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Fターム[5F173AC35]の内容

半導体レーザ (89,583) | 垂直共振器を有するレーザの構造 (4,657) | 光閉じ込め、電流狭窄構造 (1,413) | 位置 (733) | 活性層より上側 (612)

Fターム[5F173AC35]に分類される特許

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【課題】高出力による単一横モード発振のため長共振器化することで縦モード間隔が狭くなり、縦多モード発振等が生じる際でも、単一縦モード発振が可能となる垂直共振器型面発光レーザを提供する。
【解決手段】活性層を含む複数の半導体層が積層され、波長λ1で発振する垂直共振器型面発光レーザであって、上部と下部多層膜反射鏡とによる共振器が、共振波長がλ1、利得スペクトルにおける共振波長λ1での利得がg1である第1の縦モード110と、共振波長がλ2、利得がg2である第2の縦モード120と、共振波長がλ3、利得がg3(g2>g3)である第3の縦モード130と、による縦多モードを生じる構造を有し、第1の活性層140が、第1の縦モードの定在波の腹150からずらした位置に配置され、利得が大きい第2の縦モードの発振を抑制し、第1の縦モードによる単一縦モード発振が可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】放熱特性の低下を抑えつつ、内部応力に起因する信頼性の低下を抑えることができる面発光型半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】この製造方法は、活性層18と、アルミニウムを含み活性層18上に設けられた半導体層30と、アルミニウムを含み半導体層30上に設けられたDBR部24とを含む半導体積層構造32のDBR部24及び半導体層30に対してエッチングを行うことによりメサ部34を形成する工程と、電流狭窄のための環状の酸化領域22bを半導体層30の内部に形成するために、メサ部34の側面から内部に向けてアルミニウムを酸化させる工程と、この工程によりDBR部24に形成された酸化領域24cに対して選択的なウェットエッチングを行う第1のエッチング工程と、DBR部24の周縁部をエッチングにより除去する第2のエッチング工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】高速変調可能でありレーザ光の偏光方向の制御が安定した面発光型半導体レーザを提供すること。
【解決手段】半導体基板と、この半導体基板の上方に形成された下部ミラー層と、この下部ミラー層の上方に形成された活性層と、この活性層の上方に形成された酸化層を含む上部ミラー層と、が積層され、高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型に形成された共振器と、上記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層と、上記上部ミラー層の上面と、上記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極と、を備える。そして、上記共振器の上記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成されている。 (もっと読む)


【課題】高速変調可能な面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ10は、基板100上に形成され、基板と垂直方向にレーザ光を発する発光部130と、基板上に形成され、発光部で発せられた光の一部を基板と水平方向に伝播させる光伝播部140と、光伝播部で伝播された光を発光部に向けて反射させる反射部150とを備える。光伝播部は、発光部の屈折率よりも屈折率が小さいトレンチ120と、トレンチと反射部との間に配されたトレンチよりも屈折率が高いスローライト部122とを含む。 (もっと読む)


【課題】電流経路の電気抵抗の低減を図りつつ横モード制御が可能なVCSELを提供する。
【解決手段】VCSEL10、基板12上に形成され、Alを構成元素とする半導体被酸化層32を含む下部DBR14と、活性領域16と、ポストPに加工された上部DBR18とを備える。下部DBR14には、ポストPの外側において、その表面から半導体被酸化層32に到達する複数の孔30が形成されている。半導体被酸化層32には、孔30の側面から選択的に酸化された酸化領域34が形成されている。下部DBR14には、酸化領域34によって囲まれた非酸化領域(導電領域)による電流経路K1に加えて、酸化領域34を回り込むような電流経路K2が形成されている。 (もっと読む)


【課題】よりいっそうの低消費電力化が可能な面発光レーザ、光源、及び光モジュールを提供すること。
【解決手段】電流狭窄層を挟むように形成され、第2導電型コンタクト層側に配置された第1組成傾斜層および活性層側に配置された第2組成傾斜層を備え、第1組成傾斜層および第2組成傾斜層は、積層方向において電流狭窄層からそれぞれ反対側の隣接する層に近づくにつれてそのバンドギャップエネルギーが単調減少し、隣接する層のバンドギャップエネルギーに近づくように構成され、第2導電型クラッド層はキャリアの移動度を低下させる材料を含み、第2組成傾斜層のキャリア濃度が、電流狭窄層の電流注入部のキャリア濃度以上である。 (もっと読む)


【課題】複数の活性領域へのキャリヤ注入の均一性とキャリヤの閉じ込めを向上させ、レーザ特性の改善を図ることが可能となる周期利得構造を備えた面発光レーザを提供する。
【解決手段】第1DBR層、第1クラッド層、活性領域、第2クラッド層、電流狭窄構造、第2DBR層を含み構成された面発光レーザであって、
前記活性領域は多重量子井戸構造を有し、該活性領域を利得領域の光強度が極大となる複数の位置に配置して構成された周期利得構造を備えると共に、インターバリヤ層が前記複数の活性領域の間に配置された構造を備え、
前記インターバリヤ層の伝導帯エネルギー下端のエネルギー準位が、前記複数の位置の前記活性領域の前記多重量子井戸構造における障壁層の伝導帯エネルギー下端のエネルギー準位よりも高いエネルギー準位とされている構成とする。 (もっと読む)


【課題】断線等の発生が少ない信頼性の高い面発光レーザを提供する。
【解決手段】基板上に順次積層形成された下部半導体DBR、活性層及び上部半導体DBRと、前記活性層及び前記上部半導体DBRに形成されたメサと、前記メサの上面から側面に形成される電極と、を有し、前記メサの上面は多角形状に形成されており、前記電極は前記メサの側面のうち2面以上に各々形成されており、前記メサ側面に形成された2以上の前記電極同士は接続されており、前記電極の形成される前記側面においては、前記電極の形成されない領域を有していることを特徴とする面発光レーザを提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】接着剤等の這い上がりのない信頼性の高い面発光レーザを提供する。
【解決手段】基板上に形成された半導体層と、前記基板をチップごとに分離するため、前記半導体層に形成された素子分離溝と、前記上部半導体DBR上に形成された電極と、を有し、前記素子分離溝の底面または側面には、撥液性膜が形成されていることを特徴とする面発光レーザ素子を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】低消費電力で面発光レーザ素子のレーザ発振波長を高精度に制御することができる加熱機構を用いた面発光レーザ素子および面発光レーザアレイ素子を提供すること。
【解決手段】2つの多層膜反射鏡からなる光共振器と、前記光共振器内に配置された活性層と、前記活性層の近傍に設けられた高抵抗加熱部と、前記高抵抗加熱部に接続し、該高抵抗加熱部に電流を伝えるための該高抵抗加熱部よりも電気抵抗が低い低抵抗部とを有し、当該面発光レーザ素子のレーザ発振波長を調整するための加熱機構とを備える。 (もっと読む)


【課題】信頼性に優れた、Alを含む化合物とその酸化絶縁物とを有する電流狭窄層を備える面発光レーザを提供する。
【解決手段】電極121と電極131との間に流れる電流の経路を制限する電流経路制限層であって電流注入部110aと電流狭窄部110bとを有する電流狭窄層110の両側に擬似的組成傾斜層109、111を設ける。擬似的組成傾斜層109、111を複数の半導体層171〜175で形成し、半導体層171〜175の各層をGaAs層171a〜175aとAlGaAs層171b〜175bとでそれぞれ形成し、GaAs層171a〜175aとAlGaAs層171b〜175bの膜厚比を変化させることによって、平均的Al組成が変化する擬似的組成傾斜層109、111を構成する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】 基板101上に、下部半導体DBR、活性層を含む共振器構造体、被選択酸化層を有する上部半導体DBRなどが積層されている。そして、下部半導体DBRが含まれるベース部の外形は、基板の表面に直交する方向からみたとき、角部が無くマクロ的に滑らかな形状であり、下部半導体DBRのエッチング面は、不動態化膜115と保護層111とによって被覆されている。この場合は、不動態化膜115にクラックが入るのを抑制でき、従来よりも信頼性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】信頼性に優れた、Alを含む化合物とその酸化絶縁物とを有する電流狭窄層を備える面発光レーザを提供する。
【解決手段】電流注入部110aと電流狭窄部110bとを有する電流狭窄層110の両側に擬似的組成傾斜層109、111を設ける。擬似的組成傾斜層を形成する半導体層171、172、174、175の各層をGaAs層171a、172a、174a、175aとAlGaAs層171b、172b、174b、175bとでそれぞれ形成し、GaAs層とAlGaAs層の膜厚比を変化させることによって、平均的Al組成が変化する擬似的組成傾斜層を構成し、擬似的組成傾斜層109、111内に設けたAl0.6Ga0.4As層173によって、電流狭窄部110bを形成する際の酸化を停止する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】基板上に、下部半導体DBR、下部スペーサ層、活性層、上部スペーサ層及び上部半導体DBRを順次積層形成する成膜工程と、前記下部半導体DBR、前記下部スペーサ層、前記活性層、前記上部スペーサ層及び前記上部半導体DBRの一部を除去することにより分離溝を形成する分離溝形成工程と、前記分離溝の側面にGaのイオン注入を行なうGaイオン注入工程と、を有することを特徴とする面発光レーザ素子の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】基本横モード発振の位相差を抑制した面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】VCSEL10は、基板100と、基板上に形成されたn型の下部DBR102と、活性領域104と、活性領域上に形成されたp型の上部DBR106と、上部DBR106上に形成された光出射口110Aを含むp側電極110と、光出射口110Aの周辺領域に形成され発振波長の光を吸収する光吸収層112と、発振波長の光を透過可能な材料から構成され光出射口110Aの中央領域に形成された位相調整層114とを有する。位相調整層の膜厚は、d1=(2a−1)λ/2n1から決定され(aは整数、λは発振波長、n1は屈折率)、光吸収層112の膜厚d2は、(n2−1)×d2+(1−n1)×d1=λ×b(bは整数、n2は屈折率)の条件を満足する。 (もっと読む)


【課題】基本横モードの光出力を低下させることなく、高次横モードの発振を抑制することができる面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】 出射領域内に設けられ、該出射領域内における周辺部の反射率と中心部の反射率を異ならせる透明な誘電体層を有し、コンタクト層109の厚さは、出射領域内における相対的に反射率の高い領域と相対的に反射率が低い領域とで互いに異なり、コンタクト層は、上部半導体DBRの最表面高屈折率層上に設けられ、相対的に反射率が低い領域では、最表面高屈折率層とコンタクト層109とを合わせた光学的厚さが、「発振波長/4」の奇数倍からずれている。 (もっと読む)


【課題】基本横モード発振の位相差を抑制した面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザは、基板と、基板上に形成されたn型の下部DBR102と、活性領域104と、活性領域上に形成されたp型の上部DBR106と、上部DBR106上に形成されたp側電極110と、発振波長を透過可能な材料から構成されp側電極110の光出射口110A内に形成された第1の絶縁膜112と、発振波長を透過可能な誘電体から構成され、第1の絶縁膜112の一部を被覆する第2の絶縁膜118とを有する。第2の絶縁膜118の膜厚は、第2の絶縁膜118からの光と第1の絶縁膜112からの光の位相差が抑制されるように調整され、かつ第2の絶縁膜118が被覆されている部分の反射率が第2の絶縁膜118が被覆されていない部分の反射率よりも高い。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で高出力かつレーザ発振波長が均一である面発光レーザアレイ素子を提供すること。
【解決手段】複数の面発光レーザ素子が2次元的に配列された面発光レーザアレイ素子であって、前記各面発光レーザ素子は、隣接する他の面発光レーザ素子が多い第1領域と少ない第2領域とでの温度差によるレーザ発振波長の差異が小さくなるように層厚を設定した温度補償層を光共振器内に有する。好ましくは、前記面発光レーザ素子は、イントラキャビティ構造を有する。 (もっと読む)


【課題】光信号を送信または受信する発光素子や受光素子を静電放電による破壊から保護する光伝送装置を提供する。
【解決手段】光伝送モジュール10は、光信号を送信する柱状の半導体層を含む素子部20Aおよび柱状の導電性の半導体層を含む支持部20Bが形成されたVCSEL20と、素子部および支持部と対向するように配され、素子部と光学的に結合するスラブ導波路30と、支持部上に設けられ、スラブ導波路に接触される導電性接着剤40とを有する。 (もっと読む)


【課題】電圧の上昇を抑制しながら選択酸化層とスペーサ層との界面での剥離を防止することができ、信頼性の向上を図ることが可能となる垂直共振器型面発光レーザを提供する。
【解決手段】基板上に、n型半導体ブラッグ反射鏡と、p型半導体ブラッグ反射鏡と、これらの間に設けられた活性層と、が積層され、
前記p型半導体ブラッグ反射鏡は、前記活性層上に、p型スペーサ層、選択酸化層を介して設けられ、該選択酸化層を酸化させて電流狭窄構造を形成した垂直共振器型面発光レーザであって、
前記選択酸化層に隣接して設けられた、該選択酸化層を酸化させる際に酸化の進行しない材料で構成された第1中間層と、
前記p型スペーサ層とのバンドギャップを調整するための、該第1中間層に隣接して設けられた第2中間層及び該第2中間層に隣接して設けられた第3中間層とが、前記選択酸化層と前記p型スペーサ層との間に配されている。 (もっと読む)


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