【課題】溶液で静止時には光学活性を示さないアミド結合を有する化合物を原料として、光学活性を示す材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アミド結合を有する化合物を含み、静止時には光学活性を示さない溶液を、回転させる。 （もっと読む）

【課題】熱変性処理をせずとも、ポジ型レジスト組成物からキノンジアジド系感光剤の析出を抑制又は防止できるようにすると共に、ポジ型レジスト組成物の調製の際にポジ型レジスト組成物へのキノンジアジド系感光剤の溶解を容易にする。
【解決手段】キノンジアジド系感光剤が有機溶剤に溶解してなるキノンジアジド系感光剤溶液は、キノンジアジド系感光剤の析出防止剤としてチオール化合物を含有する。また、ポジ型レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、架橋剤と、キノンジアジド系感光剤と、キノンジアジド系感光剤の析出防止剤としてチオール化合物とを含有する。 （もっと読む）

本発明は、クロム含量１５〜２２質量％およびニッケル含量９〜１５質量％を有するオーステナイト鋼から成る装置中で、メタンスルホン酸水性溶液を取り扱う方法に関する。 （もっと読む）

【課題】着色成分の含有量が僅少であり、保存による着色劣化が軽減されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ナフトキノンを溶解し且つ水に実質的に不溶である有機溶媒にナフトキノンを溶解して得た溶液（Ａ）と亜硫酸水素塩または炭酸水素塩の水溶液（Ｂ）とを混合する付加反応工程、ナフトヒドロキノン化合物含有水相を有機溶媒相から分離する分離工程、分離回収されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液中に存在する溶剤を除去する脱溶剤工程を順次に含み、更に、付加反応工程より後の任意の位置においてナフトヒドロキノン化合物の水溶液を吸着剤で処理する脱色工程を含み、そして、付加反応工程、分離工程および脱溶剤工程における各溶液および水溶液における溶存酸素濃度を５ｐｐｍ以下に維持し、且つ、前記の何れかの工程にて安定剤として酸化防止剤または還元剤を添加する。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、電解フッ素化で製造したトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを、３工程を経ることにより、高選択率かつ高純度で効率良く製造できる。また、該目的物を繰り返して製造することも可能であり、工業的規模で製造する上で非常に優れた方法である。
【解決手段】トリフルオロメタンスルホニルフルオリドに、金属水酸化物を反応させた後、続いて酸で処理してトリフルオロメタンスルホン酸を得る。次いでトリフルオロメタンスルホン酸に三塩化リン（ＰＣｌ₃）及び塩素（Ｃｌ₂）を反応させ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド(ＣＦ₃ＳＯ₂Ｃｌ）を得る。次いでトリフルオロメタンスルホニルクロリドに、水及びハロゲン化４級塩存在下、金属フッ化物を反応させることにより、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを得る。 （もっと読む）

本発明は、イオン性液体（ＩＬ）に、少なくとも１種の第３級アミン又はこのイオン性液体（ＩＬ）とは異なる第４級アンモニウム化合物を添加することによって、イオン性液体（ＩＬ）の加水分解安定性を改良するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】低温状態におけるアルキルベンゼンスルホン酸塩組成物水溶液の結晶析出を防止する。
【解決手段】グリセリンのアルキレンオキサイド付加物を、アルキルベンゼンスルホン酸塩水溶液用の結晶析出防止剤として用いる。 （もっと読む）

【課題】高性能で、プロトン伝導性が高く、耐熱性に優れ、且つイオン交換容量、触媒性能などにも優れた固体酸を作業安全性、収率、分子設計の自由度が高く、再現性がよく、且つ容易に製造できる方法および固体酸を提供する。
【解決手段】スルホン酸基を有する重縮合化合物を、NH₂基を有する高分子凝集剤で凝集処理することを特徴とする固体酸の製造方法。このような方法で製造された固体酸は低価格で、高性能を有し、プロトン伝導膜、固体酸触媒、イオン交換膜等に使用できる。 （もっと読む）