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国際特許分類[C07C211/27]の内容

国際特許分類[C07C211/27]に分類される特許

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【課題】 穏和な反応条件下でアミド化合物を還元し、反応生成物から触媒および還元剤残渣を容易に除去でき、さらに、目的とするアミン化合物を収率良く得られる方法を提供する。
【解決手段】 (1)アミド化合物を、遷移金属触媒の存在下で、分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも1つ有するポリマーによって還元し、この際に酸化された該ポリマーはゲル状乃至固体状物質となる工程、次いで、
(2)前記ゲル状乃至固体状物質を除去する工程、
を含むことを特徴とするアミン化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】メチルイソブチルケトンとベンジルアミンを、イミンの形成が抑制された条件下に操作性良く分離しうる方法を提供する。
【解決手段】メチルイソブチルケトンとベンジルアミンの混合物を水と混合し、得られた油水二相系の混合物を蒸留する。この蒸留により、低沸点側の留出液として、メチルイソブチルケトンと水の混合物を得ることができると共に、高沸点側の留出液として、又は缶出液として、ベンジルアミンを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】アンモニアの使用量を著しく減少させ、温和な反応条件で高純度のキシリレンジアミンを高い収率で製造することができる、キシリレンジアミンの製造方法を提供すること。
【解決手段】アンモニア雰囲気下でフタロニトリルに触媒及び反応溶媒を混合した後、水素化反応を行って、キシリレンジアミンを製造する方法において、前記反応溶媒としてイミダゾール類を使用することを特徴とするキシリレンジアミンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
光学活性α,β−ジアリールエチルアミン化合物の優れた異性化方法を提供すること。


【解決手段】
式(1)


〔式中、R1及びR2は各々C1−C4アルキル基を表し、m及びnは各々0〜5の整数を表す。但し、mが2以上の整数である場合、R1は同一又は相異なっていてもよく、nが2以上の整数である場合、R2は同一又は相異なっていてもよい。〕
で示される光学活性α,β−ジアリールエチルアミン化合物を
ラネーニッケル及び水の存在下で、60〜100℃の加熱条件下で反応させることにより、該光学活性α,β−ジアリールエチルアミン化合物を効率的に異性化することができる。 (もっと読む)


本発明は、フタロジニトリルの不均一系触媒反応による水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法に関する。本発明によれば、ニッケル骨格触媒、水、アルカリ金属水酸化物および溶剤としてのエーテルの存在下に、1〜100バールの範囲の絶対圧力、40〜150℃の範囲の温度で、かつアンモニアを添加することなく水素化を実施する。 (もっと読む)


【課題】 アンモニアを用いてホモアリルアミン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 白金触媒の存在下、カルボニル化合物、アンモニア及びアルコキシカルボニル基又はカルボキシル基を表す。)で表されるカルボニル化合物又は糖類、下式(化2)【化2】


(式中、R、R、及びRは、それぞれ同じであっても異なってもよく、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Rはアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲンを表し,水素原子は含まず、nは1≦n≦4の自然数である)
で表されるアリルスズ化合物を反応させることにより、ホモアリルアミン化合物を製造する。
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水素化をコバルト−骨核−触媒、アルカリ金属水酸化物及び溶剤としてのアルコール及び/又はエーテルの存在で、1〜100barの範囲内の絶対圧で、かつ40〜150℃の範囲内の温度で実施する、フタロジニトリルの不均一系触媒による水素化によるキシリレンジアミンの製造方法。
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【課題】TNFαを阻害する。
【解決手段】イミド類は、腫瘍壊死因子αの阻害剤であり、無液質、内毒性ショック、及びレトロウィルスの複製を克服するのに使用できる。 (もっと読む)


物理化学的性質に優れたシブトラミンの新規スルホン酸塩を開示する。また、前記化合物の製造方法、および前記化合物を含む薬学的組成物を開示する。 (もっと読む)


【課題】長期保存しても経時着色が小さいキシリレンジアミンの保存方法を提供する。
【解決手段】キシリレンジアミンおよびキシリレンジアミン100重量部に対して0.1〜8重量部の水からなる、キシリレンジアミン組成物、およびキシリレンジアミンに、キシリレンジアミン100重量部に対して0.1〜8重量部の水を添加することを特徴とする、キシリレンジアミンの保存方法。
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