１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に関する。１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンは、とくに、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを有する組成物中のポリウレタンフォーム用発泡剤の成分として有用である。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
本発明は、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの効率的な製造を可能にする。
【０００３】
本発明は、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に関する。一般的には、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造量を最大化する条件下で、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させる。
【０００４】
本発明に係る方法では、反応は、一般的には、水素化触媒の存在下で行われる。この触媒は、好ましくは、元素の周期表の第ＶＩＩＩ族の金属から選択され、より特定的には、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｎｉ、およびＩｒから選択される。Ｐｄが好ましい。
【０００５】
触媒は、好ましくは担持型である。担体は、活性炭、アルミナ、フッ素化アルミナ、ＬｉＡｌ５Ｏ８、またはそれらのフッ素化誘導体でありうる。
【０００６】
水素源は、好ましくは水素ガスである。水素（または水素等価物）と１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンとのモル比は、一般的には１〜５、多くの場合１．５〜３、好ましくは１．５〜２である。
【０００７】
本発明に係る方法では、気相中で好適に反応を行うことが可能である。その場合、反応は、一般的には０〜５００℃の温度で行われ、多くの場合、温度は５０〜２５０℃、好ましくは８０℃〜２００℃である。その場合、反応は、一般的には１〜２０ｂａｒの圧力で行われ、多くの場合、圧力は２〜１０ｂａｒ、好ましくは１．５〜５ｂａｒである。
【０００８】
他の実施形態では、反応は液相中で行われる。その場合、反応は、一般的には５０〜２５０℃の温度で行われ、多くの場合、温度は７０〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃である。その場合、反応は、一般的には１〜６０ｂａｒの圧力で行われ、多くの場合、圧力は５〜５０のｂａｒ、好ましくは１０〜４０ｂａｒである。
【０００９】
本発明に係る方法では、連続方式で好適に反応を行うることが可能である。バッチ方式で行うことも可能である。
【００１０】
特定の実施形態では、本発明に係る方法は、
（ａ）１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ化水素と反応させて、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと場合により出発原料および中間体とを含む反応生成物を生成することと、
（ｂ）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを反応生成物から分離し、場合により出発原料および中間体を工程（ａ）に再循環させることと、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法に従って水素源と反応させることと、
を含む。
【００１１】
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンの製造については、たとえば、本出願人名義のＥＰ−Ａ−５２２６３９（その開示は参照により本出願に援用されるものとする）に記載されている。ＥＰ−Ａ−５２２６３９によれば、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンは、触媒の存在下でＨＦとの液相反応により１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン（これは、順次、好ましくはビニリデンクロリドとテトラクロロメタンとから調製される）から調製可能である。触媒は、好ましくは、フッ素原子による塩素原子の置換を促進する。好適な触媒は、たとえば、周期表の第ＩＩＩａ族、第ＩＶａ族および第ＩＶｂ族、第Ｖａ族および第Ｖｂ族、ならびに第ＶＩｂの金属の化合物から選択される。チタン、タンタル、モリブデン、ホウ素、スズ、およびアンチモンの化合物、特定的にはスズおよびアンチモンの化合物が好ましい。とくに好ましいのは、金属の塩化物、フッ化物、およびクロロフッ化物である。一般的には、フッ素化反応は５０〜１５０℃で行われる。圧力は多くの場合２〜５０ｂａｒであり、反応混合物を液相状態に保持しうる圧力である。触媒量はきわめてさまざまでありうる。一般的には、１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン１モルあたり少なくとも０．００５モルの触媒であり、多くの場合、１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン１モルあたり０．６モル以下である。ＨＦと１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンとの比は、一般的には少なくとも４であり、多くの場合、２０を超えることはないであろう。
【００１２】
以下の実施例は、本発明を限定するものではなく例示することを意図したものである。
［実施例］
【００１３】
１０％のＰｄを活性炭に担持して含む触媒をステンレス鋼製反応器に仕込む。２ｂａｒの圧力および２００℃の温度で水素ガスを連続方式で導入する。次に、Ｈ２／１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのモル比が２対１になるように１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを連続方式で導入する。反応器流出物をコールドトラップ中で液化させる。コールドトラップの内容物の分析により１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの生成が示される。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に関する。１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンは、とくに、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを有する組成物中のポリウレタンフォーム用発泡剤の成分として有用である。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
本発明は、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの効率的な製造を可能にする。
【０００３】
本発明は、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に関する。一般的には、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造量を最大化する条件下で、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させる。
【０００４】
本発明に係る方法では、反応は、一般的には、水素化触媒の存在下で行われる。この触媒は、好ましくは、元素の周期表の第ＶＩＩＩ族の金属から選択され、より特定的には、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｎｉ、およびＩｒから選択される。Ｐｄが好ましい。
【０００５】
触媒は、好ましくは担持型である。担体は、活性炭、アルミナ、フッ素化アルミナ、ＬｉＡｌ５Ｏ８、またはそれらのフッ素化誘導体でありうる。
【０００６】
水素源は、好ましくは水素ガスである。水素（または水素等価物）と１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンとのモル比は、一般的には１〜５、多くの場合１．５〜３、好ましくは１．５〜２である。
【０００７】
本発明に係る方法では、気相中で好適に反応を行うことが可能である。その場合、反応は、一般的には０〜５００℃の温度で行われ、多くの場合、温度は５０〜２５０℃、好ましくは８０℃〜２００℃である。その場合、反応は、一般的には１〜２０ｂａｒの圧力で行われ、多くの場合、圧力は２〜１０ｂａｒ、好ましくは１．５〜５ｂａｒである。
【０００８】
他の実施形態では、反応は液相中で行われる。その場合、反応は、一般的には５０〜２５０℃の温度で行われ、多くの場合、温度は７０〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃である。その場合、反応は、一般的には１〜６０ｂａｒの圧力で行われ、多くの場合、圧力は５〜５０のｂａｒ、好ましくは１０〜４０ｂａｒである。
【０００９】
本発明に係る方法では、連続方式で好適に反応を行うることが可能である。バッチ方式で行うことも可能である。
【００１０】
特定の実施形態では、本発明に係る方法は、
（ａ）１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ化水素と反応させて、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと場合により出発原料および中間体とを含む反応生成物を生成することと、
（ｂ）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを反応生成物から分離し、場合により出発原料および中間体を工程（ａ）に再循環させることと、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法に従って水素源と反応させることと、
を含む。
【００１１】
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンの製造については、たとえば、本出願人名義のＥＰ−Ａ−５２２６３９（その開示は参照により本出願に援用されるものとする）に記載されている。ＥＰ−Ａ−５２２６３９によれば、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンは、触媒の存在下でＨＦとの液相反応により１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン（これは、順次、好ましくはビニリデンクロリドとテトラクロロメタンとから調製される）から調製可能である。触媒は、好ましくは、フッ素原子による塩素原子の置換を促進する。好適な触媒は、たとえば、周期表の第ＩＩＩａ族、第ＩＶａ族および第ＩＶｂ族、第Ｖａ族および第Ｖｂ族、ならびに第ＶＩｂの金属の化合物から選択される。チタン、タンタル、モリブデン、ホウ素、スズ、およびアンチモンの化合物、特定的にはスズおよびアンチモンの化合物が好ましい。とくに好ましいのは、金属の塩化物、フッ化物、およびクロロフッ化物である。一般的には、フッ素化反応は５０〜１５０℃で行われる。圧力は多くの場合２〜５０ｂａｒであり、反応混合物を液相状態に保持しうる圧力である。触媒量はきわめてさまざまでありうる。一般的には、１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン１モルあたり少なくとも０．００５モルの触媒であり、多くの場合、１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン１モルあたり０．６モル以下である。ＨＦと１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンとの比は、一般的には少なくとも４であり、多くの場合、２０を超えることはないであろう。
【００１２】
以下の実施例は、本発明を限定するものではなく例示することを意図したものである。
［実施例］
【００１３】
１０％のＰｄを活性炭に担持して含む触媒をステンレス鋼製反応器に仕込む。２ｂａｒの圧力および２００℃の温度で水素ガスを連続方式で導入する。次に、Ｈ２／１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのモル比が２対１になるように１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを連続方式で導入する。反応器流出物をコールドトラップ中で液化させる。コールドトラップの内容物の分析により１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの生成が示される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。
【請求項２】
前記反応が水素化触媒の存在下で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記触媒が、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｎｉ、およびＩｒから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記水素源が水素ガスである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記反応が気相中で行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応が０〜５００℃の温度で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記反応が１〜２０ｂａｒの圧力で行われる、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記反応が液相中で行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記反応が連続方式で行われる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ化水素と反応させて、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと場合により出発原料および中間体とを含む反応生成物を生成することと、
（ｂ）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを反応生成物から分離し、場合により出発原料および中間体を工程（ａ）に再循環させることと、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法に従って水素源と反応させることと、
を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１】
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。
【請求項２】
前記反応が水素化触媒の存在下で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記触媒が、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｎｉ、およびＩｒから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記水素源が水素ガスである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記反応が気相中で行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応が０〜５００℃の温度で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記反応が１〜２０ｂａｒの圧力で行われる、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記反応が液相中で行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記反応が連続方式で行われる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ化水素と反応させて、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと場合により出発原料および中間体とを含む反応生成物を生成することと、
（ｂ）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを反応生成物から分離し、場合により出発原料および中間体を工程（ａ）に再循環させることと、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法に従って水素源と反応させることと、
を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【公表番号】特表２００９−５３０３５４（Ｐ２００９−５３０３５４Ａ）
【公表日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５００８７４（Ｐ２００９−５００８７４）
【出願日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５２７６９
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１０３７７
【国際公開日】平成１９年１０月４日（２００７．１０．４）
【出願人】（５９１００１２４８）ソルヴェイ（ソシエテ アノニム） (252)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５２７６９
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１０３７７
【国際公開日】平成１９年１０月４日（２００７．１０．４）
【出願人】（５９１００１２４８）ソルヴェイ（ソシエテ アノニム） (252)
【Ｆターム（参考）】
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