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国際特許分類[C07C17/23]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | ハロゲン化された炭化水素の製造 (1,114) | 脱ハロゲン化によるもの (37)

国際特許分類[C07C17/23]に分類される特許

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【課題】本発明は、工業的スケールにも対応できる、簡便かつ効率的な2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFC−1234yf)の製造方法を提供する。
【解決手段】2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CFCF=CH)の製造方法であって、(I)一般式(1):
CFCFCHX (1)
(式中、XはCl、Br又はIを示す。)
で表される化合物に塩基を反応させて、一般式(2):
CFCF=CHX (2)
(式中、Xは前記に同じ。)
で表される化合物を製造する工程、及び(II)一般式(2)で表される化合物を、触媒存在下に水素で還元して2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを製造する工程、を含むことを特徴とする製造方法。 (もっと読む)


水素での塩素置換基の置換をもたらすのに十分な温度で触媒の存在下にクロロフルオロアルケンを水素と接触させる工程を含むフッ素含有オレフィンの製造方法が本明細書に開示される。担体上に沈着された銅金属を含むクロロフルオロアルケンの水素化脱塩素のための触媒組成物もまた開示される。 (もっと読む)


CFCF=CHFの製造方法が開示される。本方法は、CFCClFCClFを触媒の存在下に反応ゾーンでHと反応させてCFCF=CHFを含む製品混合物を生み出す工程を含む。本触媒は、アルミナ、フッ化物アルミナ、フッ化アルミニウムおよびそれらの混合物からなる群から選択された担体に担持された触媒有効量のパラジウムを有し、反応ゾーンに供給されるH対CFCClFCClFのモル比は約1:1〜約5:1である。また、CFCClFCClFとHFとの共沸組成物およびCFCHFCHFとHFとの共沸組成物も開示される。 (もっと読む)


1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法。1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた耐酸化性を有し、塗布法による半導体活性相形成が可能な、ビフェニレン誘導体、それを用いた耐酸化性有機半導体材料並びに有機薄膜、及び該ビフェニレン誘導体を簡便に経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示されるビフェニレン誘導体を製造する。


(ここで、置換基R〜Rは、水素原子、フッ素原子、アリール基、複素環基であり炭素原子で置換結合する基、アルキニル基、アルケニル基、アルキル基、又はフッ素化アルキル基を示す。但し、R〜Rは同時にフェニル基であることはできず、R及びRは同時に水素原子又はフッ素原子であることはできず、又R及びRが同時に水素原子又はフッ素原子であることはできない。) (もっと読む)


【課題】芳香環ラジカルビームの生成方法を提供する。
【解決手段】芳香環ラジカルビームの生成方法は,例えばオルト,メタまたはパラジクロロベンゼンからなる原料分子をイオン化して複数種類の正イオンを生成し,前記複数種類の正イオンから,1価の正の分子イオンを分離し,前記分子イオンをアルカリ金属からなるターゲットに衝突させて中性化すると共にXを離脱させて,Xが結合していた位置に不対電子が局在化した芳香環ラジカルを生成し,中性化されなかった分子イオンと,ターゲットとの再度の衝突によって生成された負イオンを分離除去する工程を備える。 (もっと読む)


【課題】高い移動度を発現し且つ溶媒に対する溶解性及び耐酸化性に優れる有機半導体材料を提供する。また、高い移動度を有する有機半導体薄膜、及び、電子特性の優れた有機半導体素子を提供する。
【解決手段】
下記の化学式(I)で表されるような構造を有することを特徴とするポリアセン化合物。
【化1】


ただし、化学式(I)中のR1 ,R2 ,R3 ,R4 のうち少なくとも一部は、脂肪族炭化水素基等の官能基であり、他部は水素原子である。また、化学式(I)中の複数のXのうち一部はフッ素原子であり、他部は水素原子である。さらに、kは1以上5以下の整数である。 (もっと読む)


【課題】有機半導体等の電子材料の合成原料として利用が可能な2,3−ジハロビフェニレン誘導体及びその前駆化合物であるテトラハロビフェニル誘導体、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示される2,3−ジハロビフェニレン誘導体を、その前駆化合物であるテトラハロビフェニル誘導体をジリチオ化し、さらに銅化合物と反応させて得る。
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【課題】工業的規模での製造に適した2−トリフルオロメチル−6−フルオロベンザルクロリドおよび3−トリフルオロメチル−2−メチルフルオロベンゼンの合成方法を提供する。
【解決手段】2,3−ジメチルフルオロベンゼンを出発物質として、これを次の2工程ないし3工程に付して、上記目的化合物に誘導する。
第1工程:2,3−ジメチルフルオロベンゼンを塩素(Cl2)と反応させ、2−トリクロロメチル−6−フルオロベンザルクロリドを得る工程。
第2工程:前記2−トリクロロメチル−6−フルオロベンザルクロリドを、液相でフッ化水素(HF)と反応させ、2−トリフルオロメチル−6−フルオロベンザルクロリドを得る工程。
第3工程:前記2−トリフルオロメチル−6−フルオロベンザルクロリドを遷移金属触媒の存在下、水素(H2)と反応させ、3−トリフルオロメチル−2−メチルフルオロベンゼンを得る工程。
【代表図】 なし (もっと読む)


【課題】塩素を含むフロン類から高収率でハイドロフルオロカーボン類を得る事が出来る合成方法を提供する。
【解決手段】分子内に塩素を1個以上有するクロロフルオロカーボン類またはハイドロクロロフルオロカーボン類を、あらかじめ溶媒と塩化水素捕捉剤を混合し、脱酸素処理を行って調製した反応溶液に溶解させる。これに紫外線を照射することにより、クロロフルオロカーボン類またはハイドロクロロフルオロカーボン類中の塩素を水素に置換する反応のみを選択的に行う。生成したハイドロフルオロカーボン類は、低温と加圧を組み合わせた条件下で精製蒸留を行う。それによって、塩素を含有しないフロン類として再利用できるレベルの高純度のものとして回収できる。 (もっと読む)


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