情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク（ハードディスク）など情報記録媒体の基板に用いられるガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク用基板としてガラス基板が広く用いられており、たとえば質量％で、６２〜７５％のＳｉＯ２、５〜１５％のＡｌ２Ｏ３、４〜１０％のＬｉ２Ｏ、４〜１２％のＮａ２Ｏ、および５．５〜１５％のＺｒＯ２を含有し、かつＮａ２Ｏ／ＺｒＯ２の質量比が０．５〜２．０であり、さらにＡｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２の質量比が０．４〜２．５であるガラスが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−３２４３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスク用ガラス基板としては、膨張係数やヤング率などが適切なものであることが求められる他に、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくならないこと、すなわち耐候性が求められる。
本発明は耐候性が改善された磁気ディスク用ガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラスを提供する。なお、たとえばＮａ２Ｏを０〜１６％含有するとは、Ｎａ２Ｏは必須ではないが１６％以下の範囲で含有してもよい、の意である。
【０００６】
また、ＳｉＯ２が６２〜７１％、Ａｌ２Ｏ３が７〜１２％、Ｌｉ２Ｏが５〜１４％、Ｎａ２Ｏが７〜１４％、Ｋ２Ｏが０〜３％、ＭｇＯが０〜５％、ＣａＯが０〜６％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＳｉＯ２が６９％以下、Ａｌ２Ｏ３が１１％以下、Ｌｉ２Ｏが８％以上、Ｎａ２Ｏが１３％以下、Ｋ２Ｏが０〜２％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１９％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、Ｋ２Ｏが１％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＣａＯを含有しない前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
【０００７】
また、ＨｆＯ２が０．０３％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＨｆＯ２が０．１３％以下である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＨｆＯ２が０．０４〜０．０９％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
【０００８】
また、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
また、前記情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれにくくなる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の情報記録媒体基板用ガラス（以下、本発明のガラスという。）の密度ｄは２．６０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。２．６０ｇ／ｃｍ３超ではドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなる、またはドライブ回転が不安定になるおそれがある。好ましくは２．５４ｇ／ｃｍ３以下である。
【００１１】
本発明のガラスはヤング率Ｅが７６ＧＰａ以上であることが好ましい。７６ＧＰａ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅは７７ＧＰａ以上であることがより好ましい。また、Ｅは典型的には９０ＧＰａ以下である。９０ＧＰａ超ではガラス構造が密になってガラスが脆くなりやすい。
【００１２】
本発明のガラスは比弾性率Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅ／ｄは３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。
【００１３】
本発明のガラスのガラス転移点Ｔｇは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くすることができず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは４６０℃以上である。
【００１４】
本発明のガラスの−５０〜７０℃における平均線膨張係数αは５６×１０−７／℃以上であることが好ましい。５６×１０−７／℃未満では、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が大きくなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりやすくなるおそれがある。より好ましくは５８×１０−７／℃以上である。αは典型的には１００×１０−７／℃以下である。
【００１５】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下、本発明のガラス基板という。）は、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣＬｉ、ＣＮａ、ＣＫとしてＣＲ＝ＣＬｉ＋ＣＮａ＋ＣＫが９ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下であることが好ましい。ＣＲが９ｎｍｏｌ／ｃｍ２超では、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくなる。より好ましくは８ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下である。
【００１６】
次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示を用いて説明する。
ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。５８％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。好ましくは５９％以上、より好ましくは６０％以上、典型的には６２％以上である。７８％超では、粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２および粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。好ましくは７７％以下、より好ましくは７６％以下、さらに好ましくは７３％以下、特に好ましくは７１％以下、典型的には６９％以下である。
【００１７】
Ａｌ２Ｏ３は耐候性を高める効果を有し、必須である。３％未満では前記効果が小さい、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは４％以上、より好ましくは５％以上、特に好ましくは７％以上である。１５％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。好ましくは１４％以下、より好ましくは１２％以下、典型的には１１％以下である。
【００１８】
Ｌｉ２Ｏは、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。１％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ましくは５％以上、特に好ましくは８％以上である。２０％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１９％以下、より好ましくは１４％以下である。
【００１９】
Ｎａ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり１６％まで含有してもよい。１６％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下、典型的には１３％以下である。Ｎａ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは１％以上、典型的には７％以上である。
【００２０】
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり１０％まで含有してもよい。１０％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下する。好ましくは９％以下、より好ましくは３％以下、典型的には２％以下である。Ｋ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは０．１％以上、典型的には１％以上である。
【００２１】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ（以下、Ｒ２Ｏと記す。）が１５％未満では、αが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。好ましくは１６％以上、より好ましくは１９％以上である。Ｒ２Ｏが２６％超では耐候性が低下する。好ましくは２５％以下、より好ましくは２４％以下である。
耐候性を高くしたい場合には、ＳｉＯ２は５８〜７２％、Ａｌ２Ｏ３は７〜１５％、Ｌｉ２Ｏは１〜１４％、Ｎａ２Ｏは０〜１４％、Ｒ２Ｏは１５〜２５％であることが好ましい。
【００２２】
ＭｇＯは必須ではないが、耐候性を維持したままＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、ガラスを傷つきにくくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、８％まで含有してもよい。８％超では液相温度が高くなりすぎる。好ましくは７％以下、より好ましくは５％以下である。液相温度を低くしたい場合などにはＭｇＯは２％以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
【００２３】
ＣａＯは必須ではないが、耐候性を維持したままαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、８％まで含有してもよい。８％超ではｄが大きくなる、Ｅが低下する、または液相温度が高くなり過ぎるおそれがある。好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下、特に好ましくは４％以下、典型的には２％以下である。Ｅ／ｄを大きくしたい場合などにはＣａＯは２％以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
【００２４】
ＺｒＯ２は必須ではないが、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため５％まで含有してもよい。５％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下、典型的には２％以下である。
【００２５】
ＨｆＯ２は耐候性を高くする効果があるため、必須である。０．０２％未満では前記効果が小さい。好ましくは０．０３％以上、より好ましくは０．０４％以上である。ＨｆＯ２の含有量が０．２％超では前記効果がかえって小さくなる、ｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは０．１８％以下、より好ましくは０．１０％以下、典型的には０．０９％以下である。
【００２６】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は好ましくは５％以下、典型的には２％以下である。
以下、上記成分以外の成分について例示的に説明する。
【００２７】
ＳｒＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは１％以下である。典型的にはＳｒＯは含有しない。
ＢａＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは１％以下である。典型的にはＢａＯは含有しない。なお、ＢａＯを含有する場合その含有量は質量百分率表示で３％以下が典型的である。ガラスを傷つきにくくしたい場合などにはＳｒＯおよびＢａＯのいずれも含有しないことが好ましい。
【００２８】
ＴｉＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くするなどを目的として、１％未満の範囲で含有してもよい。１％以上ではＴＬが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。好ましくは０．５％以下である。また、ＴｉＯ２を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。
【００２９】
Ｂ２Ｏ３は、ＥもしくはＥ／ｄを大きくする、耐候性を高くする、ガラスの溶解性を向上させるなどを目的として、６％以下の範囲で含有してもよい。６％超では分相現象が起こりやすくなる。好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下、特に好ましくは３％以下である。典型的にはＢ２Ｏ３は含有しない。
【００３０】
Ｌａ２Ｏ３は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合３％以下であることが好ましい。３％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【００３１】
Ｎｂ２Ｏ５は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合３％以下であることが好ましい。３％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【００３２】
ＲＥ２Ｏ３を合計で１％未満まで含有してもよい。なお、前記ＲＥ２Ｏ３はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕおよびこれらの混合物からなる群から選ばれる希土類の酸化物を示している。
【００３３】
ＳＯ３、Ｃｌ、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２等の清澄剤を合計で２％まで含有してもよい。
Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＮｉＯなどの着色剤を合計で２％まで含有してもよい。
【００３４】
本発明のガラス基板は通常は円形のガラス板である。
【００３５】
本発明のガラス基板は典型的には磁気ディスク用ガラス基板として用いられる。
磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）やポータブルＭＰ３プレーヤなどに用いられる１．８インチ基板（ガラス基板外径：４８ｍｍ）などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスはたとえばフロート成形が可能なガラスを含むので大量生産に好適である。
【００３６】
本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。
【実施例】
【００３７】
各成分の原料を表１のＳｉＯ２からＨｆＯ２までの欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６００℃の温度で３〜５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。表１ではＲ２ＯはＬｉ２ＯおよびＮａ２Ｏの各含有量（単位：モル％）の合計を示し、ＨｆＯ２の含有量はＩＣＰ−ＭＳによって測定した。
例１〜５のガラスは実施例、例６のガラスは比較例である。
【００３８】
こうして得られたガラス板について、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ３）、前記平均線膨張係数α（単位：×１０−７／℃）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、比弾性率Ｅ／ｄ（単位：ＭＮｍ／ｋｇ）、ガラス転移点Ｔｇ（単位：℃）、耐候性指標ＣＲ（単位：ｎｍｏｌ／ｃｍ２）を以下に示す方法によって測定した。結果を表１に示す。
【００３９】
ｄ：泡のないガラス２０〜５０ｇを用い、アルキメデス法にて測定した。
α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から−５０〜７０℃における平均線膨張係数を算出した。
Ｅ：厚さが５〜１０ｍｍ、大きさが３ｃｍ角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔｇ：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００４０】
ＣＲ：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、高度加速寿命試験装置（エスペック社製不飽和型プレッシャークッカーＥＨＳ−４１１Ｍ）に入れて１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。洗浄済みチャック付ポリ袋に試験後試料と超純水２０ｍｌを入れ超音波洗浄機で１０分間表面析出物を溶解し、ＩＣＰ−ＭＳを使用して各アルカリ成分（Ｌｉ、Ｎａ）の溶出物を定量した。各アルカリ成分の溶出量はモル換算し、試料表面積で規格化し、これらの合計をＣＲとした。
【００４１】
ＨｆＯ２を含有しない例６においては耐候性指標ＣＲが１１．４５ｎｍｏｌ／ｃｍ２であるのに対し、ＨｆＯ２を０．０２６％含有させた例１においてはＣＲは７．８３ｎｍｏｌ／ｃｍ２まで急速に低下し、ＨｆＯ２を０．０４１〜０．１８７％含有する例２〜５においてもＣＲは７．１２〜７．６２という低い値にとどまることが表１からわかる。
一方、例１〜５においてはガラスの物性（ｄ、α、Ｅ、Ｅ／ｄ、Ｔｇ）に大きな変化がないことがわかる。つまり、本発明によればガラスの物性を変化させることなく耐候性を高くできることがわかる。
【００４２】
【表１】
【００４３】
また、表２〜７に本発明の実施例である例７〜３０とそれらと比較するための例３１〜５４のガラス組成から計算または推定したｄ、α、Ｅ、Ｅ／ｄ、Ｔｇ、ＣＲを示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】
【００４９】
【表７】
【産業上の利用可能性】
【００５０】
磁気ディスクなどの情報記録媒体の製造や情報記録媒体用ガラス基板に利用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク（ハードディスク）など情報記録媒体の基板に用いられるガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク用基板としてガラス基板が広く用いられており、たとえば質量％で、６２〜７５％のＳｉＯ２、５〜１５％のＡｌ２Ｏ３、４〜１０％のＬｉ２Ｏ、４〜１２％のＮａ２Ｏ、および５．５〜１５％のＺｒＯ２を含有し、かつＮａ２Ｏ／ＺｒＯ２の質量比が０．５〜２．０であり、さらにＡｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２の質量比が０．４〜２．５であるガラスが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−３２４３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスク用ガラス基板としては、膨張係数やヤング率などが適切なものであることが求められる他に、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくならないこと、すなわち耐候性が求められる。
本発明は耐候性が改善された磁気ディスク用ガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラスを提供する。なお、たとえばＮａ２Ｏを０〜１６％含有するとは、Ｎａ２Ｏは必須ではないが１６％以下の範囲で含有してもよい、の意である。
【０００６】
また、ＳｉＯ２が６２〜７１％、Ａｌ２Ｏ３が７〜１２％、Ｌｉ２Ｏが５〜１４％、Ｎａ２Ｏが７〜１４％、Ｋ２Ｏが０〜３％、ＭｇＯが０〜５％、ＣａＯが０〜６％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＳｉＯ２が６９％以下、Ａｌ２Ｏ３が１１％以下、Ｌｉ２Ｏが８％以上、Ｎａ２Ｏが１３％以下、Ｋ２Ｏが０〜２％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１９％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、Ｋ２Ｏが１％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＣａＯを含有しない前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
【０００７】
また、ＨｆＯ２が０．０３％以上である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＨｆＯ２が０．１３％以下である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、ＨｆＯ２が０．０４〜０．０９％である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
【０００８】
また、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
また、前記情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれにくくなる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の情報記録媒体基板用ガラス（以下、本発明のガラスという。）の密度ｄは２．６０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。２．６０ｇ／ｃｍ３超ではドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなる、またはドライブ回転が不安定になるおそれがある。好ましくは２．５４ｇ／ｃｍ３以下である。
【００１１】
本発明のガラスはヤング率Ｅが７６ＧＰａ以上であることが好ましい。７６ＧＰａ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅは７７ＧＰａ以上であることがより好ましい。また、Ｅは典型的には９０ＧＰａ以下である。９０ＧＰａ超ではガラス構造が密になってガラスが脆くなりやすい。
【００１２】
本発明のガラスは比弾性率Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。Ｅ／ｄが２８ＭＮｍ／ｋｇ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅ／ｄは３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。
【００１３】
本発明のガラスのガラス転移点Ｔｇは４５０℃以上であることが好ましい。４５０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くすることができず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは４６０℃以上である。
【００１４】
本発明のガラスの−５０〜７０℃における平均線膨張係数αは５６×１０−７／℃以上であることが好ましい。５６×１０−７／℃未満では、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が大きくなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりやすくなるおそれがある。より好ましくは５８×１０−７／℃以上である。αは典型的には１００×１０−７／℃以下である。
【００１５】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下、本発明のガラス基板という。）は、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣＬｉ、ＣＮａ、ＣＫとしてＣＲ＝ＣＬｉ＋ＣＮａ＋ＣＫが９ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下であることが好ましい。ＣＲが９ｎｍｏｌ／ｃｍ２超では、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくなる。より好ましくは８ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下である。
【００１６】
次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示を用いて説明する。
ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。５８％未満では、耐酸性が低下する、ｄが大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる。好ましくは５９％以上、より好ましくは６０％以上、典型的には６２％以上である。７８％超では、粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２および粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。好ましくは７７％以下、より好ましくは７６％以下、さらに好ましくは７３％以下、特に好ましくは７１％以下、典型的には６９％以下である。
【００１７】
Ａｌ２Ｏ３は耐候性を高める効果を有し、必須である。３％未満では前記効果が小さい、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは４％以上、より好ましくは５％以上、特に好ましくは７％以上である。１５％超では耐酸性が低下する、Ｔ２およびＴ４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、または液相温度が高くなりすぎる。好ましくは１４％以下、より好ましくは１２％以下、典型的には１１％以下である。
【００１８】
Ｌｉ２Ｏは、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、必須である。１％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ましくは５％以上、特に好ましくは８％以上である。２０％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１９％以下、より好ましくは１４％以下である。
【００１９】
Ｎａ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり１６％まで含有してもよい。１６％超では、耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下、典型的には１３％以下である。Ｎａ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは１％以上、典型的には７％以上である。
【００２０】
Ｋ２Ｏは必須ではないが、αを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり１０％まで含有してもよい。１０％超では耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下する。好ましくは９％以下、より好ましくは３％以下、典型的には２％以下である。Ｋ２Ｏを含有する場合その含有量は、好ましくは０．１％以上、典型的には１％以上である。
【００２１】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ（以下、Ｒ２Ｏと記す。）が１５％未満では、αが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。好ましくは１６％以上、より好ましくは１９％以上である。Ｒ２Ｏが２６％超では耐候性が低下する。好ましくは２５％以下、より好ましくは２４％以下である。
耐候性を高くしたい場合には、ＳｉＯ２は５８〜７２％、Ａｌ２Ｏ３は７〜１５％、Ｌｉ２Ｏは１〜１４％、Ｎａ２Ｏは０〜１４％、Ｒ２Ｏは１５〜２５％であることが好ましい。
【００２２】
ＭｇＯは必須ではないが、耐候性を維持したままＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、ガラスを傷つきにくくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、８％まで含有してもよい。８％超では液相温度が高くなりすぎる。好ましくは７％以下、より好ましくは５％以下である。液相温度を低くしたい場合などにはＭｇＯは２％以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
【００２３】
ＣａＯは必須ではないが、耐候性を維持したままαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があり、８％まで含有してもよい。８％超ではｄが大きくなる、Ｅが低下する、または液相温度が高くなり過ぎるおそれがある。好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下、特に好ましくは４％以下、典型的には２％以下である。Ｅ／ｄを大きくしたい場合などにはＣａＯは２％以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
【００２４】
ＺｒＯ２は必須ではないが、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため５％まで含有してもよい。５％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下、典型的には２％以下である。
【００２５】
ＨｆＯ２は耐候性を高くする効果があるため、必須である。０．０２％未満では前記効果が小さい。好ましくは０．０３％以上、より好ましくは０．０４％以上である。ＨｆＯ２の含有量が０．２％超では前記効果がかえって小さくなる、ｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは０．１８％以下、より好ましくは０．１０％以下、典型的には０．０９％以下である。
【００２６】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は好ましくは５％以下、典型的には２％以下である。
以下、上記成分以外の成分について例示的に説明する。
【００２７】
ＳｒＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは１％以下である。典型的にはＳｒＯは含有しない。
ＢａＯはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるために、２％以下の範囲で含有してもよい。２％超ではｄが大きくなる、またはガラスに傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは１％以下である。典型的にはＢａＯは含有しない。なお、ＢａＯを含有する場合その含有量は質量百分率表示で３％以下が典型的である。ガラスを傷つきにくくしたい場合などにはＳｒＯおよびＢａＯのいずれも含有しないことが好ましい。
【００２８】
ＴｉＯ２は、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、耐候性を高くするなどを目的として、１％未満の範囲で含有してもよい。１％以上ではＴＬが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。好ましくは０．５％以下である。また、ＴｉＯ２を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。
【００２９】
Ｂ２Ｏ３は、ＥもしくはＥ／ｄを大きくする、耐候性を高くする、ガラスの溶解性を向上させるなどを目的として、６％以下の範囲で含有してもよい。６％超では分相現象が起こりやすくなる。好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下、特に好ましくは３％以下である。典型的にはＢ２Ｏ３は含有しない。
【００３０】
Ｌａ２Ｏ３は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合３％以下であることが好ましい。３％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【００３１】
Ｎｂ２Ｏ５は耐候性を維持したままＥを向上させるなどを目的として含有してもよいが、その場合３％以下であることが好ましい。３％超ではｄが大きくなる、または液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【００３２】
ＲＥ２Ｏ３を合計で１％未満まで含有してもよい。なお、前記ＲＥ２Ｏ３はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕおよびこれらの混合物からなる群から選ばれる希土類の酸化物を示している。
【００３３】
ＳＯ３、Ｃｌ、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２等の清澄剤を合計で２％まで含有してもよい。
Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＮｉＯなどの着色剤を合計で２％まで含有してもよい。
【００３４】
本発明のガラス基板は通常は円形のガラス板である。
【００３５】
本発明のガラス基板は典型的には磁気ディスク用ガラス基板として用いられる。
磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）やポータブルＭＰ３プレーヤなどに用いられる１．８インチ基板（ガラス基板外径：４８ｍｍ）などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスはたとえばフロート成形が可能なガラスを含むので大量生産に好適である。
【００３６】
本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。
【実施例】
【００３７】
各成分の原料を表１のＳｉＯ２からＨｆＯ２までの欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６００℃の温度で３〜５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。表１ではＲ２ＯはＬｉ２ＯおよびＮａ２Ｏの各含有量（単位：モル％）の合計を示し、ＨｆＯ２の含有量はＩＣＰ−ＭＳによって測定した。
例１〜５のガラスは実施例、例６のガラスは比較例である。
【００３８】
こうして得られたガラス板について、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ３）、前記平均線膨張係数α（単位：×１０−７／℃）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、比弾性率Ｅ／ｄ（単位：ＭＮｍ／ｋｇ）、ガラス転移点Ｔｇ（単位：℃）、耐候性指標ＣＲ（単位：ｎｍｏｌ／ｃｍ２）を以下に示す方法によって測定した。結果を表１に示す。
【００３９】
ｄ：泡のないガラス２０〜５０ｇを用い、アルキメデス法にて測定した。
α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から−５０〜７０℃における平均線膨張係数を算出した。
Ｅ：厚さが５〜１０ｍｍ、大きさが３ｃｍ角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔｇ：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００４０】
ＣＲ：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、高度加速寿命試験装置（エスペック社製不飽和型プレッシャークッカーＥＨＳ−４１１Ｍ）に入れて１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。洗浄済みチャック付ポリ袋に試験後試料と超純水２０ｍｌを入れ超音波洗浄機で１０分間表面析出物を溶解し、ＩＣＰ−ＭＳを使用して各アルカリ成分（Ｌｉ、Ｎａ）の溶出物を定量した。各アルカリ成分の溶出量はモル換算し、試料表面積で規格化し、これらの合計をＣＲとした。
【００４１】
ＨｆＯ２を含有しない例６においては耐候性指標ＣＲが１１．４５ｎｍｏｌ／ｃｍ２であるのに対し、ＨｆＯ２を０．０２６％含有させた例１においてはＣＲは７．８３ｎｍｏｌ／ｃｍ２まで急速に低下し、ＨｆＯ２を０．０４１〜０．１８７％含有する例２〜５においてもＣＲは７．１２〜７．６２という低い値にとどまることが表１からわかる。
一方、例１〜５においてはガラスの物性（ｄ、α、Ｅ、Ｅ／ｄ、Ｔｇ）に大きな変化がないことがわかる。つまり、本発明によればガラスの物性を変化させることなく耐候性を高くできることがわかる。
【００４２】
【表１】
【００４３】
また、表２〜７に本発明の実施例である例７〜３０とそれらと比較するための例３１〜５４のガラス組成から計算または推定したｄ、α、Ｅ、Ｅ／ｄ、Ｔｇ、ＣＲを示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】
【００４９】
【表７】
【産業上の利用可能性】
【００５０】
磁気ディスクなどの情報記録媒体の製造や情報記録媒体用ガラス基板に利用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項２】
ＳｉＯ２が６２〜７１％、Ａｌ２Ｏ３が７〜１２％、Ｌｉ２Ｏが５〜１４％、Ｎａ２Ｏが７〜１４％、Ｋ２Ｏが０〜３％、ＭｇＯが０〜５％、ＣａＯが０〜６％である請求項１の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項３】
ＳｉＯ２が６９％以下、Ａｌ２Ｏ３が１１％以下、Ｌｉ２Ｏが８％以上、Ｎａ２Ｏが１３％以下、Ｋ２Ｏが０〜２％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１９％以上である請求項２の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項４】
Ｋ２Ｏが１％以上である請求項１、２または３の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項５】
ＣａＯを含有しない請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項６】
ＨｆＯ２が０．０３％以上である請求項１〜５のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項７】
ＨｆＯ２が０．１３％以下である請求項１〜６のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項８】
ＨｆＯ２が０．０４〜０．０９％である請求項１〜５のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項９】
ヤング率が７６〜９０ＧＰａである請求項１〜８のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかの情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項１１】
請求項１０の情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
【請求項１】
下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を５８〜７８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを１〜２０％、Ｎａ２Ｏを０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＨｆＯ２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項２】
ＳｉＯ２が６２〜７１％、Ａｌ２Ｏ３が７〜１２％、Ｌｉ２Ｏが５〜１４％、Ｎａ２Ｏが７〜１４％、Ｋ２Ｏが０〜３％、ＭｇＯが０〜５％、ＣａＯが０〜６％である請求項１の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項３】
ＳｉＯ２が６９％以下、Ａｌ２Ｏ３が１１％以下、Ｌｉ２Ｏが８％以上、Ｎａ２Ｏが１３％以下、Ｋ２Ｏが０〜２％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１９％以上である請求項２の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項４】
Ｋ２Ｏが１％以上である請求項１、２または３の情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項５】
ＣａＯを含有しない請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項６】
ＨｆＯ２が０．０３％以上である請求項１〜５のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項７】
ＨｆＯ２が０．１３％以下である請求項１〜６のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項８】
ＨｆＯ２が０．０４〜０．０９％である請求項１〜５のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項９】
ヤング率が７６〜９０ＧＰａである請求項１〜８のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかの情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項１１】
請求項１０の情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
【公開番号】特開２０１１−２６１８６（Ｐ２０１１−２６１８６Ａ）
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９１５９２（Ｐ２０１０−９１５９２）
【出願日】平成２２年４月１２日（２０１０．４．１２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月１２日（２０１０．４．１２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
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