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国際特許分類[C03C3/085]の内容

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【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを62.5〜69%、Alを9〜15.5%、LiOを8〜16%、NaOを0〜8%、KOを0〜7%、ZrOを0〜3.5%含有し、SiO−Alが53.3%以上、LiO+NaO+KOが17〜24%、上記6成分の含有量の合計が97%以上である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】例えばフロート成形により作製された場合であっても、白濁が生じにくく透明感の高いLiO−Al−SiO系結晶性ガラス、および当該LiO−Al−SiO系結晶性ガラスを結晶化させてなるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として質量%で、SiO 55〜75%、Al 19〜24%、LiO 3〜4%、TiO 1.5〜2.8%、TiO+ZrO 3.8〜4.8%、SnO 0.1〜0.5%を含有し、かつ、4≦LiO+0.741MgO+0.367ZnO≦4.5の関係を満たすことを特徴とするLiO−Al−SiO系結晶性ガラス。 (もっと読む)


【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol%表示にて、SiO2とAl2O3を合計で70〜85%(ただし、SiO2の含有量が50%以上)、Al2O3の含有量が3%以上、Li2O、Na2OおよびK2Oを合計で10%以上、CaOとMgOを合計で1〜6%(ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い)、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2を合計で0%を超えて4%以下含み、SiO2、Al2O3、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2の合計含有量に対するLi2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量%で示して、SiO 53〜62%、Al 11〜17%、LiO 0〜5%、NaO 10〜15%、KO 3〜9%、MgO 0〜4%、CaO 0〜4%、SrO 0〜6%、BaO 0〜5%、ZrO 1〜4%、TiO 2〜6%、を含むガラス組成物とする。 (もっと読む)


【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO45〜75%、Al5〜25%、LiO+NaO+KO8〜30%、NaO8〜20%、KO0〜10%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであることを特徴とする。ガラス中のβ−OH値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、SiO、Al、B、LiO、NaO、KO、ZrO、CeO、SiOとAlとBとの合計、LiOとNaOとKOとの合計、MgOとCaOとBaOとSrOとZnOとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、CeOの含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して99〜99.9999質量%であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して10ppm以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラス10は、無機酸化物ガラスからなり、板厚保方向に対向する板表面11、12に化学強化による圧縮応力層を有している。板端面13、14、15、16は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。該板端面が、レーザー切断によって形成された面を有する。 (もっと読む)


【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をAt(℃)とする時、原ガラスをAt(℃)から(At+120)℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が30〜100×10−7/℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜80%、Al 0〜30%、B 0〜15%、アルカリ金属酸化物(LiO、NaO、KOの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


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