【課題】基板の両面に位置するモールドの位置合わせが可能となり、両面同時の光インプリントを高精度に行うことができ、スループットが向上する光インプリント用モールド及び該光インプリント用モールドを用いた光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも２つ有し、前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられている光インプリント用モールドである。 （もっと読む）

【課題】光インプリントリソグラフィにより、基板と光硬化層とからなり耐光性を有し着色が少ない複合体を少ない工程で製造する方法を提供する。
【解決手段】凹凸のパターンが形成されたモールド及び可視光に対して実質的に透明で３７０ｎｍ未満の波長領域の全領域における各波長の光の透過率が１０％以下である基板を用いて光インプリントリソグラフィにより基板と光硬化層とからなる複合体を製造する方法であって、前記基板又は前記モールド上に、少なくとも１つの光重合性基を有する化合物と、３７０ｎｍ以上の波長領域の光に感光して前記光重合性基を有する化合物の重合開始剤として作用すると共に構造が変化して可視光領域にある吸収強度が減少する特性を有する光重合開始剤とを含有する液状の光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層を形成する工程と、前記基板及びモールドで前記光硬化性組成物層を挟み込む工程と、前記基板及び前記モールドで挟み込まれた状態のままの前記光硬化性組成物層を前記基板側から３７０ｎｍ以上の波長領域を含む光で露光して光硬化層とする工程と、この光硬化層から前記モールドを離型する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は光学フィルム用金型の製造方法に関し、平面または凸凹面状が陰刻された金型の表面に、レーザを用いて立体構造物を重ね加工するステップを含むことを特徴とする光学フィルム用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の金型の製造方法によると、自由な点加工が可能で、突起の高さ及び形成位置が制御でき、かつ凸凹面のような屈曲面においても深さが均一な突起を形成することができるという長所がある。 （もっと読む）

【課題】ナノプリント法において、基板からスタンパを剥離する工程を高精度かつ容易に行うことを目的とする。
【解決手段】プレス装置を用い、基板上に微細構造を形成するためのスタンパにおいて、前記スタンパが剥離機構を有することを特徴とするナノプリント用スタンパ、及び該スタンパを用いるパターン転写方法。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント回数に伴う離型性の劣を改善し、離型性の効果をナノインプリント回数によらず一定にするナノインプリント用金型を提供する。
【解決手段】ナノオーダの凹凸構造からなる転写用パターンｐ１を有し、樹脂からなる被転写材料に押し当てて転写用パターンｐ１を転写するためのナノインプリント用金型１において、金型用基板２上にフッ素化Ｓｉ酸化膜３が形成され、そのフッ素化Ｓｉ酸化膜３に転写用パターンｐ１が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】微細ガラスパターンを高いパターン精度で形成することができるインプリントモールド用マスクブランクを提供する。
【解決手段】ガラス基板１と該基板上に形成された薄膜２とを有するインプリントモールド用マスクブランク１０であって、上記薄膜２は、Ｃｒ又は酸素を実質的に含まないＣｒ化合物を材料とし、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な厚さに形成された上層５と、Ｔａ又は酸素を実質的に含まないＴａ化合物であって、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成された中間層４と、Ｃｒ又はＣｒ化合物で形成された下層３との積層膜からなる。 （もっと読む）

【課題】表皮材の表面に形成されている凹凸模様の消滅を防ぎつつ、立体的な形状を有する本革表皮材を成形によって形成する。
【解決手段】本発明は、表皮材２の表面にシボ模様が形成されている本革表皮材１の成形方法であって、表皮材２の裏面に液状のアクリル樹脂４０を塗布する塗布工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２から表皮材２に含まれている水分を除去させる表皮材水分除去工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２をアクリル樹脂４０の軟化温度以上の温度に加熱したプレス機７０に載置し、熱プレスにより表皮材２を立体的な形状に賦形する熱プレス工程と、熱プレス後、プレス機７０による賦形状態を維持して表皮材２を冷却し、プレス機７０から表皮材２を脱型する脱型工程とからなるところに特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】多面付けされた複数の微細パターンを複製するのに好適な複製装置および複製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の複製装置は、多面パターンのパターン境界部を加熱する加熱機構を備える。これにより、多面パターンが複製された樹脂膜表面上のパターン境界部を選択的に結晶化することが出来、パターン毎の断裁が容易になるような断裁補助処理を表面上に施した状態で多面パターンを複製することが出来る。よって、好適に多面付けされた複数の微細パターンを複製することが出来る。 （もっと読む）

【課題】エッチング深さの基板面内分布および再現性を改善したナノインプリント用金型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ナノオーダの凹凸構造からなる転写用パターンｐ１を有し、樹脂からなる被転写材料に押し当てて転写用パターンｐ１を転写するためのナノインプリント用金型１において、金型用基板２上に金属酸化物層３が形成され、その金属酸化物層３上にＳｉ膜あるいはＳｉＯ₂膜４からなる転写用パターンｐ１が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】微細ガラスパターンを高いパターン精度で形成することができるインプリントモールド用マスクブランクを提供する。
【解決手段】ガラス基板１と該基板上に形成された薄膜２とを有するインプリントモールド用マスクブランク１０であって、上記薄膜２は、Ｔａ又はＴａ化合物、或いはＳｉまたはＳｉ化合物の何れかを主成分とし、フッ素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成された上層４と、Ｃｒ又はＣｒ化合物で形成された下層３との積層膜からなる。 （もっと読む）