国際特許分類[C07C25/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | 6員芳香環に結合している少なくとも1個のハロゲン原子を含有する化合物 (569)
国際特許分類[C07C25/00]の下位に属する分類
ハロゲン化された単環式芳香族炭化水素 (138)
ハロゲン化された多環式芳香族炭化水素 (363)
不飽和側鎖をもつハロゲン化された芳香族炭化水素 (54)
国際特許分類[C07C25/00]に分類される特許
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新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】式(1)で示されるスルホン酸塩。
CF3−CH(OCOR)−CF2SO3-M+ (1)
(Rは置換もしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数6〜14のアリール基を示す。M+はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン)
【効果】本発明のスルホン酸は、分子内にエステル部位を有しているため、嵩の低いアシル基から嵩高いアシル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、アントライル基等の導入が容易であり、分子設計の幅を大きく持つことができる。
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新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】下記一般式(1a)で示されるスルホン酸塩。
CF3−CH(OH)−CF2SO3-M+ (1a)
(式中、M+はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオンを示す。)
【効果】本発明によれば、分子内に極性基であるヒドロキシル基を有しているため、水素結合等により酸拡散長を適度に抑えることができ、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。更にはArF液浸露光の際にウエハー上に残る水の影響も受けにくく、欠陥を抑えることができる。
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光活性化合物
本出願は式A−X−Bの化合物に関し、ここで、(i)A−X−Bはイオン性化合物Ai Xi Biを形成し、AiおよびBiはそれぞれ個別に有機オニウムカチオンであり、Xiは式Q−R500−SO3−のアニオンであるか、または(ii)A−X−Bは非イオン性化合物Ac−Xc−Bcを形成し、Ai、Bi、Q、R500、Ac、Bc、およびXcについては本明細書で定義される。この化合物は光活性物質として有用である。 (もっと読む)
塩酸からの塩素製造方法
塩酸から塩素を製造する方法であって、a)塩酸供給流Iを得、
b)塩酸循環流IIを得、c)蒸留工程において塩酸供給流Iと塩酸循環流IIとから、塩化水素流IVを分離し、d)塩化水素流IV、酸素含有流V、及び必要に応じて酸素含有循環流Vaを酸化帯域に供給し、触媒の存在下に塩化水素を酸化して塩素とすることにより、塩素、未反応酸素、未反応塩化水素及び水蒸気を含む生成ガス流VIを得、e)吸収工程において生成ガス流VIから塩化水素と水とを分離して気体流VIIと塩酸循環流IIとを得、f)必要に応じて気体流VIIを乾燥させ、g)気体流VIIから酸素含有流を分離し、必要に応じて酸素含有流の少なくとも一部を酸素含有循環流Vaとして酸化帯域に循環させ、塩素含有生成物流VIIIを残し、h)必要に応じて、更に塩素含有生成物流VIIIを精製する、塩素の製造方法が得られた。
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