国際特許分類[C03C3/085]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759) | シリカを含むもの (3,673) | 重量比で40%から90%シリカを有するもの (2,451) | 酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの (790) | 二価金属の酸化物を含むもの (606)
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO240〜71%、Al2O33〜21%、Li2O0〜3.5%、Na2O7〜20%、K2O0〜15%、SnO20.01〜3%、Sb2O30〜0.1%未満、TiO20〜0.5%を含有することを特徴とする。
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ディスプレイ用カバーガラスおよびディスプレイ
【課題】高品質かつ機械強度の高い薄板状のカバーガラス及び前記カバーガラスを備えるディスプレイを提供する。
【解決手段】組成が、酸化物基準のモル%表示にて、SiO2:60〜75%、Al2O3:0〜12%(ただし、SiO2およびAl2O3の合計含有量が68%以上)、B2O3:0〜10%、Li2OおよびNa2Oを合計で5〜26%、K2O:0〜8%(ただし、Li2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量が26%以下)、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOを合計で0〜18%、ZrO2、TiO2およびHfO2を合計で0〜5%、を含み、さらに、Sn酸化物およびCe酸化物を外割り合計含有量で0.1〜3.5質量%含み、(Sn酸化物の含有量/(Sn酸化物の含有量+Ce酸化物の含有量))が0.01〜0.99であり、Sb酸化物の含有量が0〜0.1%であり、板厚が1.0mm以下のガラスを用いる。
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携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ
【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】 SiO2を40〜70重量%、Al2O3を0.1〜20重量%、Na2Oを3〜20重量%含有し、Li2Oを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 7.5〜21%、Li2O 0〜2%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%、SO3 0.001〜3%を含有し、質量分率(Na2O+K2O)/Al2O3の値が0.7〜2であり、且つ圧縮応力層の厚みが100μm以下であることを特徴とする。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO240〜71%、Al2O33〜21%、Li2O0〜3.5%、Na2O7〜20%、K2O0〜15%、ZrO20.001〜10%、TiO20〜4%を含有することを特徴とし、SnO20.01〜3%含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。
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半導体封止用ガラス、半導体封止用外套管及び半導体電子部品
【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ104dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2(ZrO2、TiO2の合量)0〜25%、La2O3+Nb2O5(La2O3、Nb2O5の合量)0〜20%を含有する。
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光触媒ガラスおよびその製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 TiO2成分、WO3成分、ZnO成分、Nb2O5成分、及びTa2O5成分からなる群より選択される1種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、10〜75%含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。
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ガラス板
【課題】530〜570℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜70%、Al2O3 0〜6%未満、MgO 0〜8%、CaO 0〜8%、SrO 10〜20%、BaO 0〜8%、SrO+BaO(SrO、BaOの合量) 10〜25%、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 10〜30%、Na2O 1〜9%未満、K2O 6超〜15%、Na2O+K2O(Na2O、K2Oの合量) 9〜15%、ZrO2 0〜5%、Al2O3+ZrO2(Al2O3、ZrO2の合量) 0〜6%未満を含有し、且つ歪点が530〜570℃であることを特徴とする。
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LAS系結晶性ガラスの製造方法
【課題】ガラス溶融時におけるハロゲンの清澄能力を高めることで、泡品位に優れたLAS系結晶性ガラスを得る方法を提供する。
【解決手段】原料バッチを溶融することにより、組成として質量%で、SiO2 55〜75%、Al2O3 17〜27%、Li2O 3〜6%、MgO 0〜2%、ZnO 0〜2%、TiO2 2〜5.5%、ZrO2 0〜3%、希土類酸化物 0.03〜1%、ハロゲン 0.01〜0.2%を含有し、実質的にAs2O3およびSb2O3を含有しないLAS系結晶性ガラスを製造するための方法であって、原料バッチ中に希土類酸化物を0.03〜1%かつハロゲンを0.05〜1%含有することを特徴とするLAS系結晶性ガラスの製造方法。
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無アルカリガラス基板、並びにその製造方法及び製造装置
【課題】製品である液晶パネルの歩留まりを向上することができる無アルカリガラス基板を提供すること。
【解決手段】液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸(HF):5.3質量%、フッ化アンモニウム(NH4F):35.8質量%、残部:水からなるバッファードフッ酸の溶液中に25℃、20分間浸漬した後のヘイズ値が7.0%以下である。
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