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国際特許分類[C03C3/085]の内容

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【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】SiO2を40〜70重量%、Al23を0.1〜20重量%、Na2Oを0〜20重量%、Li2Oを0〜15重量%、ZrO2を0.1〜9重量%含有し、Li2OとNa2Oの合計含有量が3〜20重量%であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。 (もっと読む)


イオン交換性でありかつ少なくとも1つの粗面化表面を有するガラス物品。粗面化表面は、20°の入射角で測定したときに90未満の反射画像鮮明度DOIを有する。そのようなガラス物品を含むピクセル型ディスプレイシステムも提供する。 (もっと読む)


【課題】ガラスフィルムの表面品位が良好であるにもかかわらず、ガラスフィルムを順次引き出す際に、剥離による帯電が生じ難いガラスロールを創案することにより、可撓性デバイスの表示特性や生産性等を高めること。
【解決手段】本発明のガラスロールは、フィルム厚200μm以下のガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールであって、ガラスフィルムの誘電率が7以下であり、且つ平均表面粗さRaが10Å以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、前記板状ガラス系材料を研削する研削工程を含み、前記研削工程は少なくとも前記板状ガラス系材料をダイヤモンドパッドで研削するサブ工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


SiO2を約82〜約99.9999 wt.%、並びにAl2O3、CeO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Nd2O3、他の希土類酸化物、及びそれらの2つ又はそれ以上の混合物より選択される少なくとも1つのドーパントを約0.0001〜約18 wt.%含む高シリカガラス組成物。ガラス組成物は、600〜2,000℃の範囲の作用点温度を有する。これらの組成物は、純粋な溶融石英と同様の安定性を示すが、医薬品パッケージの費用効果の高い製造を可能にする適度の作用温度を有する。当該ガラスは、例えば、予め充填された注射器、アンプル及びバイアルなどの、薬学的適用のための包装材料として特に有用である。 (もっと読む)


ダウン・ドロー可能かつイオン交換可能なガラス。前記ガラスは、35キロポアズの粘度において、温度T35kpを有する。T35kpは、ジルコンの破壊温度Tbreakdownより低い温度である。
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本発明の実施態様は、パーライトおよび/または軽石を含む、顕著な量の1つ以上のガラス状鉱物を含むバッチ組成物から形成される繊維化可能なガラス組成物を提供する。一実施態様において、本発明は、少なくとも50重量パーセントのガラス状鉱物および少なくとも5重量パーセントのナトリウム源を含むバッチ組成物から形成されるガラス組成物を提供し、該ガラス状鉱物は、少なくとも80重量パーセントの量のSiOとAlとの組み合わせを含む。 (もっと読む)


【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを58〜78%、Alを3〜15%、LiOを1〜20%、NaOを0〜16%、KOを0〜10%、MgOを0〜8%、CaOを0〜8%、ZrOを0〜5%、HfOを0.02〜0.2%含有し、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計LiO+NaO+KOが15〜26%であり、SrOを含有しないか2%以下含有し、BaOを含有しないか2%以下含有し、TiOを含有しないか1%未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。 (もっと読む)


本発明は、線熱膨張係数が35から60.10−7/℃である第1非強化ガラス基板(S1)を含むエレクトロクロミック装置であって、該基板(S1)が、少なくとも1つの透明導電層(2、4)、エレクトロクロミック物質層(EC2)、イオン導電性電解質(EL)および対電極(EC1)を含む積層でコーティングされる装置に関する。
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【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】(SiO−Al)が62モル%以下のLiO−Al−SiO系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度20質量%以上80質量%以下、過酸化水素濃度1質量%以上10質量%以下である洗浄液を用いて50℃以上100℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 (もっと読む)


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