【課題】 チッピングの抑制と離型性の向上が得られるようにした型押し成形型と、この型を用いた型押し成形方法を提供すること。
【解決手段】 型押し成形用の型となるシリコン製の小片２に面取り部２０を形成させ、この面取り部２０に係合する爪部６２が支持部６１に備えられている保持具６を用い、この保持部６により小片２を保持させ、型押し成形に際して小片２のチッピング(欠け)を抑え、離型性を向上させることができるようにしたもの。
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【課題】微細な凹凸パターンを有する高密度の記録媒体、半導体、および磁気記録媒体を高いスループットで、かつ歩留まり良く製造すること。
【解決手段】凹凸パターンが形成された凹凸形成領域を有する原盤５と、被転写基板１とを、中空円筒状の上型９と下型１０で構成される金型の一対のプレス面間に挟み、前記上型９と下型１０の中心部を加圧して前記原盤５と被転写基板１に圧力を印加することで、前記原盤５の凹凸パターンを前記被転写基板１の表面に転写する工程を備えた板状構造体の製造方法において、前記上型９および下型１０の内周部にかかる圧縮荷重を遮断して、当該圧縮荷重を前記上型９および下型１０の外周側へ分散させる。 （もっと読む）

【課題】 天然木の照りを再現するためのエンボスシートを作成する際に、天然木の材面を撮影する作業および撮影画像に基づく演算処理の負担を軽減する。
【解決手段】 サンプルとなる天然木の切断面を、異なる２方向から照明光を照射した状態で撮影することにより、第１の基本画像Ｐ１および第２の基本画像Ｐ２を得る。両画像における対応する画素の画素値Ｐ１（ｘ，ｙ）、Ｐ２（ｘ，ｙ）の差をとった差分画像Ｄもしくは比をとった対比画像Ｑを求める。個々の画素値を所定範囲の角度値θ（−４５°〜＋４５°）に対応づけることにより、差分画像Ｄの画素値Ｄ（ｘ，ｙ）もしくは対比画像Ｑの画素値Ｑ（ｘ，ｙ）を、対応する所定の角度値θに置き換え、二次元平面上に角度分布を定義する。そして、各位置に定義された角度に応じた向きを有する万線を生成し、これを凹凸パターンとして表現したエンボスシートを作成する。 （もっと読む）

幾何学的特徴を含む構造化表面を有する一軸フィルムのプロセスが記載されている。このプロセスは、延伸後の特徴の断面形状が延伸前の特徴の断面形状と実質的に同一であるフィルムを提供する。
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【課題】
量産性の高く、良好な転写性を得ることができる成形品の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる成形品の製造方法は、転写面を有する金型より形成されるキャビティ内に熱可塑性樹脂からなる母材シート１を挿入し、金型の転写面を該母材シート１の表面に押し付けることにより金型転写面の形状を母材シート１に転写させるものである。特に、母材シート１に対してその表面近傍に二酸化炭素を含有させ、さらに母材のガラス転移温度よりも低温度の金型転写面を押し付けることを特徴とする。二酸化炭素が転写表面を軟化させることで、母材全体の温度を上昇させることなく温度制御を一定にて成形できるので量産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 スタンパの浮き上がりを良好に防止でき、加熱、冷却効率を良好にできるスタンパ取付装置および熱転写プレス機械を提供すること。
【解決手段】 スタンパホルダ２３（２３Ａ，２３Ｂ）にスタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）の全面に対応する位置に貫通孔２３１（２３１Ａ，２３１Ｂ）を形成する。貫通孔２３１（２３１Ａ，２３１Ｂ）を連通溝２３２（２３２Ａ，２３２Ｂ）で連通し、温調プレート２２（２２Ａ，２２Ｂ）の両側において吸引用孔２２２（２２２Ａ，２２２Ｂ）と連通させる。スタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）を全面にわたって吸着保持できるので、スタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）の中央部の浮き上がりを防止できる。またスタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）がスタンパホルダ２３（２３Ａ，２３Ｂ）を介して温調プレート２２（２２Ａ，２２Ｂ）に良好に密着するので、加熱、冷却効率を良好にできる。 （もっと読む）

本体部分および表面部分を含む物品、たとえばフィルムが提供される。その本体部分は、（ｉ）第一および第二の表面、ならびに（ｉｉ）互いに対して直交する第一および第二の面内軸および、本体の厚み方向の、第一および第二の面内軸と相互に直交する第三の軸が含まれる。その表面部分には、その本体の第一の表面の上に、ポリマー本体の第一の面内軸に実質的に平行な方向に配された、直線状の幾何学的特徴が含まれる。その物品は、（ｉ）第一の面内軸に沿った第一の屈折率（ｎ₁）、（ｉｉ）第二の面内軸に沿った第二の屈折率（ｎ₂）、および（ｉｉｉ）第三の軸に沿った第三の屈折率（ｎ₃）を有するが、ここで、ｎ₂とｎ₃は実質的に同じであるが、ｎ₁とは実質的に異なっており、そしてここで、その１軸配向ポリマーフィルムは、０．３以下の相対的複屈折を有し、そしてここで、本体の厚みの幾何学的特徴の高さに対する比率が、少なくとも２である。 （もっと読む）

複製プロセスを介する高分子フィルムの製造方法が記載されている。プロセスは、所望の構造化表面のネガティブ版を有するツール（２４）を提供し、ツールのネガティブ表面を高分子材料と接触させて所望の表面を高分子材料に形成し、所望の構造化表面を有する材料（３４）をツールから除去し、高分子材料を一軸延伸する。
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【課題】
量産性の高く、良好な転写性を得ることができる成形品の製造装置を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる成形品の製造装置は、熱可塑性樹脂からなる母材シート１と金型転写面３との隙間を５ｍｍ以内に維持した状態にて二酸化炭素を金型キャビティ内に導入することを特徴とする。これ以上に母材シート１と金型転写面３の隙間が広いと、母材シート１に溶けない余剰な二酸化炭素の量が多くなり、プレス等で転写面３を押し付けた際に、低圧のプレス力では排気しにくくなる。また隙間の狭いほうが導入する二酸化炭素の絶対量を減らすことができ経済的である。 （もっと読む）

【課題】特別な装置を用いることなく、高アスペクト比の微細凹凸形状を有する樹脂成形物を容易に製造できるようにする。
【解決手段】成形面に微細凹形状および／または微細凸形状を有する金型を用いて被成形物をプレスすることにより表面に高アスペクト比の微細凸形状および／または微細凸形状を有する成形体を製造する方法において、金型（４）として、金型の成形面に形成された高アスペクト比の微細凹形状および／または微細凸形状部の周りに、土手（１０）を形成した金型（４）を用いる。 （もっと読む）