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国際特許分類[B01D53/70]の内容

国際特許分類[B01D53/70]に分類される特許

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【課題】活性炭及び/又は触媒を用いた排オゾン処理装置において、安全に排オゾンを所定値以下に低減して信頼性を高め、かつ設備及び運転コストを低減すること。
【解決手段】オゾンなどを含む排ガス1が流路2に流入し活性炭塔4へ流入する。活性炭塔4では活性炭により排ガス1に含まれるオゾン等のガスが分解される。分解された排ガスの流路に設置されたガス濃度計3によりオゾンガス濃度が測定された後、空気等の希釈ガスが流れ込む分岐流路11でオゾンを含む排ガスは空気により希釈され、ブロワ6によって大気中へ放出される。制御装置7は、ガス濃度計3の測定値と、入力手段8から受信した設定値である、大気放出オゾン規制値CA、活性炭が発火するオゾン濃度CHに基づき、警報の発信9、排ガスの流入遮断10、ガス流路の切替え、希釈用空気の流量調整19などを行う。 (もっと読む)


【課題】低濃度PCBのみを対象としていることに着目し、燃焼室でのPCBの分解を主目的とせず、PCBを液体中に含まれている状態から排ガスに移行させることを主目的として、低濃度PCBを含有する絶縁油を内燃機関内で焼却処理し、その際に排出する低濃度PCBを含有する排ガスを加熱処理することによって、低濃度PCBを分解する方法を提供する。
【解決手段】低濃度PCBを含有する絶縁油2を内燃機関1内に噴射して焼却処理した後に、内燃機関1から排出された排ガスを850℃以上の温度に保持された二次燃焼室5に導入して2秒以上滞留することにより、上記排ガス中に含まれる低濃度PCBを分解することを特徴とする低濃度PCBの無害化処理方法。 (もっと読む)


【課題】除害用加熱部において発生する熱を利用しながら排ガス処理を行う排ガス処理装置及びその排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプ1と、前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部3と、前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管2と、前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバー5と、を具備し、前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管2を加熱することを特徴とする。 (もっと読む)


この発明は、プラスチック材料と金属材料との混合物を含有する材料を処理する方法に関するものであり、次の工程を含む:−被処理材料を裁断する工程;−裁断した材料を熱分解する工程;−熱分解した材料に対して行われるものであって、一方における鉄系金属フラクションと他方における非鉄残渣をもたらす、第1の磁気分離工程;−非鉄残渣に対して行われるものであって、一方における非鉄金属フラクションと他方における非磁性残渣とをもたらす、第2の磁気分離工程。この発明は、本方法を実施するための設備にも関する。 (もっと読む)


【課題】固体吸着剤の融着を防止する。
【解決手段】ガス処理システム10は、ガス通路12と、酸性ガス成分を中和反応により吸着可能な固体吸着剤Aが充填された第1反応室22のガス通路12に面する側とガス通路12に面しない側にそれぞれ第1内側開口24と第1外側開口28が設けられた第1化学吸着装置20と、固体吸着剤Aが充填された第2反応室42のガス通路12に面する側とガス通路12に面しない側にそれぞれ第2内側開口44と第2外側開口48が設けられた第2化学吸着装置40とを備えている。スライドバルブ110は、ガス供給管71から供給される未処理ガスが第1化学吸着装置20、ガス通路12及び第2化学吸着装置40をこの順に通過する順方向状態か、第2化学吸着装置40、ガス通路12及び第1化学吸着装置20をこの順に通過する逆方向状態かを切り替えるものである。 (もっと読む)


【課題】 PFCガスのプラズマ分解処理において、排ガスに与えたエネルギーを有効利用する方法およびプラズマ分解処理で生成したガスの再結合を防止する方法を提供する。
【解決手段】 排ガス中のパーフルオロコンパウンドガス(PFCガス)を分解するためのプラズマ処理を用いて該排ガスの処理を行う際に、該プラズマ処理により生じるプラズマにより電磁流体発電を行うことによりエネルギー回収を図ることを特徴とする、パーフルオロコンパウンドガスを含有する排ガスの処理方法。 (もっと読む)


【課題】セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気して塩素等を除去するにあたり、広い設置場所を必要とせず、装置及び運転コストを低く抑えるとともに、セメント焼成系統の熱効率の低下を抑制する。
【解決手段】セメントキルン26の窯尻23から最下段サイクロン22に至るまでのキルン排ガス流路に穿設され、キルン排ガス流路からキルン排ガスを抽気する抽気孔23aと、抽気孔に連通し、抽気孔から抽気された抽気ガスG2が通過する筒部14と、筒部を通過する抽気ガスを冷却する冷却部16と、筒部の内部に付着した付着物を除去する付着物除去部20とを備える処理装置10等。筒部から排出された抽気ガスを、最下段サイクロンから最上段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路に戻すルートを備えることができる。 (もっと読む)


【課題】 揮発性汚染物質を包含する飽和帯および不飽和帯を含む汚染地下領域に対し、揚水曝気処理による浄化方法において、低コストで浄化処理期間を短縮し、かつ周辺環境に対し安全である浄化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 揮発性汚染物質を包含する汚染土壌領域に対し、揚水井から地下水を揚水する揚水工程と、揚水工程で揚水された地下水を曝気槽においてオゾンガスで曝気しながら紫外線を照射させることにより揮発性汚染物質を分解する分解工程を備える汚染土壌及び地下水の浄化方法において、分解工程で処理された地下水を注入井から土壌に戻す注入工程を有すると共に注入井の空間部を吸引する吸引工程を有し、吸引工程によって注入井内の地下水からオゾン及び揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させ、不飽和帯から揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させて、注入井の空間部で揮発性汚染物質を分解することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】流体中に含まれる難分解性化合物を効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】難分解性化合物を含むPFCガス31が導入される処理槽19と、処理槽19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54と、処理槽19内のナノバブル含有水中にPFCガス31を含むマイクロナノバブルを発生させるマイクロナノバブル発生部79とを備える、難分解性化合物を含む流体を処理するための処理装置20を提供する。 (もっと読む)


【課題】 揮発性汚染物質を包含する飽和帯および不飽和帯を含む汚染地下領域に対し、揚水曝気処理による浄化方法において、低コストで浄化処理期間を短縮し、かつ周辺環境に対し安全である浄化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 揮発性汚染物質を包含する汚染土壌領域に対し、揚水井から地下水を揚水する揚水工程と、揚水工程で揚水された地下水を曝気槽においてオゾンガスで曝気しながら紫外線を照射させることにより揮発性汚染物質を分解する分解工程を備える汚染土壌及び地下水の浄化方法において、分解工程で処理された地下水を注入井から土壌に戻す注入工程を有し、曝気槽内の気相部を注入井内の地下水に供給することにより、注入井内の地下水にオゾンを混合して地下水中のオゾン濃度を上げ、注入井内の地下水中で揮発性汚染物質を分解することを特徴とする。 (もっと読む)


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