以下の工程：キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、及びフタロニトリルを水素化する工程を含むキシリレンジアミンの製造法において、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤又は溶融フタロニトリルと直接接触させ（クエンチ）、得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液又はフタロニトリル溶融物から、フタロニトリルよりも低い沸点を有する成分（低沸点成分）を部分的又は完全に除去し、かつ低沸点成分の除去の後でかつ水素化の前に、フタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物（高沸点成分）を除去することを特徴とする、キシリレンジアミンの製造法。
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本発明は、液体フタロジニトリルを、不均一系触媒上で液体アンモニアの存在下で反応器内において連続的に水素化することによってキシリレンジアミンを製造する方法において、混合装置によってフタロジニトリル溶融物流を液状で液体アンモニア流と混合し、そしてこの液体混合物を水素化反応器内に導入する方法に関する。 （もっと読む）

以下の工程：キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、その際、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤と直接接触させる（クエンチ）、フタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物（高沸点成分）を得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から除去する工程、及びフタロニトリルを水素化する工程を含むキシリレンジアミンの製造法において、クエンチのために使用する有機溶剤がＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）であり、高沸点成分の除去後でかつ水素化の前に、ＮＭＰ及び／又はフタロニトリルよりも低い沸点を有する生成物（低沸点成分）の部分的又は完全な除去を行い、かつフタロニトリルを水素化工程のために有機溶剤中又は液体アンモニア中に溶解又は懸濁させることを特徴とする、キシリレンジアミンの製造法。
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本発明は、液体フタロニトリルを、反応器中で、不均一系触媒上で、液体アンモニアの存在下で連続的に水素化させ、その際、反応器搬出物の一部を、液体循環流として連続的に反応器入口に再循環させる（循環様式）キシリレンジアミンの製造方法に関し、この場合、この方法は、フタロニトリル溶融物流を液体の形で、混合ユニットを用いて水素化反応器周囲の循環流中に導入し、その際、反応器中のフタロニトリル変換率はシングルパスで９９％を上廻り、かつ循環流は９３質量％を上廻る量の液体アンモニアおよびキシリレンジアミンから成り、かつさらにフタロニトリルのための任意の他の溶剤を含有することはない。 （もっと読む）

以下の工程：キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、及びフタロニトリルを水素化する工程を含む、キシリレンジアミンの製造法において、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤又は溶融フタロニトリルと直接接触させ（クエンチ）、得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液又はフタロニトリル溶融物から、フタロニトリルよりも低い沸点を有する成分（低沸点成分）を部分的又は完全に除去し、かつフタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物（高沸点成分）をフタロニトリルの水素化の前に除去しないことを特徴とする、キシリレンジアミンの製造法。 （もっと読む）

本発明は、ジニトリルの水素化によって得られたジアミンの精製方法に関するものである。より具体的には、本発明は、アジポニトリルの水素化によって得られたヘキサメチレンジアミンの精製方法に関するものである。本発明の方法は、蒸留塔から回収されたヘキサメチレンジアミン流れの一部分を処理し、そしてこの処理された流れを前記塔に再注入することからなる。 （もっと読む）