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国際特許分類[C01F5/24]の内容

国際特許分類[C01F5/24]に分類される特許

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【課題】重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材を提供すること、及び、重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材の製造方法および、ヒ素を含む汚染土壌からのヒ素の溶出低減を抑制するのに優れた溶出低減方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明にかかる溶出低減材は、炭酸マグネシウム(MgCO3)と炭酸カルシウム(CaCO3)とを主成分として含む鉱物が軽焼されてなり、且つ前記MgCO3が脱炭酸されることで生成されるMgCxy(但し、0<x≦1、0<y<3を満たす。)と、MgCO3と、CaCO3とを含む軽焼生成物と、水溶性硫酸塩とを含有し、 前記軽焼生成物と前記水溶性硫酸塩とが5:5〜1:9の質量比で配合されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材を提供すること、及び、重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭酸マグネシウムを主成分として含む鉱物が軽焼されてなり、BET比表面積が5〜10m/gであり、且つ細孔径分布のピーク半径が10〜20nmの範囲内である軽焼生成物と、酸化マグネシウムとを含有することを特徴とする溶出低減材による。また、炭酸マグネシウムを主成分として含む鉱物を650〜1000℃の条件下で焼成するとともに、該焼成による重量減少率が9〜20%となった時点で該焼成を終了させて軽焼生成物とし、該軽焼生成物と酸化マグネシウムとを加えて溶出低減材を調製することを特徴とする溶出低減材の製造方法による。 (もっと読む)


【課題】 重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材を提供すること、及び、重金属等の溶出抑制作用の優れた溶出低減材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭酸マグネシウムを主成分として含む鉱物が軽焼されてなり、BET比表面積が5〜10m2/gであり、且つ細孔径分布のピーク半径が10〜20nmの範囲内である軽焼生成物と、水溶性硫酸塩とを含有することを特徴とする溶出低減材による。また、炭酸マグネシウムを主成分として含む鉱物を650〜1000℃の条件下で焼成するとともに、該焼成による重量減少率が9〜20%となった時点で該焼成を終了させて軽焼生成物とし、該軽焼生成物と水溶性硫酸塩とを加えて溶出低減材を調製することを特徴とする溶出低減材の製造方法による。 (もっと読む)


本発明は、直接圧縮可能な水酸化炭酸マグネシウム、その調製方法およびその使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、廃棄物流から二酸化炭素を除去して対応するII族の炭酸塩およびシリカを形成するためにII族のケイ酸塩を使用するプロセスを含む、二酸化炭素分離に関する。 (もっと読む)


本発明は、水性環境においてハイドロマグネサイトを調製する方法に関するものである。本発明は、さらに特有の板様形態を特有の平均粒径と組合せて有するこのようなハイドロマグネサイトならびに紙、塗料、ゴムおよびプラスチック産業における無機物、充填剤および顔料としてのこれらの使用ならびに難燃剤としての使用に関する。
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【課題】 低品位水酸化マグネシウムから高純度の炭酸マグネシウム、特に鉄分の含有量の低い炭酸マグネシウムを簡便に製造する方法の提供。
【解決手段】 その製造方法は、低品位水酸化マグネシウムの懸濁液に炭酸ガスと共に酸素含有ガスを吹き込んで、重炭酸マグネシウムを含有する溶液を形成し、形成後固液分離して、得られた液体を加熱することにより炭酸マグネシウムを生成析出せしめることを特徴とする。
この製造方法は、低品位水酸化マグネシウムの懸濁液に炭酸ガ炭酸ガスと空気等の酸素含有ガスを同時に合わせて吹き込むという極めて簡便な手段を採用することにより、高純度、特に鉄分の少ない炭酸マグネシウムを製造できる。 (もっと読む)


実質的に非水性の溶媒およびアルカリを混合し、その結果、溶媒とアルカリとが溶媒懸濁液を形成するステップと、水、および二酸化炭素を含有する燃焼排ガスを、溶媒懸濁液と共に混合し、その結果、反応が起こり、反応が、炭酸塩、水および熱の形成をもたらすステップとを含む二酸化炭素を捕捉および隔離するシステムならびに方法。本発明は、その多くの実施形態において、炭酸の形態の二酸化炭素をアルカリと反応させて、水と溶液から沈殿する容易に除去できる乾燥炭酸塩とを形成する化学プロセスを提供することによって、公知の炭素捕捉および隔離方法の不利点を大いに軽減する。
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(a)燃料の燃焼によりケイ酸マグネシウム水酸化物鉱物原料を直接的に熱活性化して、活性化原料を形成する工程;(b)該活性化原料から、少なくとも酸化マグネシウム及びケイ酸マグネシウムを実質的に含まない金属酸化物を分離して、残留活性化原料を形成する工程;(c)前記分離工程(b)の前後で、溶媒中にこれらの活性化原料を懸濁させて、スラリーを形成する工程;及び(d)該残留活性化原料のスラリーを二酸化炭素と接触させて、該二酸化炭素を炭酸マグネシウムに変える工程を含む、二酸化炭素を固体材料に変える方法。 (もっと読む)


二酸化炭素源、二価カチオン含有溶液、およびプロトン除去剤源からのケイ素ベースの材料(例えば、ポゾラン材料)を含む炭酸塩含有組成物の製造方法が提供される。かかる方法で、二価カチオン含有溶液の二価カチオンは、含金属シリケート材料の温浸によって提供される。ケイ素ベースの材料をほとんどまたは全く含まない炭酸塩含有組成物の製造方法もまた提供される。かかる方法では、ケイ素ベースの材料(例えば、シリカ、未反応のまたは未温浸のシリケート、アルミノシリケートなど)が分離され、炭酸塩含有組成物とは別々に処理される。ケイ素ベースの材料と炭酸塩含有材料とは、ポゾラン材料を製造するために後段階でブレンドされ、ポゾラン材料はさらに処理され、例えば、ポルトランドセメントとブレンドされてもよい。
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