢＲ１１、位相調整区間ｐ１、ＧＣ１０、位相調整区間ｐ２、及びＤＢＲ１２とを備える。所望波長の光及び所望波長以外の波長の光を含む入射光がＧＣ１０に入射したとき、導波コア２を伝搬する導波光をＧＣ１０により回折して導波コア２の第１の面から放射させることにより、ＧＣ１０に入射した所望波長の光を反射し、導波コア２を伝搬する導波光をＧＣ１０により回折して導波コア２の第２の面から放射させることにより、ＧＣ１０に入射して導波コア２を透過した所望波長の光を相殺する。所望波長以外の波長の光は導波コア２を透過する。 （もっと読む）

【課題】直列抵抗が小さく、高効率な面発光型半導体レーザ素子を提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ素子は、基板１０１上に順次設けられた第１の反射鏡１０２、第１のスペーサ層１０４、活性層１０５、第２のスペーサ層１０６、及び第２の反射鏡１０８と、第１の電極１０９及び第２の電極１１０とを備えている。第１の反射鏡１０２及び第２の反射鏡１０８の少なくとも一方は、第１の屈折率を有し、非窒化物半導体材料からなる第１の透光性導電膜と、第１の屈折率よりも小さい第２の屈折率を有し、非窒化物半導体材料からなる第２の透光性導電膜とが交互に積層されてなる分布ブラッグ反射鏡である。 （もっと読む）

本発明の種々の実施の形態はモノリシックＶＣＳＥＬアレイを対象とし、モノリシックＶＣＳＥＬアレイにおいて、各ＶＣＳＥＬは、異なる波長においてレーザ光を放射するように構成することができる。一実施の形態では、モノリシック面発光レーザアレイは、反射層と、発光層１０２と、２つ以上の非周期的なサブ波長回折格子を用いて構成される回折格子層１１２とを備える。各回折格子は反射体とともに空洞共振器を形成するように構成されており、各回折格子は、１つ以上の内部共振器モードを実現し、かつ回折格子を通って放射される１つ以上の外部横モードを実現する回折格子パターンを用いて構成される。 （もっと読む）

【課題】選択性が高い光誘導性のエッチングを達成するために、電解質に対する半導体構造の局部的電気化学的ポテンシャルを戦略的に改変することを含む、ＩＩＩ−窒化物半導体構造を製造するための方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、電気的抵抗層または半導体構造の中の電子のフローを妨げる層の適切な配置によって、および／またはＰＥＣエッチングの間に、半導体構造の特定の層と接触するカソードを配置することによって、半導体構造または半導体デバイスの電気的ポテンシャルを局部的に制御し、水平方向および／または垂直方向の光電気化学（ＰＥＣ）的エッチング速度を局部的に制御する。 （もっと読む）

【課題】２次元フォトニック結晶による帰還効果を向上させ、その結晶層に分布する光の割合を増加させ、素子を形成する半導体が良好な結晶性を維持し、素子面積を小さくできるＤＦＢ型の面発光レーザを提供する。
【解決手段】バリア層と井戸層とで形成される活性層を含む複数の半導体層からなる積層中に、屈折率の異なる媒質が面内方向に周期的に配列された２次元フォトニック結晶層を備え、該結晶層の面内方向に共振モードを有する面発光レーザであって、
第１クラッド層と、２次元フォトニック結晶層と、活性層と、第２クラッド層とが順次積層されており、
バリア層、第１クラッド層、第２クラッド層のいずれの屈折率よりも高い屈折率を有し、
かつ、井戸層のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有する光誘引層が、２次元フォトニック結晶層と活性層との間、または、２次元フォトニック結晶層と第１クラッド層との間に設けられる構成とする。 （もっと読む）

【課題】波長走査型レーザ光源において波長走査範囲を拡大すること。
【解決手段】ゲイン媒体１２を含む光ファイバループ１１、光サーキュレータ１３、光ビーム偏向部及び回折格子２７によって波長走査型レーザ光源を構成する。レーザを発振させ、１走査周期毎にトリガ信号を検出する。トリガ信号を電流コントローラ３４に入力し、電流コントローラ３４よりゲイン媒体１２への注入電流を制御する。このとき波長走査毎に発振レベルに応じて注入電流のレベルを低下させるように制御すれば、ゲイン媒体１２がＣＯＤによって破壊することなく、波長を広い範囲にわたって走査することができる。 （もっと読む）

【課題】共振効率を空間的に制御することができると共に、横方向の光漏れを低減させることが可能となるフォトニック結晶、それを用いた面発光レーザを提供する。
【解決手段】フォトニック結晶であって、
基本的周期構造に欠陥が導入され、波長λの光を反射する第１の領域と、
前記基本的周期構造を備えると共に、前記波長λの光を反射する第２の領域とを有し、
前記波長λに関して、前記第１の領域の反射率は、前記第２の領域の反射率よりも低い構成とする。 （もっと読む）

【課題】二次元フォトニック結晶を用いた半導体レーザにおいて、単純で造りやすい構造によって、出射ビームのビーム形状を単峰性ビームとする。
【解決手段】二次元フォトニック結晶による半導体レーザにおいて、二次元フォトニック結晶を構成する格子を矩形領域に円孔を配列させて形成し、この格子形成において矩形領域の外周部分である端部の構成を異ならせることで、出射ビームのビーム形状を単峰性ビームとする。単に矩形領域の外周部分である端部にのみにおいて構成を異ならせることによって出射ビームのビーム形状を単峰性ビームとすることができ、また、格子配列は容易な円孔によって形成することができ、従来の構成のように作製が困難である三角形状や微小孔等の高い精度を要する加工を不要とすることができる。 （もっと読む）

【課題】隣りあう個々の面発光レーザ間における活性層のつながりを断つことなく活性層を共有化することができ、容易に高密度アレイ化を図ることが可能となるフォトニック結晶による面発光レーザアレイを提供する。
【解決手段】基板上に、２以上の面発光レーザが形成された面発光レーザアレイであって、
前記面発光レーザは、半導体多層膜ミラーと、活性層と、面内方向に屈折率分布を有するフォトニック結晶、とを含む複数の半導体層による積層構造を備え、
前記積層構造を構成する前記フォトニック結晶と前記半導体多層膜ミラーとによって、共振モードを導波する導波路が形成され、
前記面発光レーザアレイにおける隣りあう面発光レーザ間に、前記フォトニック結晶が設けられていない領域を有し、
前記面発光レーザ間で、前記半導体多層膜ミラーおよび前記活性層が共有されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】高速動作が可能であって、かつ、信頼性に優れる面発光レーザの提供。
【解決手段】本発明に係る面発光レーザは、半導体基板１０１と、半導体基板１０１上に形成された第１の反射鏡１０２と、第１の反射鏡１０２上に形成された活性層１０３と、活性層１０３上に形成されたトンネル接合層１０５と、トンネル接合層１０５を覆う第１導電型の半導体スペーサ層１０７と、半導体スペーサ層１０７上であって、トンネル接合層１０５の直上領域に形成された第２の反射鏡１０８と、半導体スペーサ層１０７上であって、第２の反射鏡１０８の周辺に形成された第１の電極１１０と、活性層１０３よりも下の層と電気的に接続された第２の電極１１１とを備える。トンネル接合層１０５の直上領域における第１導電型の半導体スペーサ層１０７の厚さが、第１の電極１１０の直下領域における第１導電型の半導体スペーサ層１０７の厚さよりも薄い。 （もっと読む）

【課題】発光プロファイルにおける明暗を生じなくする。
【解決手段】少なくとも一つの半導体レーザチップを具備する半導体レーザ装置が提供され、半導体レーザチップは電磁放射を放出する活性層を含む。さらに、少なくとも一つのコーナーリフレクタ１が半導体レーザチップ中に形成される。コーナーリフレクタ１は第１と第２の反射面１４、１５を有し、第１と第２の反射面１４、１５は互いに対して９０度未満の角度で配置される。これにより、半導体レーザ装置により放出される放射の向上した発光特性がもたらされる。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶ミラー直下の活性領域にキャリアを効率的に注入することが可能となる垂直共振器型面発光レーザを提供する。
【解決手段】基板１００上に、下部ミラーを構成する第１の反射ミラー１０２と、上部ミラーを構成する第２の反射ミラー１１２と、これらの反射ミラー間に設けられた活性層１０６と、を有する垂直共振器型面発光レーザであって、
前記第２の反射ミラーは、導電性を有する第１の媒質１１００と、該第１の媒質よりも屈折率が低い第２の媒質１１０２とによる、前記基板の面内方向に周期的に配列された屈折率周期構造を備え、
前記屈折率周期構造の下部側には、前記第１の媒質よりも屈折率が低い第３の媒質１１０４による層状構造が、前記第１の媒質内に埋め込まれている構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＧＲモードによるピーク反射率を制御可能なフォトニック結晶層を有する構造体、それを用いた面発光レーザを提供する。
【解決手段】フォトニック結晶層を有する構造体であって、
前記フォトニック結晶層１０００は、第１の屈折率を有する材料からなる第１の部材１０１０に、周期的に配列された複数の孔１０１６を備え、
前記複数の孔の内側に設けられた第２の屈折率を有する材料からなる第２の部材１０１５が、その中心位置を前記孔の中心位置に対し、前記フォトニック結晶層の面内方向にずらして配置されている。 （もっと読む）

本発明は、ＶＥＣＳＥＬの発光部品を製造する方法、及び、対応するＶＥＣＳＥＬに関する。本方法において、積層部２は、半導体基板１上にエピタキシャルに成長される。積層部は、活性化領域４、上部の分布ブラッグ反射器５、及び、前記活性化領域４と前記半導体基板１との間に設けられたｎ又はｐドープ電流注入層１３を有する。機械的サポート６又はサブマウントは、前記積層部２の上側に接合され、前記半導体基板１は、その後除去される。メタライズ層７は、前記積層部２の下側にオプション的に堆積され、光学的に透明な基板は、この下側に接合される。提案された方法は、標準的な手法において斯様な部品の製造を可能にし、均一な電流注入及び高効率の熱消散を伴うＶＥＣＳＥＬをもたらす。
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【課題】外部共振器を用いる構成においてスペックルノイズを低減可能な光源装置等を提供すること。
【解決手段】複数の波長のコヒーレント光を回折させる体積ホログラムであって、入射するコヒーレント光の各波長に対応させて、コヒーレント光が入射する入射端面２ａとのなす角度が異なる干渉縞１４ａ，１４ｂ，１４ｃが複数記録されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 比屈折率差が小さい系においても、Ｇｕｉｄｅｄ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅを起こさせる構造体を提供する。
【解決手段】 高屈折率である第１の部材１０１０に複数の孔が周期的に配列されているフォトニック結晶層１０００と、低屈折率である第２の部材１０２０とを有する構造体であって、第１の部材１０１０の上には第３の部材１０１５が形成されている。この第３の部材１０１５の屈折率は、１．０よりも大きく、また第１の部材１０００が有する屈折率よりも低い。そして、フォトニック結晶層１０００に設けられている孔の深さは、第１の部材１０１０の厚さの２０％以上８０％以下である。 （もっと読む）

【課題】 フォトニック結晶層とそれに隣接する低屈折率層との屈折率差が十分にとれない構成であっても、Ｇｕｉｄｅｄ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅによる反射機能を発揮し得る新規な構造体、及びそれを用いた面発光レーザを提供する。
【解決手段】 第１の屈折率を有する第１の部材１０００に複数の孔が周期的に配列されたフォトニック結晶層と、該フォトニック結晶層に隣接し、該第１の屈折率よりも低い第２の屈折率を有する低屈折率層１０２０とを備える。前記第１の屈折率と第２の屈折率との比屈折率差は０．１０以下である。また、屈折率が１.０よりも大きい第３の屈折率を有する第３の部材１０１５を前記孔の内側に配置する。 （もっと読む）

【課題】屈折率差が十分にとれない構成であっても、ＧＲモードによる反射機能を発揮し得るフォトニック結晶を用いた新規なミラー、及びそれを用いた面発光レーザを提供する。
【解決手段】第１の屈折率を有する第１の材料からなる第１の部材に、周期的に配列した複数の孔を設けて構成されるフォトニック結晶層と、
該フォトニック結晶層に隣接し、該第１の屈折率よりも低い第２の屈折率を有する第２の材料からなる低屈折率層と、を備え、該フォトニック結晶層の厚さ方向に入射する光を反射するミラーであって、
前記第１の屈折率をｎ_１、前記第２の屈折率をｎ_２、これら第１の屈折率と第２の屈折率との比屈折率差をΔｎとするとき、
該比屈折率差Δｎ＝（ｎ_１−ｎ_２）／ｎ_１が、０．１０を超えない範囲の値を有し、
前記複数の孔の面内方向の断面形状が、交差する２つの長方形により形成されている構成とする。 （もっと読む）