【課題】塗装不良品の塗装欠陥部の補修作業を、従来のような環境問題や高コスト化を引き起こすことなく、作業者によらず均一に、かつ短時間で、バラツキやムラを生ずることなく行うことができる塗装不良品の表面処理方法を提供する。
【解決手段】表面に、塗装欠陥部を有する塗膜が形成されてなる塗装不良品の表面処理方法であって、塗膜に投射材を吹き付けることにより塗膜の少なくとも一部を剥離する表面処理方法である。投射材として、粒径３００μｍ以下であって、アスペクト比の平均値が１．５未満のものを用いる。 （もっと読む）

本発明は、基板箔（８）と少なくとも１つのプラスチックコーティング（１２）とを含む積層物を処理するための方法であって、ｉ）積層物を形成するステップと、ii）プラスチックコーティング（１２）に粗面を設けるステップとを備える方法、および当該方法によって得られる積層物に関する。
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【課題】基礎体表面からアスベスト含有物を除去する際にアスベストが空中に飛散するのを防止し、かつ、除去したアスベスト含有物を簡易に処理できるアスベスト処理方法を提供する。
【解決手段】飛散防止液を予めアスベスト含有物に塗布した後、基礎体表面からアスベスト含有物を除去するアスベスト処理方法において、（ａ）ポリアクリルアミド溶液又は水ガラスからなる前記飛散防止液を使用して、この飛散防止液をアスベスト含有物に低圧噴霧ノズルから噴霧して、アスベスト含有物を飛散防止液に包容させる噴霧工程と、（ｂ）前記飛散防止液を含浸させたアスベスト含有物に高圧噴射ノズルから高圧水を噴射して、前記基礎体表面から該アスベスト含有物を剥離させる剥離工程と、（ｃ）前記剥離したアスベスト含有物に凝集剤をふりかけてゲル状にする凝集工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした塗布膜の成膜方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハＷに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜方法において、塗布液の塗布膜が形成されたウエハを、処理室６内の溶剤ガス雰囲気下においた状態で、溶剤ガス供給ノズル１０から溶剤ガスをウエハの表面に向かって噴射すると共に、ウエハと溶剤ガス供給ノズルを相対的に平行移動させて、塗布液の塗布膜を平坦化する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハに例えばレジスト膜よりなる塗布膜を形成する際に用いられる減圧乾燥装置において、ウエハ面内の温度を制御することにより膜厚の均一性を高めること。
【解決手段】本発明の減圧乾燥装置は、塗布膜の成分と溶剤とを混ぜ合わせてなる塗布液が塗布された基板を載置するための載置部が内部に設けられた密閉容器と、前記載置部に設けられた基板を加熱するための加熱手段と、前記密閉容器に排気路を介して接続され、前記密閉容器内を減圧雰囲気にして、基板上の塗布液から溶剤を揮発させるための真空排気手段と、前記載置部上に設けられ、前記載置部とは熱伝導率が異なる材質により構成される。このような構成にすることで熱伝導率の違いによりウエハ温度を面内において制御することができ、膜厚の面内均一性が向上する。 （もっと読む）

【課題】ワークに表面処理等を施す際に、ワークを液内に浸漬させる工程の時間の短縮を図ると共に、ワークの精度の悪化を防ぐ。
【解決手段】処理液１４に対し波の発生が不可避となる速度でボデー１０を投入する際、又は処理液１４内でボデー１０に振動を与える際に生ずる、振幅の大きな波を、液槽内を波が伝播する方向に位置する液槽１６の縦壁１６ａ、１６ｂに設けた波消しブロック１８に衝突させ、反射させる。そして、波消しブロック１８によって反射した波が、後続の波を打消すことで、波の振幅を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】表面を手触りよく、また見栄えよく塗装して仕上げることのできる木質系床材の塗装方法を提供する。
【解決手段】木質系床材の塗装方法であって、上記木質系床材に下塗り塗装を施し、下塗りした木質系床材の表面を乾燥後、圧締ロールによってロール加工し、圧締された下塗り塗装膜をさらに上塗りし、仕上げることを特徴とする木質系床材の表面塗装方法。上記木質系床材を厚さ５〜１０ｍｍの無垢単板Ａとすることが好ましい。また、上記圧締を鉄ロールと硬質ゴムロールとの間で行うとともに、圧締圧力は５〜２０ｋｇｆ／ｃｍ² とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 被乾燥体を減圧下で乾燥するときに、収容室内に残留した溶媒成分の影響を低減させて、膜の品質劣化を防ぐことが可能な乾燥方法、乾燥機、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 乾燥機１００は、被乾燥体Ｑを収容可能な収容室１１８（１１９）と、第１の減圧過程で、収容室１１８を減圧する第１の減圧部としての第１減圧ポンプ１０２と、被乾燥体Ｑを乾燥するための乾燥部１１０とを備えている。第２の減圧過程で、収容室１１９内を減圧する第２の減圧部としての第２減圧ポンプ１０３、被乾燥体Ｑを乾燥した後に、収容室１１９内をクリーニングするための除去部１２０とを備えている。さらに、第１減圧ポンプ１０２と、乾燥部１１０と、第２減圧ポンプ１０３と、除去部１２０と、を制御する制御部１４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布中の塗布膜変動要因を排し、前計量方式の利点を生かすと共に、後計量方式の利点も生かしつつ、さらに塗布液膜の精度を向上させて安定した良好な塗布が行われる塗布方法を提供することを課題にする。
【解決手段】バックアップローラに保持され連続的に走行している被塗布物に対向して、走行方向上流側に前計量型の塗布器を設け、該塗布器により一次塗布膜を形成し、下流側に表面層を弾力層にした塗工ローラを設け、該塗工ローラを前記バックアップローラに同期させながら前記一次塗布膜上に押しつけて二次的に塗布膜が平準化されることを特徴とする塗布方法。 （もっと読む）

【課題】 膜厚を容易に制御することができ、平坦な膜を容易に得ることができる膜形成方法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 加圧工程でインク５０の周囲の圧力を加圧さすることにより、インク５０に含まれる混合溶媒の蒸発速度を減少させ、インク５０の中央部５０ａからの溶媒の蒸発量（Ｊ_Ｅ）及び周縁部５０ｂからの溶媒の蒸発量（Ｊ_Ｃ）を減少させることができる。これにより、Ｊ_ＥとＪ_Ｃとの差の絶対値｜Ｊ_Ｅ−Ｊ_Ｃ｜が小さくなるため、インク５０の内部において中央部５０ａから周縁部５０ｂへ流れる混合溶媒の流速を減少させることができる。混合溶媒の流速を減少させることにより、インク５０の内部で溶質が拡散するようになり、当該インク５０の中央部５０ａと周縁部５０ｂとで溶質の濃度を均一にすることができる。 （もっと読む）