【課題】外周端部まで主表面の平面度が良好であり、かつ取り代の大きい研削工程を省くことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を一対の金型を用いてプレス成形してガラスブランクを成形する成形工程と、成形されたガラスブランクをディスク形状のガラス基板に形状加工する形状加工工程と、上記ディスク形状のガラス基板の少なくとも外周端部に面取り面を形成する面取り面形成工程と、面取り面が形成されたガラス基板の主表面を研磨する研磨工程とを含む。成形工程では、一対の主表面の中央部が凹んでおり、かつ中心部から外周端部に向かって板厚が大きくなるガラスブランクを成形し、面取り面形成工程では、主表面と面取り面に隆起部が介在するガラス基板を形成し、研磨工程では、隆起部が主表面と同じ高さとなるようにガラス基板の研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主平面１１と、外周端面１２と、内周端面１３と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板１０の製造方法であって、外周端面は外周側面部１２０と外周面取り部１２１とを有し、両面研磨装置を用いてキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程を有し、主平面研磨工程で研磨される前の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周端面において、磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で１５度間隔に設けた計２４の外周端面測定箇所で表面粗さＲａを測定したとき、外周側面部の表面粗さＲａの最大値は０．５μｍ以下、標準偏差は０．２μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】異なる組成又は色調のガラスを一体成形するガラスの成形方法及び一体化ガラスを提供する。
【解決手段】組成又は色調の少なくとも一方が異なるガラスＧ１，ガラスＧ２を一体化するガラスの成形方法であって、ガラスＧ２を囲繞するようにガラスＧ１を配置する工程と、ガラスＧ２を囲繞した状態でガラスＧ１及びガラスＧ２を型枠内に収容する工程と、ガラスＧ１及びガラスＧ２を型枠内に収容した状態で、ガラスＧ１及びガラスＧ２を軟化点以上に加熱する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数の研磨工程を経て所望の端部形状を有することとなる磁気ディスク用ガラス基板を提供。
【解決手段】先行研磨工程では、ガラス基板１の主表面の端部形状が、主表面の中央部と比べて隆起した形状となるように研磨パッド１０および酸化セリウム研磨砥粒４０を用いて遊星歯車運動による研磨を行う。把握工程では、先行研磨工程で得られるガラス基板の端部形状を予め把握する。決定工程では、先行研磨工程にて隆起した形状を相殺する方向に変化させることで端部形状を所望の形状とし、かつ、ガラス基板の表面粗さを、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２ｎｍ以下であり、最大山高さ（Ｒｐ）が２ｎｍ以下となるように後続研磨工程に用いる研磨パッドの硬度および研磨砥粒の粒径を決定する。後続研磨工程では、決定工程で決定された硬度の研磨パッド２０および決定された粒径の研磨砥粒としてコロイダルシリカ砥粒５０を用いて遊星歯車運動による研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主表面を平坦度３０ｎｍ以下に研磨することができる、ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０のガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法であって、前記研磨パッド２４が、微多孔が形成された表面層を有し、圧縮率が２０％以上である第１の軟質プラスチックシートと、前記第１の軟質プラスチックシートの前記研磨面の背面側に接合された、圧縮率が２０％未満である第２の軟質プラスチックシートと、を備えており、前記第２の軟質プラスチックシートの前記第１の軟質プラスチックシートが接合された反対面側をバフ処理した後、前記第２の軟質プラスチックシートのバフ処理された面を前記両面研磨装置の上下定盤の側にして、前記研磨パッドを該上下定盤に取り付けた状態で、前記研磨面側をドレス処理してから、前記ガラス基板の両主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板１の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程後に、前記ガラス板１を化学強化する化学強化工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。前記研磨工程は、前記ガラス板１の表面を、酸化セリウムを含むスラリーを用いて研磨した後、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】パターン電極に断線不良等の形成不良が発生するという事態を確実に防止することが可能なガラス基板を提供する。
【解決手段】フロート法により成形されたガラス基板１であって、少なくとも一方の面について、周縁から１０ｍｍの領域を除く中央領域を有効面２とした場合に、前記有効面内のいずれの位置であっても、算術平均粗さＲａが０．３ｎｍ以下であって且つ十点平均粗さＲｚｊｉｓが４０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】主平面の研磨工程での研磨パッドの目詰まりを抑制して、ドレス処理の頻度を低減するとともに研磨速度を安定させ、主平面の平滑性に優れ、異なるロットのガラス基板間の板厚のばらつきが小さい磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研磨工程と、洗浄工程とを備え、前記主平面研磨工程は、前記ガラス基板の主平面を両面で５μｍ以上の研磨量で研磨する粗研磨工程を有する。そして、前記粗研磨工程では、気泡を含有し、研磨面に開口する前記気泡の平均直径が８０〜３００μｍであり、かつ１．１〜２．５％の圧縮率を有する研磨パッドと、砥粒を含有する研磨液を用いて主平面を研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高いＨＤＤ用磁気記録媒体であっても、外周端部のヘッドクラッシュを抑制し、記録領域の拡大に寄与する、ＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上のＨＤＤ用磁気記録媒体の製造に用いられるＨＤＤ用ガラス基板５０は、ガラス基板５０の主表面５１に定義された基準面からのガラス基板５０の外周端部の高さのズレ量をＡとしたときに、式（１）に従って算出されるＡの周方向のバラツキＸが３％以下であり、かつ、ガラス基板５０の外周端部の周方向のＴＩＲが０．４μｍ以下である。バラツキＸ（％）＝｛（ＭＡＸ−ＭＩＮ）／（ＭＡＸ＋ＭＩＮ）｝×１００…式（１）（式（１）中、ＭＡＸはＡの周方向の最大値、ＭＩＮはＡの周方向の最小値を表す。） （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）