本発明は、アミノアセトニトリル（ＡＡＮ）を少なくとも３０質量％、およびイミノジアセトニトリル（ＩＤＡＮ）を少なくとも５質量％含むアミノニトリル混合物を触媒の存在下で水素化する、エチレンアミン混合物の製造方法に関する。生成するエチレンアミン混合物から、エチレンジアミン（ＥＤＡ）、および／またはジエチレントリアミン（ＤＥＴＡ）、ならびに場合によりさらなるエチレンアミンを単離することができる。 （もっと読む）

本発明は、ホルムアルデヒドシアンヒドリンが十分に不含である（ＦＡＣＨ−不含）粗ＡＡＮを５０〜１５０℃の温度に加熱する、アミノアセトニトリル（ＡＡＮ）及びイミノジアセトニトリル（ＩＤＡＮ）５〜７０質量％を含有するアミノニトリル混合物の製造のための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、エチレンジアミンジアセトニトリル（ＥＤＤＮ）を触媒の存在下で、かつ溶媒中で水素化する、トリエチレンテトラミン（ＴＥＴＡ）の製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、ジエチレントリアミンジアセトニトリル（ＤＥＴＤＮ）を触媒で水素化することによりテトラエチレンペンタアミン（ＴＥＰＡ）を製造する方法に関する。場合によりＤＥＴＤＮは、付加的にジエチレントリアミンモノアセトニトリル（ＤＥＴＭＮ）を含有するアミノニトリル混合物の成分として存在していてもよい。 （もっと読む）

本発明は、触媒を用いたアミノアセトニトリルの水素化による、エチレンジアミンの製造方法に関し、アミノアセトニトリル、０〜６０質量％の割合の水、および溶媒を含む溶液中で水素化を行い、この際溶液中に含まれるアミノアセトニトリルを、アミノアセトニトリルが水素化の際に水素と反応する速度以下の速度で反応槽に供給することを特徴とする。 （もっと読む）

対応する式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）のニトリルを、水素を用いて水素化することによって、式（Ｉ）または（ＩＩ）の多官能アミンを調製するための方法が記載されおり、その特徴は、式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）のニトリルの溶融物、溶液または懸濁液を、アンモニアおよび場合によっては他の添加物を含む溶媒中の触媒の懸濁液または溶液に、反応時間全体にわたって添加し、６０〜１５０℃の範囲の温度で、水素圧力下撹拌する点にある。
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本発明は、３−シアノ−３，５，５−トリメチル−シクロヘキシルイミンを含有する出発物質流と水素およびアンモニアとの水素化触媒上での反応による３−アミノメチル−３，５，５−トリメチル−シクロヘキシルアミンの連続的な製造法において、反応混合物の塩基性度を、３−シアノ−３，５，５−トリメチル−シクロヘキシルイミンの一部を反応させた後に、該反応混合物をアンモニアとは異なる塩基性化合物および／または塩基性触媒と接触させることによって、反応の間に高めることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】脂環式アミン又は飽和複素環式アミンを高収率で容易に製造し得る有用な方法を提供する。
【解決手段】芳香族ニトリル又は不飽和複素環式ニトリルを、パラジウムとロジウム及び/又はルテニウムを含有する貴金属系触媒、及びアミノアルコールの存在下で水素化反応を行うことにより、医薬品原料などに用いられる高純度の脂環式アミン又は飽和複素環式アミンが、収率よく且つ工業的に有利に製造できる。 （もっと読む）

本発明は、ダイマーおよびトリマー酸から由来し得るニトリルから高純度の第１級ジアミンおよびトリアミンを調製するための方法に関する。本方法は、酸官能基をアンモニア処理する工程と、ニトリル官能基を第１級アミン官能基へ水素化する工程とを含み、追加の精製工程を全く必要としない。 （もっと読む）

本発明は、触媒の存在下におけるニトリル化合物の水素添加によるアミン化合物の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、ラネー金属をベースとする触媒の存在下におけるジニトリル化合物の連続水素添加によるジアミンの製造方法に関する。本発明の方法は、不純物の生成及び触媒活性の低下を最低限にするためにニトリル化合物のモル流量及び水素添加栓流反応器中の触媒の重量流量を調節することに関する。 （もっと読む）