【課題】塗布対称物の塗布面に塗布される材料の厚みが不均一になることを抑制できる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１０は、アプリケータ５０と、材料供給部８０と、第１〜３の移動機構とを備える。前記アプリケータは、メニスカス柱形成部Ｓと、余剰材料回収用の凹部５２とを備える。前記材料供給部は、前記アプリケータに前記材料を供給する。前記第１の移動機構４０は、前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を前記塗布面に沿って相対的に移動する。前記第２の移動機構は、前記メニスカス柱形成部と前記塗布面との間に形成されるメニスカス柱を、前記塗布面と前記凹部との間に移動するように前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を相対的に移動する。前記第３の移動機構は、前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を離れる方向と近づく方向とに相対的に移動する。 （もっと読む）

【課題】接着剤塗布装置および接着剤塗布方法において、接着剤を塗布する際、接着剤が過剰に塗布された場合でも、過剰分を被塗布体から除去して被塗布体に塗布される接着剤の量を調整する。
【解決手段】被塗布体Ｗに接着剤６を供給するシリンジ７と、接着剤６を毛細管現象によって吸引するスリット１３ａが設けられたカラスグチ１３と、カラスグチ１３を被塗布体Ｗに対して相対移動させ、カラスグチ１３を被塗布体Ｗに供給された塗布接着剤４に接触させるテーブル１２および電動ガイド１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】毛管状隙間を有するノズルによりレジスト塗布面を迅速に均一に乾燥させることが可能なレジスト塗布方法および塗布装置、並びに該レジスト塗布方法を用いたフォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】被塗布面１０ａを下方に向けた基板１０にレジスト液を塗布する方法であって、液槽に溜められたレジスト液を、ノズル２４の毛細管現象によって被塗布面１０ａに導いて接液させ、ノズル２４と基板１０とを水平方向に相対移動させることにより、被塗布面１０ａにレジスト液１１０を塗布し、被塗布面１０ａに対し、一定方向にほぼ一定の相対流速で被塗布面１０ａと平行な気流を供給し、気流を被塗布面１０ａに接触させることにより、レジスト液１１０の乾燥を行うレジスト塗布方法および塗布装置、並びに該レジスト塗布方法を用いたフォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な接液によって均一なレジスト膜を形成することができるフォトマスクブランク、フォトマスク及びそれらの製造方法並びに塗布装置を提供すること。
【解決手段】レジスト液２１を塗布装置に備えられたノズル２２の毛細管現象により上昇させ、上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて被塗布面１０ａにレジスト膜を形成することを含むフォトマスクブランクの製造方法であって、接液の際には、ノズルの一端が、他端より被塗布面に接近することにより、前記ノズル内の前記塗布液が、前記ノズルの一端において、被塗布面に最初に接液し、前記最初に接液した点を接液起点として、前記一定長さのノズルの全長にわたる、接液がなされるようにした。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＰコーターを用いて、特に６インチ程度の小さいサイズの基板に対して、基板面内のレジスト膜厚を均一にする。
【解決手段】液槽２０に設けられた排出管６２の途中に液位調整管７１を連結し、その他端を開口７１ａとし、液位調整管７１の途中を分岐管７１ｂで分岐し、分岐管７１ｂの端部に不活性ガス７２が加圧封入されたガスボンベ７３を接続する。さらに開口７１ａ側の液位調整管７１に制御弁８０を，分岐管７１ｂ側に制御弁８１を設け、液位制御手段を構成し、液位調整管７１内に封入された不活性ガス７２の圧力を加減調整する。予め、本発明の液位制御手段を備えない塗布装置によって、サンプル基板にレジスト剤を塗布し、基板の移動方向Ｖに対するレジスト膜厚を測定する。この膜厚情報から、ポンプ７３により不活性ガス７２の圧力を加減調整することによって液槽２０内の液位を昇降させる。これにより、ノズル２２からのレジスト剤２１の吐出量を調整して、レジスト膜厚を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の膜厚変化を抑制し得るフォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び塗布装置を提供すること。
【解決手段】液槽２０と、該液槽２０に貯留されたレジスト液２１を毛細管現象により上昇させる塗布ノズル２２とを含む塗布手段２により上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、塗布ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて基板１０の被塗布面１０ａにレジスト膜２１を形成する方法であって、基板１０へのレジスト液２１の塗布による該レジスト液２１の消費により低下する液槽２０のレジスト液２１の液面高さの低下量ｄと、基板１０の被塗布面１０ａに形成されるレジスト膜の膜厚変化との関係に基づいて決定された、レジスト膜の膜厚変化を許容範囲内に収めるための液槽２０のレジスト液２１の液面面積を少なくとも有する塗布手段２によりレジスト膜を形成することとした。 （もっと読む）

【課題】欠陥部を短時間で修正することが可能な塗布ユニットを提供する。
【解決手段】この塗布ユニット１は、底に貫通孔２ａが形成され、修正インク４が注入された容器２と、長さ方向に貫通する中空孔５ａを有し、貫通孔２ａの内径と略同じ外径の塗布針５と、塗布針５の先端部を貫通孔２ａの上から下降させて貫通孔２ａの下に突出させる駆動部７とを備える。したがって、塗布針５の先端部に付着した修正インク４に加え、塗布針５の中空孔５ａ内の修正インク４も白欠陥部２６に塗布できる。 （もっと読む）

【課題】良好な接液によって均一なレジスト膜を形成することができるフォトマスクブランク、フォトマスク及びそれらの製造方法並びに塗布装置を提供すること。
【解決手段】レジスト液２１を塗布装置に備えられたノズル２２の毛細管現象により上昇させ、上昇させたレジスト液２１を下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａに接液させ、ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて被塗布面１０ａにレジスト膜を形成することを含むフォトマスクブランクの製造方法であって、レジスト液２１を塗布装置又は基板１０の被塗布面１０ａに設けられた一か所の接液起点Ｐ１から接液させることとした。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＰコーターを用いて基板表面にレジスト膜を形成する場合、基板面内の塗布膜厚の均一性が良好なマスクブランクの製造方法、及び基板面内の塗布膜厚の均一性を向上させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤２１を収容した液槽２０からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。このレジスト膜形成工程において、前記液槽２０と連通し、レジスト剤を収容する緩衝槽６０を配置することにより、被塗布面へのレジスト剤の塗布中は、液槽内のレジスト剤の液面高さの変動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＰコーターを用いて基板表面にレジスト膜を形成する場合、塗布ムラを低減し、塗布膜厚の均一性が良好なマスクブランクの製造方法、及び基板面内の塗布膜厚の均一性を向上させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤の塗布中は、液槽内に浸漬させたノズル２２の隙間２３を気泡が塞がないように、隙間２３近傍からノズル外側に連通する通路孔３０ａ，３０ｂを経て、気泡を隙間２３以外の部位へ誘導させる。 （もっと読む）