国際特許分類[C07C209/48]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | 炭素骨格に結合しているアミノ基を含有する化合物の製造 (1,159) | カルボン酸またはそのエステルのアンモニアまたはアミン存在下における還元によるもの,またはニトリル,カルボン酸アミド,イミンまたはイミノ―エーテルの還元によるもの (135) | ニトリルの還元によるもの (86)
国際特許分類[C07C209/48]に分類される特許
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金属触媒の沈降速度、沈降密度の制御の改善および凝集剤の使用による性能の改善
触媒を凝集剤で処理することによる、触媒または触媒の前駆体の懸濁液および沈降特性の調節方法 (もっと読む)
ジニトリル水素化方法における調節剤の使用
ジニトリルを、触媒と、第四級水酸化アンモニウム、第四級シアン化アンモニウム、第四級フッ化アンモニウム、および第四級チオシアン化アンモニウム;第四級水酸化ホスホニウム;一酸化炭素;およびシアン化水素からなる群より選択された調節剤との存在下で、水素と接触させ、ジニトリルを接触水素化してアミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンの両方を製造する方法。 (もっと読む)
触媒の変性方法並びに該触媒の使用
触媒の変性方法であって、1種以上の溶剤の存在下で炭素含有残分の堆積によって、その際、処理の間の触媒処理溶液上の気相が、空気又は不活性ガスであり、かつ/又は液相が、テンプレート剤及び/又は塩基を含有する方法。変性された触媒は、有機化合物の立体選択的、化学選択的及び位置選択的な変換のために使用することができる。
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3−ジメチルアミノプロピルアミン(DMAPA)を製造するための低圧方法
低圧水素化方法を用いてN,N−ジメチルアミノプロピオニトリルから3−ジメチルアミノプロピルアミンを高純度で製造するための改良方法が開示されている。この基本的方法は、ニトリルと水素を触媒の存在下低圧でニトリルを第1級アミン生成物に変換するのに十分な条件下で接触させることを含む。 (もっと読む)
マイクロリアクターを用いた接触水素化方法
【課題】本発明は、還元されにくいとされる不飽和有機化合物を、マイクロリアクターを用いて効率的に還元する方法を提供する。具体的には、ベンゼン環等の芳香族骨格を有する有機化合物、アルキルニトリル化合物などの還元されにくい不飽和有機化合物を、マイクロリアクター中で触媒の存在下、穏和な条件で効率的に接触水素化する方法を提供する。
【解決手段】還元されにくい不飽和有機化合物を接触水素化する方法であって、該還元されにくい不飽和有機化合物と水素源を混合した後、水素化触媒を含むマイクロリアクターを通過させて該還元されにくい不飽和有機化合物を水素化することを特徴とする方法。
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酸化形態の官能基を還元する方法
酸化形態の官能基を還元する新規な方法。本発明は、更に詳しくは、アルデヒド、ケトン、エステル、ラクトン、ニトリルまたはホスフィンオキシド基の還元に関する。本発明による還元方法は、還元される官能基を含む基体を、ルイス酸型触媒と組み合わせて、以下の式(I)のシロキサン型化合物の存在に曝露する工程を含むことを特徴とする。
前記式(I)において、R1およびR2は、同一か異なり、アルキル、シクロアルキルまたはアリール基であり、Xは、0〜50の数字である。
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分子スペーサーアーム、製造方法、ならびに分子もしくは生体分子を有する分析チップ上での利用
本発明は、分子スペーサーアーム、固体支持体への分子単位の固定方法、ならびに分子もしくは生体分子を有する分析チップ上での該スペーサーアームの利用に関する。該スペーサーアームは式(I)であり、
式中:
X0、X4=C、O、S、Se、N、P、As;
X1−3=C、O、N、S、Se、P、As、もしくは、アリール、C1−6位でのヘテロアリール;
Z1−2=C−R、Si−R、N、P、およびAs、ここでR=C1−6位でのアルキル;
R1−3=H、もしくは、アルキル、アリール、C1−6位でのヘテロアリール;
[Gp]=N<の保護基;
n、mおよびn=1以上の整数;
[Sup]=H、もしくは、シラン化固体支持体;
[mo]=H、もしくは、該スペーサーアームの仲介により共有結合的に該シラン化固体支持体上に固定されることを目的とされる分子単位
である。
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イオン性液体の存在での不均一触媒上のニトリル水素化
少なくとも1種の不均一触媒上で有機化合物に含まれるニトリル官能基を水素化する方法が記載され、水素化をイオン性液体の存在で実施する。 (もっと読む)
ヘキサメチレンジアミンが200PPM未満のテトラヒドロアゼピンを含有するヘキサメチレンジアミンおよびアミノカプロニトリルのアジポニトリルからの生成方法
単蒸留によって容易に分離できるHMDとHMIとの混合物を生成するために水素化することができるHMDとTHAとの混合物の形成をもたらす蒸留の組み合わせを用いることによるADNの部分水素化からのACNおよびHMDの両方の製造方法。
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キシリレンジアミン(XDA)の製造法
以下の工程:キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、その際、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤と直接接触させる(クエンチ)、及び得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液中でフタロニトリルを水素化する工程を含むキシリレンジアミンの製造法において、有機溶剤がN−メチル−2−ピロリドン(NMP)であることを特徴とする、キシリレンジアミンの製造法。
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