【課題】 コロイダルシリカ粒子表面の固体酸性の作用により、経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こし、変色やクラックが発生することがある。また、シリカゾルをケトンやエステル、アミド等の溶媒に分散させた場合、シリカの固体酸性の触媒作用によってゾルの分散媒である溶媒の分解や着色が起こり経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こす。
よって、経時的に樹脂の変質や分解等を引き起こさず、また、分散媒である有機溶媒の分解や着色が起きない有機溶媒分散シリカゾルを提供する。
【解決手段】 アルカリ土類金属イオンが表面に結合したコロイダルシリカ粒子を含む有機溶媒分散シリカゾルによる。 （もっと読む）

【課題】 多孔体と、多孔体の細孔内に付着した第１の液体と、細孔内に第１の液体が付着した多孔体を浸漬させる浸漬溶液を構成する第２の液体との様々な組み合わせに対して、多孔体の細孔内に残留する第１の液体の残留量を推定する方法を提供する。
【解決手段】
標本多孔体に対して第１の液体の吸着ポテンシャルを異なる細孔径ごとに複数求める吸着ポテンシャル作成工程（Ｓ１）と、標本多孔体の細孔径と標本平衡濃度比率との関係を求める標本平衡濃度比率関係作成工程（Ｓ２）と、多孔体の細孔径の分布を求める細孔径分布測定工程（Ｓ３）と、平衡濃度比率に対応する多孔体の細孔径を算出する細孔径算出工程（Ｓ４）と、多孔体の細孔内に残留する前記第１の液体の残留量を算出する残留量算出工程（Ｓ５）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液により循環洗浄を行い、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを十分に行い、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行い、更に純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う。 （もっと読む）

【課題】錯体の水素ガス吸着能を向上させ、水素ガス貯蔵タンクの大容量化を図る。
【解決手段】金属−有機骨格構造体（錯体）の１種であるＺｎ₄Ｏ（２，６−ナフタレンジカルボキシレートアニオン）₃を、ジエチルフォルムアミド（ＤＥＦ）中で合成する。次に、Ｚｎ₄Ｏ（２，６−ナフタレンジカルボキシレートアニオン）₃をＤＥＦごと耐圧容器１０に導入した後、ＤＥＦを、ＤＥＦに比して揮発性が高く、且つＤＥＦと相分離を起こさない溶媒、例えば、クロロフォルムに置換する。クロロフォルムを耐圧容器１０から排出すれば、Ｚｎ₄Ｏ（２，６−ナフタレンジカルボキシレートアニオン）₃が大気に暴露されることなく耐圧容器１０に充填され、これにより、水素ガス貯蔵タンクが構成される。 （もっと読む）

本発明は、後で組織を染色する目的でパラフィンに埋め込まれている生物学的サンプルに脱パラフィンを受けさせる方法および組成物に向けたものである。本組成物はミクロエマルジョンであり、これには水／油／界面活性剤ミクロエマルジョンが含まれ得、これは場合により共界面活性剤を含有していてもよい。本ミクロエマルジョンを用いると、キシレンもトルエンも用いることなく脱パラフィンを実施することが可能になりかつまた脱水用アルコール組成物も再水和用アルコール組成物も中間的に用いることなく溶媒交換を実施することも可能になる。 （もっと読む）

【課題】 圧縮機や脱水装置の能力が向上する運転条件を独立に設定可能とする。
【解決手段】 水分除去システム１は、２５℃、１気圧で気体である物質を作動物質として、作動物質の気体を液化させる液化手段２と、液化した作動物質を貯留する貯留槽３と、貯留槽３から水分を含む作動物質を取り出すとともに当該作動物質を気化することによって作動物質の気体と水分を分離する水分離手段４とが直列に接続され、かつ水分離手段４と液化手段２とが接続されて水分離手段４で気化された作動物質が液化手段２により再び液化される第１の循環路Ｃ１が形成され、貯留槽３と、貯留槽３から液化した作動物質を取り出すとともに当該作動物質を水分含有固体と接触させて水分を溶解して脱水を行う脱水手段５とが直列に接続され、かつ脱水手段５と貯留槽３とが接続されて脱水手段５から排出される水分を含む作動物質が貯留槽３に戻される第２の循環路Ｃ２が形成され、第１および第２の循環路Ｃ１，Ｃ２の系６，７が同時に又は別々に動作する。 （もっと読む）

【課題】
高い清浄度を有する半導体ウェーハの処理方法およびその装置を提供する。
【解決手段】
オゾン水処理工程では、オゾンガスを含む第１の超純水によりシリコンウェーハを処理する。第１の超純水は紫外線殺菌法で精製される。第１の超純水には、全有機物炭素量が１μｇ／Ｌ超２０μｇ／Ｌ以下含まれる。その結果、所定清浄度のシリコンウェーハが得られる。また、超純水リンス工程（必要により薬液洗浄工程を含む）では、第１の超純水に比べてＴＯＣ値が小さい第２の超純水によりシリコンウェーハを処理する。第２の超純水は紫外線酸化法で精製され、全有機物炭素量は１μｇ／Ｌ以下である。よって、高い清浄度を有したシリコンウェーハが得られる。 （もっと読む）

【課題】 １，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを主成分とする洗浄用溶剤組成物の洗浄能力をアップする。
【解決手段】 洗浄用溶剤組成物は、（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを１０〜８５重量％、（ｂ）１種または２種以上のプロピレングリコール系溶剤を５〜８０重量％、（ｃ）ニトロメタン、ニトロエタン、３−メトキシ・ブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノールおよびｄ−リモネンの中から選ばれる少なくとも１種の溶剤を１０〜８５重量％、含有する。 （もっと読む）

【課題】 良好かつ均一な水切り、乾燥効果を得ることができる水きり乾燥装置を提供すること。
【解決手段】 アルコール類とハロゲン化炭化水素類とからなる第一の溶剤を貯留する水切り槽部４と、ハロゲン化炭化水素類からなる第二の溶剤を貯留するすすぎ乾燥槽部１０と、これら第一の溶剤および第二の溶剤の蒸気を滞留させる蒸気滞留部１６，１７と、前記水切り槽部４およびすすぎ乾燥槽部１０と前記蒸気滞留部１６，１７とを連通させる連通部２０，２１と、前記水切り槽部４およびすすぎ乾燥槽部１０と前記蒸気滞留部１６，１７との連通を遮る方向に前記連通部２０，２１内において蒸気の流れを発生させる蒸気流発生手段１５，３２，３４，３５，３６と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】排水中から効率的にアルコールを回収することによって水切り溶液に含まれるアルコールの消費を抑制し、優れた水切り性を維持することができる水切り乾燥装置を提供する。
【解決手段】水切り乾燥装置１は、表面に水分が付着した被処理材５ａを水切り溶液６１中に浸漬して、被処理材５ａから水分を除去する装置である。この水切り乾燥装置１は、フッ素系溶剤とアルコールとの混合溶液よりなる水切り溶液６１を蓄える水切り槽２１と、水切り槽２１からあふれ出た水切り溶液６１を蓄えると共に水切り溶液６１から水分濃度の高い分離液６２を浮上分離させるための分離槽２２と、パーベーパレーション膜を用いて分離液６２から水分を除去して濃縮させたアルコールを回収するアルコール回収装置４とを有している。 （もっと読む）