【課題】個々の住宅等に取り付けることが可能であり、且つ、荷物等を持ったまま、背中や髪の毛に付着した花粉等を容易に除去することができる花粉等除去装置を提供する。
【解決手段】住宅１００等の玄関６５近傍に設けられた壁体６６内部にチャンバー４０を配設し、前記チャンバー４０に、単数又は複数の縦長形状の吹き出し開口部４０ａ・４０ｂ・４０ｃを形成し、前記チャンバー４０に、吹き出し方向が可変である可変吹き出し開口部４５を具備し、前記可変吹き出し開口部４５を、地面若しくは床面から１５０ｃｍ以上１９０ｃｍ以下の高さまでの間に配設した。 （もっと読む）

基板表面を、有機リン酸または誘導体で処理したワイプに接触させるステップと、このワイプを基板表面の端から端まで移動させるステップとを含む、基板表面を処理する方法。実質的に水分を通さない容器内に、有機金属化合物で処理された材料を含むパッケージと、希釈剤を実質的に通さない容器内に、希釈剤に溶解または分散された、有機酸またはその誘導体を含むパッケージとを含む、表面を処理してその物理的性質を変化させるのに有用なキット。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、プラスチック、ガラス、金属等の硬質表面に対して良好な水切れ性、特に水切れの持続性を付与することができる、硬質表面の水切れ性付与剤、及びそれを含有する硬質表面用洗浄剤の提供。
【解決手段】 重量平均分子量が１００万〜１０００万であるカチオン化多糖を含有する硬質表面の水切れ性付与剤、この水切れ性付与剤、及び界面活性剤を含有する硬質表面用洗浄剤、並びにこの水切れ性付与剤あるいは洗浄剤を硬質表面に適用し、硬質表面に水切れの持続性を付与する方法。 （もっと読む）

【課題】 扉などを設けることなく板状収容物への塵埃の付着を抑制する。
【解決手段】 カセット本体１１は、前面側が開口した略箱型をなすとともに、その開口部１５を通してマザーガラスＭが出し入れ可能とされている。カセット本体１１の天板１４の周縁部には、囲い壁１７が立設されている。カセット本体１１の天板１４の上面には、所定の間隔を空けて複数の凸部１８が並んで設けられている。天板１４上に塵埃Ｄが載ったとしても、その塵埃Ｄには凸部１８が干渉することで、天板１４上での移動が規制される。また天板１４上に塵埃Ｄが載ったとしても、その塵埃Ｄには囲い壁１７が干渉することで、天板１４からの落下が防止される。これにより、天板１４に載った塵埃Ｄが天板１４から落下して、開口部１５内に侵入するのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】 段ボールシートおよび紙粉や紙片の静電気を除去することにより、段ボールへの異物混入や印刷品質の向上を図ると同時に、製函工程のシート供給部やスロッタ部でのトラブルの発生が押さえられる。
【解決手段】 図１のように、電位センサ３で測定した電位を制御装置６でシート１と逆の極性に帯電させて中和すべく、樹脂製の除電ロール２に対する樹脂製ブラシ４の押さえ強さをアクチュエータ５で自動調整する。 （もっと読む）

【課題】屋外にある各種用途に供されている円柱の汚れを除去し再付着させない様な方法がないものかが課題である。
【解決手段】線様やテープ様（以下該テープという）で、長さ１５センチメートル以上で円形を保持出来る該テープで円柱にゆるい輪をかける。該テープの外側は鱗状でなお一定の角度をもつ風受けがあり、風を受けて該テープは円柱上で回転する、さらに風が強くなると回転しながら、設けた角度のため浮上し移動（上昇、横行、斜行）する。該テープの内側には回転に耐えられるだけの強度と潤滑性をもたせ、さらに汚れ除去と静電気除去の為の繊維ブラシをもうける。 （もっと読む）

【課題】家庭、旅館、ホテル、あるいは飲食店、さらには車両、航空機などにはトイレなどに適用できるトイレクリーニングシステムを提供する。
【解決手段】内部に便器１１４が設けられたトイレ室１１０及び該トイレ室１１０を含むトイレ空間の床１１２及び壁１１３の少なくとも一部の表面に、炭素ドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層１１６を設ける一方、前記多機能層１１６に可視光又は紫外光を照射する光源１１７を設ける。 （もっと読む）

本発明は、酸化物に対する重量％で、組成ＳｉＯ_２を４０〜８０重量％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜４０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｐ_２Ｏ_５を０〜３０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｋ_２Ｏを０〜２５重量％、ＣａＯを０〜２５重量％、ＭｇＯを０〜１５重量％、ＳｒＯを０〜１５重量％、ＢａＯを０〜１５重量％、ＮｎＯを０〜３０重量％、Ａｇ_２Ｏを０〜５重量％、ＣｕＯを０〜１０重量％、ＧｅＯ_２を０〜１０重量％、ＴｅＯ_２を０〜１５重量％、Ｃｒ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｊを０〜１０重量％、Ｆを０〜１０重量％含み、ＺｎＯ＋Ａｇ_２Ｏ＋ＣｕＯ＋ＧｅＯ_２＋ＴｅＯ_２＋Ｃｒ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３の合計は、５〜７０重量％である抗微生物作用ホウケイ酸ガラスに関する。 （もっと読む）

本発明は、半導体性を有する光触媒の薄膜に、蛍光灯等の光を当て、当該光に含まれる紫外線で光触媒薄膜を光励起して汚れを光分解し、自動洗浄することで、表面の汚れを処理するための工程を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハの酸化膜耐圧不良を引き起こすような金属汚染の防止効果を長く維持して、ウェーハを保管できる枚数を飛躍的に増加させることができるシリコンウェーハ保管方法を提供する。
【解決手段】 シリコンウェーハ保管方法に使用する保管用液にキレート剤と酢酸を添加する。特に、濃度が０．０００１〜０．０１ｗｔ％のキレート剤と、濃度が０．０１〜１ｗｔ％の酢酸を添加して、保管用液のｐＨを４〜７とする。キレート剤がクエン酸、マロン酸、シュウ酸、またはリン酸である。 （もっと読む）