【課題】 ＵＶ導光路を転写領域に垂直方向から導入することができる転写装置を提供する。
【解決手段】 ジンバル機構４５を備えた転写装置において、被成形材料を搭載するテーブル１１と、テーブル１１面に対向して配置された型を固定保持する型保持体２０５と、型保持体２０５を保持すると共に凸球面部を形成してなるジンバル部材２０１と、前記凸球面部と対接する凹球面部を形成したジンバル部材２０３と、ジンバル部材２０３を保持し、テーブル１１面に対し垂直方向に進退可能な可動体１９と、ＵＶ発生装置４２から与えられるＵＶを導くＵＶ光路とを有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、位置ずれを小さく抑えることができると共に、微細な凹凸形状を損傷することなく離形を行うことのできる転写装置及び方法を提供する。
【解決手段】成形材料の基板を搭載するテーブルと、同テーブル面に対向して配置された型を固定保持する型保持体と、型保持体を保持し凸球面部を形成してなる第１のジンバル部材と、第１のジンバル部材の凸球面部と対接する凹球面部を形成した第２のジンバル部材と、第２のジンバル部材を保持して上下方向に進退可能な可動体と、可動体を上下動せしめる可動体駆動手段と、第１のジンバル部材の姿勢を調整保持するための姿勢調整及び保持手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 気泡を含まない良好な転写・接合界面を、同一の装置によって、簡便かつ低コストで得られる転写・接合方法および装置を提供すること。
【解決手段】 微細パターン１０２が設けられたスタンパー１０３に載置された第１部材１００を、第１の型１０１により加圧しながら接触させ、赤外線照射手段１０６を用いてその接触面に赤外線１０７を線状に照射し加熱し、赤外線照射手段１０６を移動させ微細パターン１０２の転写が一方向に順次行われるようにする転写工程と、転写工程後、スタンパー１０３を取り除き、転写済み第１部材１００を、第１の型１０１により、第２の型１０５に載置された第２部材１０４と加圧しながら接触させ、赤外線照射手段１０６を用いてその接触面に赤外線を線状に照射し加熱し、赤外線照射手段１０６を移動させ、接触面の接合が一方向に順次行われるようにする接合工程とを有する転写・接合方法および装置。 （もっと読む）

【課題】型と被成型品とを真空成形室内に配置して、型と被成型品とを当接して転写を行うとき、真空成形室内の減圧に影響されることなく転写圧を制御することのできる転写装置を提供する。
【解決手段】転写用の型４１とこの型４１により転写される被成形品１３とを、開閉可能な真空成形室６０内に、互いに対向させて接離可能に配置してなる転写装置において、前記型４１と被成形品１３とを接離すべく一方を接離方向へ移動可能に支持する可動体１９と、この可動体１９の移動方向と平行に配置され、ピストンロッド５２を介して該可動体１９に連結されたバランスシリンダ５０と、真空成形室６０内の圧力を検出する圧力検出器６４と、この圧力検出器６４の出力に応じてバランスシリンダ５０に供給する作動流体の圧力を制御して真空成形室６０内の圧力変化により可動体１９が受ける移動方向の荷重の変化を相殺する圧力制御部６８と、型４１と被成形品１３との押し付け力を検出するためのロードセル４６が、真空成形室６０内に配置されている。 （もっと読む）

本発明はサブミクロンのデカール転写リソグラフィの方法を提供する。この方法は、第１のシリコン含有エラストマー２００の表面内に第１のパターンを形成する段階と、第１のパターンの少なくとも一部分を基板２１０に接着する段階と、第１のシリコン含有エラストマー及び基板のうちの少なくとも１つの一部分をエッチング２２０する段階とを含む。
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【課題】 各種の光学素子として用いる埋め込み微細パターンを有するプラスチックフィルムにおいて、４００ｎｍ以下の周期を有する埋め込み型微細パターンを容易に得、特に透明なプラスチックフィルムに一度に埋め込み微細パターンを形成して、精度の良いかつ外圧によって微細凸状パターンのようなパターン倒れがないような光学素子を得ること。
【解決手段】 プラスチックフィルム上に薄膜を設け、これらのプラスチックフィルムと薄膜を共に加熱した状態で、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を前記薄膜に押しつけて、該薄膜を前記加熱原盤の凸部により、プラスチックフィルム実体に陥没させた後、前記原盤の凹部に対応する陥没していない薄膜を除去することを特徴とする埋め込み微細パターンの形成方法を主たる構成にする。 （もっと読む）

【課題】 立体感があって装飾的に優れたエンボス化粧シート、およびこのようなエンボス化粧シートを簡単に、かつ、安価に製造することができるエンボス化粧シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 表面および裏面にエンボス模様Ｘ，Ｙが形成された透明な熱可塑性樹脂平板２からなる基材シート３の裏面に、隠蔽層４が設けられてなる。また、透明な熱可塑性樹脂平板２を加熱して軟化させる一方、表面にエンボス模様Ｘ，Ｙに対応する模様が形成されるとともに、該模様同士が対向するように配置された２つの金型を熱可塑性樹脂平板２の温度よりも低温に加熱した後、熱可塑性樹脂平板２を２つの金型の間に載置して加圧し、各金型の模様を熱可塑性樹脂平板２の表裏面に転写して基材シート３を形成し、次いで、基材シート３の裏面を加飾して隠蔽層４を設けることにより製造する。 （もっと読む）

パターン（１２）をスタンプ（１０）から基板（２０）に転写するための装置（１）は、基板（２０）を支持するためのテーブル（２２）と、可撓なスタンプ（１０）と、該スタンプ（１０）の一部に圧力を加えるための圧力室（２７）を有する可動に配列される本体（２５）とを含むので、その部分は基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触する。パターン転写プロセス中、本体（２５）は移動される。結果として、スタンプ（１０）の隣接する部分は、基板（２０）に向かって押し付けられ、基板（２０）と接触し、且つ、再び所定位置に移動して戻ることが許容されるプロセスを連続的に通る。このようにして、振動の導入なしに、スタンプ（１０）のパターン（１２）を基板（２０）に転写することが達成されるので、パターン（１２）の転写は極めて正確に行われる。
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【課題】リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、型と被成形品の位置ずれ（横ずれ）を小さく抑えることのできる転写装置及び方法を提供する。
【解決手段】上面に成形材料の供給される成形用の基板を搭載するテーブル１１と、同テーブル面に対向して配置された転写用の型４１を下面に固定保持する型保持体２０５と、前記型保持体を下面側に保持すると共にその上面側に凸球面部を形成してなる下側ジンバル部材２０１と、前記下側ジンバル部材の凸球面部と対接する凹球面部を形成した上側ジンバル部材２０３と、前記上側ジンバル部材２０３を保持し、前記テーブル面に対し上下方向に進退可能な可動体１９と、前記可動体を上下方向に進退駆動せしめるサーボモータ３３を含む可動体駆動手段と、前記下側ジンバル部材の姿勢を調整保持するための姿勢調整及び保持手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被成形品に対する型の転写時に位置ずれを小さく抑えることのできる転写装置を提供する。
【解決手段】本体フレーム３の一端側に支持されたベースフレーム７と、ベースフレーム７に対向して本体フレーム３の他端側に支持された支持フレーム５と、ベースフレーム７と支持フレーム５とを一体的に連結した複数のタイバ９と、本体フレーム３の両側に備えたガイドフレーム３Ｂの間に配置されタイバ９に沿って移動自在な可動体１９と、可動体１９の中心に対して対称的な位置を案内するように両側のガイドフレーム３Ｂに備えられた案内手段２１と、案内手段２１に沿って可動体１９を移動するために支持フレーム５に装着された駆動手段とを備え、ベースフレーム７側又は可動体１９側の一方側に装着される転写用の型４１により転写される被成形品１３を、ベースフレーム７側又は可動体１９側の他方側に、型４１と対向して配置可能に構成してある。 （もっと読む）