【課題】コンパクトな装置構成で、効率的にガスハイドレートを生成することが可能なガスハイドレート生成装置を提供する。
【解決手段】原料ガスを気泡状にして原料水と混合させる混合器と、原料ガスと原料水とからなる混合流体が内部を流れ、内部を流れるこの混合流体との熱交換によって混合流体を冷却する管路とを有し、原料水と原料ガスの組み合わせに固有のガスハイドレート生成分解平衡特性に応じて、混合流体の流れる方向に沿って、前記管路の温度を調整する。また、管路の内部を流れる混合流体の流速が一定となるよう、混合流体の流入側から流出側へいくにしたがって、管路の内径を小さく調整する。 （もっと読む）

【課題】 均一性が高く最適な粒径のハイドレート粒子が得られるハイドレート後処理装置およびハイドレート粒径制御方法の提供。
【解決手段】流動層反応器３０２と、ハイドレート粒径測定手段と、ハイドレート粒径測定手段で求められたハイドレート粒子の粒径に基づき、流動層反応器に導入されるハイドレート形成ガスの温度および流動層反応器内部の温度を制御してハイドレート粒子の粒径を制御するハイドレート粒径制御手段３５０とを備え、ハイドレート粒径制御手段においては、ハイドレート形成ガスおよび流動層反応器内部の少なくとも一方の温度を、ハイドレート粒径測定手段で求めたハイドレート粒子の粒径が所定範囲よりも小さいときは高くし、ハイドレート粒子の粒径が所定範囲よりも大きなときは低くするハイドレート後処理装置、ハイドレート粒径制御方法。 （もっと読む）

【課題】 均一性が高く最適な粒径のハイドレート粒子が得られるハイドレート生成装置、およびハイドレート粒径制御方法を得る。
【解決手段】 反応タンク１２内もしくは循環水ライン２６に、ＣＣＤカメラ３１（もしくはＣＣＤカメラ３３）を設け、このＣＣＤカメラ３１（もしくはＣＣＤカメラ３３）で撮像された画像を、粒径計測器３２へ入力し、ハイドレート粒子の粒径ｄを求め、制御部３４へ入力し、制御部３４によって、反応タンク１２内のハイドレート生成条件を制御することで、均一性が高く最適な粒径のハイドレート粒子を反応タンク１２内で生成することができる。 （もっと読む）

【課題】原料ガスと水を反応させて生成したガスハイドレートを脱水しながら生成容器外に円滑に払い出す。
【解決手段】耐圧容器２内で原料ガスｇと水ｗとを反応させてガスハイドレートｎを生成するガスハイドレート生成装置である。前記耐圧容器２内に当該耐圧容器２の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根４をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段３を回転自在に設ける。 （もっと読む）

【課題】 粒径が大きなハイドレートを生成する。
【解決手段】 ハイドレート生成装置１０では、スプレー塔１２内の未反応の天然ガスＮＧをガス循環ライン４２で冷却して循環させる。また、ガス供給ライン３６を分岐させて、天然ガスＮＧをスプレー塔１２の底部から上部にかけて分割して送り込む。また、スプレー塔１２内で天然ガスＮＧが底部から上部にかけて流れる気流を形成し、さらに、スプレー塔１２のハイドレート生成領域Ａの全高を１０ｍ以上とすることで、水Ｗの滞留時間を長くする。 （もっと読む）

【課題】 ペレット状のガスハイドレートを容易に冷却する。
【解決手段】水とハイドレート形成ガスとで生成されたペレット状のガスハイドレートＰを所定の温度に冷却するガスハイドレート冷却装置１０であって、前記所定の温度に冷却された冷媒液Ｅを供給する冷媒液供給ラインが繋がるスプレイノズル１６からなる冷媒液供給口と、ペレット状の前記ガスハイドレートが供給されるガスハイドレート供給口１４と、供給された前記ガスハイドレートが排出されるガスハイドレート排出口２２と、を有する冷却槽１２を備えることを特徴とするガスハイドレート冷却装置。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートによる水切り部の目詰まりを防止して脱水器の安定的な運転を実現するとともに、定脱水率の運転を実現する。
【解決手段】天然ガス等の原料ガスｇと水ｗとを反応させてガスハイドレートｎを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーｓを脱水器１２によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器１２内の液面を上下させて水切り部１９を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 反応タンク内に水を噴射すると共に、天然ガスを導入するハイドレート生成装置において、反応タンクの内壁に水滴が付着してハイドレートが生成、成長するのを防止する。
【解決手段】 反応タンク１２の上部にノズル１４が配設されており、水循環ライン１８から冷却された水がノズル１４に供給され、反応タンク１２内に水が噴射される。反応タンク１２の導入パイプ３２には、天然ガス供給ライン２２から冷却された天然ガスが供給される。反応タンク１２の側壁部１２Bの内壁には、フッ素系樹脂からなる被覆層４２が形成されている。被覆層４２は、低熱伝導率で撥水性があるので、ノズル１４から水が噴射されたときに被覆層４２に水滴が付着しにくい。また、反応タンク１２の底部１２Ａに貯留された低温の水によって被覆層４２の水滴が冷却されにくいため、側壁部１２Ｂでハイドレートが生成、成長するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 反応タンク内にノズルから水を噴射すると共に、天然ガスを導入するハイドレート生成装置において、ノズルがハイドレートで閉塞したとき、ノズルの閉塞を迅速に解除する。
【解決手段】 反応タンク１２の上部に２つのノズル１４Ａ，１４Ｂが配設されており、水循環ライン１８から分岐された配管パイプ１９Ａ，１９Ｂがノズル１４Ａ，１４Ｂに接続されている。配管パイプ１９Ａ，１９Ｂには、圧力計４４Ａ，４４Ｂ、開閉弁４６Ａ，４６Ｂが設けられている。ノズル１４Ａ，１４Ｂの周囲には、ヒータ４８Ａ，４８Ｂが設けられている。開閉弁４６Ａが開放され、ノズル１４Ａから水が噴射されるときは、ノズル１４Ｂの開閉弁４６Ｂは閉止されている。ノズル１４Ａにハイドレートが詰まり、圧力計４４Ａの圧力が所定値よりも高くなったとき、ＣＰＵ４２は、開閉弁４６Ａを閉止し、ヒータ４８Ａでノズル１４Ａを加熱する。これにより、ノズル１４Ａに詰まったハイドレートが分解される。また、開閉弁４６Ｂを開放してノズル１４Ｂに切り換えることで、生産性は低下しない。 （もっと読む）

【課題】水切り部の構造を適正化することにより、脱水器の運転を一定の脱水率で安定して運転可能とする。
【解決手段】原料ガスｇと原料水ｗとを反応させてガスハイドレートｈを生成し、該ガスハイドレートを縦型移動層式の脱水器１２によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造する。前記脱水器１２を、筒状の第１塔体２１と、該第１塔体の上部に設けた水切り部２２と、該水切り部の外側に設けた脱水集合部２３と、前記水切り部の上部に設けた筒状の第２塔体２４により形成する。前記水切り部２２に無数の貫通孔１９又はスリット４０を設けた。 （もっと読む）