ポリマー基材の上に電子デバイスを製作するための装置及び方法は、ポリマー基材をプラテンの上に位置的に拘束すること、及び拘束されたポリマー基材を、ポリマー基材の少なくともガラス転移温度まで加熱することを提供する。拘束されたポリマー基材に熱加工可能なインクを塗布して、そのポリマー基材の上に電子デバイスの層の少なくとも一部を形成する。
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本発明の開示内容は、ＬＥＤその他のディスプレイ装置の一部を形成する基板の上に薄膜を積層する方法に関する。また、１つの実施の形態では、本発明の開示内容は基板上にインクを積層する装置に関する。当該装置は、本装置は、インクを受け取るためのチャンバと、入口ポートと出口ポートとを有し、入口ポートにおいてインクをチャンバから受け取り、出口ポートからインクを吐出する放出ノズルと、チャンバから放出ノズルの入口ポートに送られるインクを量り取る吐出装置と、を備え、前記チャンバは、複数の懸濁した粒子を有する液体状態のインクを受け取り、当該インクは脈動的に量り取られてチャンバから放出ノズルに送られ、放出ノズルはキャリア液を蒸発させて、実質的に固体の粒子を基板上に積層させる。 （もっと読む）

【課題】エア等の異物を簡単に除去できる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】エネルギＵＶを加えられて硬化する液状のガスケット材料２を収容する収容容器３と、前記ガスケット材料２をワーク４に塗布する塗布装置５との間に配置される異物除去装置１０において、前記収容容器３と前記塗布装置５とを接続するものであって、窓１８が形成された接続管１１と、前記窓１８を介して前記ガスケット材料２を監視し、前記ガスケット材料２に含まれる異物８を検出する異物検出装置１９と、前記異物検出装置１９が前記ガスケット材料２に含まれる異物８を検出した場合に、前記異物８を含む前記ガスケット材料２に対して前記エネルギＵＶを加えるエネルギ付加装置２０と、前記エネルギ付加装置２０が前記エネルギＵＶを加えて硬化させたガスケット材料２ａを除去する除去装置１６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】液滴の着弾位置のズレ及び着弾面積のバラツキを防止することができる液滴噴射塗布装置を提供する。
【解決手段】液滴噴射塗布装置１において、塗布対象物２の表面に形成された撥水膜に向けて、撥水膜を除去する光を点状に照射する照射部Ｈ１と、撥水膜が除去されて点状に露出する塗布対象物２の表面である複数の親水領域に向けて液滴を噴射する液滴噴射ヘッドＨ２とを備える。 （もっと読む）

【課題】１つの水洗ブース２内で１つのワークＷに対して少なくとも３回の水洗工程を実施する水洗設備を提供する。
【解決手段】それぞれ給水可能な洗浄水貯蔵タンク３６〜３８が水洗工程ごとに分けて配設され、各水洗工程において対応する１つの洗浄水貯蔵タンク内の洗浄水を水洗ブース２内に送出する洗浄水送出手段が併設され、水洗ブース２の底部からの排水回収配管系には、最終水洗工程を除く各水洗工程での回収排水を実施中の水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６，３７へ戻すと共に、最終水洗工程での回収排水をその直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７へ戻す切換弁５５ａ，５５ｂが設けられ、最終水洗工程を除く水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７から直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６へ貯蔵水を流動させる溢水配管５６が設けられ、開始水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６には溢水配管５７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板上に供給する際に、処理液と基板との間の放電により生じる基板へのダメージを抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、導電性の処理液を基板９に向けて連続的に流れる状態で吐出する吐出部３２を備える。吐出部３２の吐出口３２１の近傍には導電性の接液部３２２が設けられ、接液部３２２は電位付与部４１に接続される。また、基板９の周囲を囲むカップ部２３の帯電により処理対象の基板９は誘導帯電する。処理液を基板９上に供給して基板９を処理する際には、処理液の吐出開始時に接液部３２２を介して処理液に電位が付与され、基板９上に吐出される処理液と基板９との間の電位差が低減される。これにより、処理液と基板９との間の放電により生じる基板９へのダメージを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】塗布精度及び生産効率を向上させることを可能とするインク塗布装置及びインク塗布方法を提供する。
【解決手段】インク塗布装置１は、インクジェットヘッド３の下方においてロール紙１１を走行させる。インク塗布装置１は、吸引装置５を動作させ、インクジェットヘッド３の吸引口１７から巻取材１１表面のエアを吸引する。インク塗布装置１は、インクジェットヘッド３のノズル口１５からインクを吐出し、巻取材１１に対してインク塗布を行う。インク塗布装置１は、巻取材１１とインクジェットヘッド３との相対速度を大きくしても、インク塗布領域では巻取材１１表面におけるエア流の発生が抑制されるので、巻取材１１に対するインク塗布精度及び生産効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】機能液の物性の変化を抑制しつつ、簡易な構造で機能液の圧力を調整できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドと、吐出ヘッドと流路を介して接続され、吐出ヘッドに供給するための機能液を収容する第１空間を形成する第１容器と、第１容器を収容し、第１容器との間で第２空間を形成する第２容器と、第２空間の圧力を調整する圧力調整装置と、第１容器の機能液の温度を調整する温度調整装置とを備える。第１容器の少なくとも一部は、圧力調整装置の動作に応じて変形する膜で形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成す
ることが可能となるパターン形成方法及パターン形成装置を提供する。
【解決手段】ベース部材に対してマザーシートの膨張方向（Ｘ矢印方向）に沿ってスライ
ド移動可能となるキャリッジＣＡ１〜ＣＡ１５を設けた。また、互いに隣接するキャリッ
ジＣＡ１〜ＣＡ１５をマザーシートの膨張方向（Ｘ矢印方向）に沿って伸長する連結部材
Ｌを介して連結した。そして、マザーシートの膨張度合いに基づいて、キャリッジＣＡ１
〜ＣＡ１５間の距離を、マザーシートの膨張方向（Ｘ矢印方向）に沿って補正するように
した。従って、各ノズルの配置ピッチがキャリッジＣＡ１〜ＣＡ１５毎に補正される。 （もっと読む）

【課題】露光装置へのパーティクルの持ち込みを極力少なくすることができる塗布膜形成装置を提供すること。
【解決手段】レジスト膜の露光前に基板に対してレジスト膜等からなる塗布膜を形成する塗布膜形成装置は、基板Ｗに塗布処理等を行う処理部と、基板を処理部へ搬入する前に少なくとも基板の裏面およびエッジ部を洗浄する塗布前洗浄ユニットと、基板を処理部へ搬入する前に基板Ｗの裏面およびエッジ部の状態を検査する検査ユニットと、洗浄後、検査ユニットで基板の検査を行わせ、その検査結果に基づいて基板の裏面およびエッジ部におけるパーティクルの状態が許容範囲か否かを判断し、許容範囲であった場合に前記処理部への基板の搬入を許容し、許容範囲からはずれた場合に前記塗布前洗浄ユニットで基板の洗浄を行ってから処理部への基板の搬入を許容する制御部とを有する。 （もっと読む）