国際特許分類[C03C3/085]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759) | シリカを含むもの (3,673) | 重量比で40%から90%シリカを有するもの (2,451) | 酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの (790) | 二価金属の酸化物を含むもの (606)
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、SiO2成分と、Ta2O5成分、Nb2O5成分、Na2O成分及びBaO成分からなる群から選択される1種以上と、を含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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ディスプレイ装置
【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル20と、該表示パネル20の前方に設置されるカバーガラス板30とを備えるディスプレイ装置10において、カバーガラス板30は、32インチ以上の対角線長さL、1.5mm以下の厚さ、および、70GPa以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置20を提供する。
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ディスプレイ装置用のガラスおよびガラス板
【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を61〜72%、Al2O3を8〜17%、Li2Oを6〜18%、Na2Oを2〜15%、K2Oを0〜8%、MgOを0〜6%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜4%、ZrO2を0〜2.5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが15〜25%、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.35〜0.8、MgOおよびCaOの含有量の合計が0〜9%であるディスプレイ装置用ガラス。
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電界放射型装置用ガラス板
【課題】X線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、B2O30〜20%、MgO+CaO+SrO(MgO、CaO、及びSrOの合量)0〜25%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2+La2O3+Nb2O5(ZrO2、TiO2、La2O3、及びNb2O5の合量)3〜40%を含有し、歪点が650℃以上、10keVにおけるX線吸収係数が150cm−1以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。
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太陽光発電適用のためのガラスの使用
【課題】太陽光発電適用に特に好適でありかつ太陽光発電に改善された結果をもたらすガラスを提供すること。
【解決手段】本発明は、ガラスが含水量<25mmol/リットル及び特に>1mmol/リットルを有する、太陽光発電適用のためのガラスの使用に関する。好ましくは使用されるガラスは、>580℃の範囲内の変態点Tg、<1150℃の範囲内の作業温度(「VA」)及び約7〜11×10−6/Kの範囲内の熱膨張係数を示す。これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけCd−Te−太陽光発電適用もしくはCIS−太陽光発電適用ないしはCIGS−太陽光発電適用に適当である。というのも加工性/より高い温度でのより高い熱安定性に基づいた、従来使用されたソーダ石灰ガラスと異なる析出が行なわれることができ、これには大きな利点が伴うからである。
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ガラス基板
【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるHAMRに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Na2SO4を緩衝剤として混合し、H2SO4とNaOHにてpHが10に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−50mVより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。
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固体撮像素子パッケージ用カバーガラス
【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO2 35〜57%、Al2O3 6〜23%、B2O3 0〜20%、Li2O 0〜10%、Na2O 0〜25%、K2O 0〜10%、ただし、Li2O+Na2O+K2O 15〜40%、MgO+CaO+SrO+ZnO 0〜30%、を含有し、実質的にAs2O3、Sb2O3、SnO2を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。
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ガラス板
【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機EL照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が2mm以下であり、且つ屈折率ndが1.55以上の板ガラス。ガラス組成としてBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、ZnO、ZrO↓2を合わせて10〜60%含み、あるいはBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、Gd↓2O↓3、WO↓3、Ta↓2O↓5、ZrO↓2を合わせて10〜70%含む。
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ガラスブランクの製造方法、磁気録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法
【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Aに対する鉛直方向の長さBの比B/Aが0.5〜5の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が500〜1050dPa・sの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。
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情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が0.5nm〜20nmの範囲であり、結晶化度が15%以下であり、比重が3.00以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。
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