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国際特許分類[B29C59/02]の内容

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ローラーまたはエンドレスベルトを用いるもの (562)
真空ドラムを用いるもの

国際特許分類[B29C59/02]に分類される特許

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【課題】精度よく位置合わせを行うことができるインプリント用のテンプレートを作製するためのテンプレート用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係るテンプレート用基板の製造方法は、上面の中央部に周囲よりも突出したメサ領域が形成された基板について、前記基板に形成しようとするアライメントマークの情報に基づいて、前記アライメントマークが形成される予定の領域を含む不純物注入領域を設定する工程と、前記メサ領域の角部、前記メサ領域の隣り合う2つの端縁、又は前記メサ領域の外部に形成された基準パターンを基準として、前記基板における前記不純物注入領域の位置を特定し、前記特定された不純物注入領域に不純物を注入する工程と、前記基板の上面上にマスク膜を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】モールドの微細凹凸構造を繰り返し転写しても、モールドと硬化樹脂層との離型性および転写された微細凹凸構造の形状や表面特性を維持でき、微細凹凸構造を表面に有する物品を安定的に生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】(I)モールド離型剤を含む離型処理溶液で、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド20の表面を被覆する工程、(II)工程(I)の後、重合性化合物と重合開始剤と内部離型剤とを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物38を、ロール状モールド20とフィルム42との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44をフィルム42の表面に形成し、微細凹凸構造を表面に有する物品40を得る工程を有し、モールド離型剤と内部離型剤とのSP値の差が2.0以下である。 (もっと読む)


【課題】基板上の樹脂に生成されるパターンの欠陥の発生を抑えるのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型7は、被処理体9に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部7aを有する。型7は、被処理体9に向かう側とは反対の側に位置し、被処理体9に向かう面の中央部にて突出したパターン部7aを有する第1平板20と、被処理体9に向かう側に位置し、第1平板20に形成されたパターン部7aが被処理体9と対向するように貫通する開口部7cを有する第2平板22とを含む。ここで、第1平板20と第2平板22とは、内部空間である第1空間21を介して重なり合い、第1平板20は、パターン部7aを被処理体9に押し付ける方向に変形可能である。 (もっと読む)


【課題】微小な高アスペクト比の凹凸部を有する成形品の成形方法であって、成形品を金型から変形なく簡単に安全に取り出すための成形方法を提供する。
【解決手段】アスペクト比が0.5以上20.0以下、長さ(L)が50μm以上1000μm以下である微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、(i)樹脂を200℃以上350℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、(ii)溶融樹脂を、100℃以上250℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、(iii)塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、0.1MPa以上30MPa以下で加圧し、5秒〜200秒間保持して成形する工程、および(iv)40℃以上200℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程、を含み、上金型と下金型のどちらか一方に任意の形状を成形するための金型、もう一方に金型より取り出す時に成形品を保持する加工がされた金型を用いる。 (もっと読む)


【課題】インプリント用テンプレートに設ける洗浄耐性に優れたハイコントラストの位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレート10を、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、テンプレート10を介して光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、光硬化性材料を光硬化させて凹凸パターンを転写するインプリント方法に用いるテンプレートの位置合わせマーク13であって、前記位置合わせマーク13が、光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、凹凸パターン部の光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部16からなり、前記遮光膜パターン部16が遮光膜14と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜15との2層膜で構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パーティクル等の異物の影響を低減したインプリント処理に有用な技術を提供する。
【解決手段】インプリント装置を含むインプリントシステムは、前記インプリント装置を格納する空間をインプリント処理がなされる第1空間と該第1空間を取り囲む第2空間とに分割する第1隔壁と、前記インプリント装置を格納する前記空間と当該空間を取り囲む第3空間とを仕切る第2隔壁と、前記第1空間及び前記第2空間に浄化された空気をそれぞれ供給する第1給気部及び第2給気部と、前記第1空間及び前記第2空間から空気をそれぞれ排出する第1排気部及び第2排気部と、前記第1空間内の異物の濃度を検出する検出器と、制御器とを備える。前記制御器は、前記検出器により検出された前記濃度が基準値を超える場合に前記第2空間を通過する空気の量に対する前記第1空間を通過する空気の量の比を増大させるように、前記第1給気部、前記第2給気部、前記第1排気部及び前記第2排気部を制御する。 (もっと読む)


【課題】正確なオーバーレイが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、第1駆動機構と、第2駆動機構と、位置ずれ計測器と、制御器とを備える。第1駆動機構は、型3とインプリント材18とが互いに接触するように型保持部4及び基板保持部6の少なくとも一方を駆動軸に沿って移動させる。第2駆動機構は、複数のショット領域のいずれかが型に対して位置決めされるように型保持部及び基板保持部の少なくとも一方を移動させる。位置ずれ計測器は、型とインプリント材とが互いに接触していない状態で型マークと基板マークとを型を介して、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量を計測する。制御器は、型保持部及び基板保持部の少なくとも一方の駆動軸に沿う移動量と、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量と、該移動量の情報と、位置ずれ計測器により得られた位置ずれ量の情報とに基づいて、第2駆動機構を制御する。 (もっと読む)


【課題】従来の微細構造転写装置と比較して、スタンパの交換に要する時間を短縮することができると共に、スタンパの転写面に異物が付着するのを防止することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】スタンパヘッド23に取り付けられたスタンパ2を被転写体5に押し付けて、前記スタンパ2に形成された微細な凹凸パターンを前記被転写体5の表面に転写する微細構造転写装置1において、前記スタンパヘッド23に対して近接移動可能な移動ステージ31と、この移動ステージ31に設けられたスタンパ保持部32とを備え、前記スタンパ保持部32が、前記スタンパ2の前記凹凸パターンの形成面を粘着保持可能な粘着層35を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スループットの観点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、基板2を保持する基板保持部1と、型5を保持する型保持部7と、凸部51の側面を取り囲み且つ周辺部52に対向するように配置された板部材3を含み、前記基板保持部と前記型の前記周辺部との間の空間を前記基板保持部の側の第1空間21と前記型保持部の側の第2空間22とに分離するように構成された分離部SPと、ガス供給部6と、を備える。前記板部材は、開口を有し、前記型の前記凸部の側面と前記開口の内面との間に間隙Gが形成されている。前記ガス供給部は、前記パターンの凹部への樹脂Rの流入を促進するためのガスが前記間隙を通して前記第2空間から前記第1空間に供給され、更に前記凸部と前記基板との間の空間に供給されるように前記第2空間に対して前記ガスを供給する。 (もっと読む)


【課題】転写パターンの位置合わせ精度を向上させる。
【解決手段】インプリント方法は、被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記テンプレートに力を加える工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、を備える。前記テンプレートに加える力は、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した大きさである。 (もっと読む)


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