【課題】脱圧時における同伴ガス量が少なく、かつ、脱圧時におけるガスハイドレートの分解や装置の磨耗等のトラブルを回避する。
【解決手段】原料ガスｇと水ｗとをガスハイドレート生成・脱水装置１に導入して高圧・低温下でガスハイドレートａを生成し、該ガスハイドレートａを冷却後、脱圧装置４によって大気圧まで脱圧し、排出するガスハイドレート製造方法である。前記ガスハイドレートａを、シリンダー２５内で圧縮して高密度の固形物ｅを形成すると共に、ガスハイドレートａに随伴している原料ガスｇをシリンダー外の高圧系内に排出する工程と、前記シリンダー２５内で形成した前記固形物ｅを吐出する工程とからなる。 （もっと読む）

【課題】各ガスの性質を利用して混合ガスハイドレートを効率的に製造する。
【解決手段】メタン等のＩ型結晶構造ハイドレート生成ガスと、プロパン等のII型結晶構造ハイドレート生成ガスとの混合ガスを水と反応させてＩ型結晶構造ガスハイドレートとII型結晶構造ガスハイドレートとが共存する混合ガスハイドレートを製造する方法。（ａ）Ｉ型結晶構造ガスハイドレートを第２生成器４に導入し、（ｂ）次に、混合ガスを第２生成器４に導入し、混合ガス中のII型結晶構造ハイドレート生成ガスとＩ型結晶構造ガスハイドレートに随伴している水とを反応させてII型結晶構造ガスハイドレートを生成し、（ｃ）第２生成器４内に残ったＩ型結晶構造ハイドレート生成ガスを第１生成器１に導入し、該Ｉ型結晶構造ハイドレート生成ガスと水とを反応させてＩ型結晶構造ガスハイドレートを生成し、（ｄ）該Ｉ型結晶構造ガスハイドレートを第２生成器４に補給する。 （もっと読む）

【課題】大量に存在し供給しやすく安定な媒体を供給してメタンガスハイドレートを分解する方法及び装置の提供
【解決手段】低温高圧下にあるメタンガスハイドレートを分解させてメタンガスを取り出す方法において、相平衡状態で安定しているメタンガスハイドレート中に窒素を送入することにより、メタンガスハイドレートが分解領域となり、前記メタンガスハイドレートの分解反応によるメタンガスを取り出して回収することを特徴とするメタンガスハイドレートを分解してメタンガスを取り出す方法及び装置。 （もっと読む）

【課題】 所定の品質を有する製品ガスハイドレートを連続して安定に製造する。
【解決手段】 ガスハイドレートを含むスラリーを生成する生成器１と、生成器内の原料ガスを循環させる循環ガスブロワー１２と、生成器内のスラリーを抜き出し、冷却器１６を通して生成器に戻す循環スラリーポンプ１５と、生成器底部のスラリーを脱水塔２に移送するスラリー移送ポンプ２０と、循環スラリーの密度（１９）を設定範囲に収めるように循環ガス量と、循環スラリー量と、循環スラリーの温度の少なくとも１つを制御して、ガスハイドレートスラリーの濃度を設定値に精度よく制御することにより、所定の品質を有する製品ガスハイドレートを連続して安定に製造する。 （もっと読む）

【課題】 循環水ラインがハイドレートで閉塞されることを防止する。
【解決手段】 ハイドレート生成装置１００では、循環水ライン２６を循環する水の密度がマイクロモーション流量計２９によって検出されており、循環水ライン２６を循環する水の密度が所定値以下になると、給水ライン１８のタンク６内への給水量を増加させる。これによって、タンク６内のハイドレートの含有率が下がり、以って循環水ライン２６へ流入するハイドレートの量が抑制されて循環水ライン２６内のスラリー濃度が低下する。従って、循環水ライン２６がハイドレートによって閉塞されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 所望のカチオンの塩の使用量を低減でき、１段階の膜分離で所望のカチオン以外の塩を低減させることのできるイオン性化合物水溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）、（ｂ）及び（ｃ）工程を含むイオン性化合物水溶液の製造法。
（ａ）：水溶性基を有するイオン性化合物を含む水溶液に、疎水性アミン及び疎水性有機溶媒を混合し、強酸性に調整した後、前記イオン性化合物から生じるアニオンと疎水性アミンから生じるイオンとの塩を含む有機相を得る工程。
（ｂ）：（ａ）で得られた有機相に、カチオンを含む化合物を水溶液として混合させたのち、分液して前記イオン性化合物から生じるアニオンと前記カチオンとの塩を含む水相を得る工程。
（ｃ）：（ｂ）工程で得られた水相から電気透析装置で無機塩を除去し、対イオンが前記カチオンであるイオン性化合物から生じるアニオンを含む水溶液を得る工程。 （もっと読む）

【課題】 反応容器に気体を供給する際の気体供給圧力を気液接触反応圧よりも小さくして、気体等の加圧のために必要な動力を小さくすることができて、装置をコンパクトにすることができる気液接触反応方法及び気液接触反応装置を提供する。
【解決手段】 反応容器１０内に、所定の液体注入圧力Ｐ１以上に加圧された液体と、所定の気体注入圧力Ｐ２以上に加圧された気体とを注入し、該注入後に前記反応容器１０の容積を縮小して加圧し、前記気体及び前記液体を所定の気液接触反応圧Ｐ３以上に昇圧して、前記気体と前記液体を気液接触反応させる。 （もっと読む）

【課題】 反応容器に気体を供給する際の気体供給圧力を気液接触反応圧よりも小さくして、気体等の加圧のために必要な動力を小さくすることができて、装置をコンパクトにすることができる気液接触反応方法及び気液接触反応装置を提供する。
【解決手段】 反応容器１０内に、所定の気体注入圧力Ｐ２以上に加圧された気体Ｇを注入し、該気体注入後に所定の気液接触反応圧Ｐ３以上に加圧された液体Ｌを前記反応容器１０に注入し、該液体Ｌの注入により、前記気体Ｇを前記気液接触反応圧Ｐ３以上に昇圧して、前記気体Ｇと前記液体Ｌを気液接触反応させる。 （もっと読む）

【課題】 クラスレート水和物の高速生成を実現できるクラスレート水和物の製造方法及び製造装置を提供すること。
【解決手段】 本発明は、原料ガス及び水を接触させてクラスレート水和物を製造する装置１において、反応槽２内に水を噴霧する電極を兼ねるノズル１０、電極１１、電極１０，１１間に電界を印加する電界印加手段１２を備え、ノズル１０及び電極１１が、電界印加手段１２によりノズル１０及び電極１１間に印加される電界を、電極１０から噴霧される水に印加可能な位置に配置される。この装置１によれば、反応槽２内に水を供給すると、水は電極１０により反応槽２内に噴霧され、微少な水滴を形成する。このとき、反応槽２内に原料ガスが供給されると、原料ガス及び水滴が接触してクラスレート水和物が製造される。ここで、電界印加手段１２により、上記水滴に電界が印加されることで、クラスレート水和物の結晶核の高速生成、ひいてはクラスレート水和物の高速生成が実現可能となる。また水滴の熱伝達率が増加し、水滴の冷却が容易となる。 （もっと読む）

【課題】高圧下で生成したガスハイドレートを常圧、氷点下で貯蔵する際に、パージガスの発生を抑制する。
【解決手段】高圧下で原料ガスｇと水ｗを反応させてガスハイドレートを生成し、このガスハイドレートを高圧下でペレットｐに成形し、次に、このガスハイドレートペレットｐを脱圧して常圧下で貯蔵する。ペレット成形工程で成形したガスハイドレートペレットｐを、原料ガス以外のガスを液化させた高圧の作動液ａに浸漬した後、減圧ドラム１５内に導入する。この減圧ドラム１５内の高圧の作動液ａをフラッシュ弁１８からフラッシュして減圧ドラム１５内を常圧まで脱圧する。 （もっと読む）