【課題】高温、高湿度、またはオゾン存在下の過酷な条件に晒されても、導電性および透明性に優れる、金属導電性繊維を含有する導電性組成物、その導電性組成物を含む導電性層を有する導電性部材、その製造方法および当該導電性部材を用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも、ａ）平均短軸長が１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の金属導電性繊維、およびｂ）前記金属導電性繊維に対して、０．１質量％以上１０００質量％以下の特定構造を有する化合物、を含有する導電性組成物。 （もっと読む）

【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光によりｐＫａが０以上である酸を発生する酸発生剤成分（Ｃ）（但し、前記基材成分（Ａ）を除く）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（但し、前記基材成分（Ａ）及び前記酸発生剤成分（Ｃ）を除く）と、を含み、前記基材成分（Ａ）が、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有する重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含窒素有機化合物成分（Ｄ）とを含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有し、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）は、下記一般式（ｄ１）で表される化合物（Ｄ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。［化１］
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【課題】パターン倒れを抑制でき、且つ、パターン形状やＬＷＲ、ＥＬマージン等のリソグラフィー特性にも優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】
スルホンアミドからスルホンアミドアルカリ金属塩を経由してスルホンアミドオニウム塩を製造する方法は、スルホンアミドアルカリ金属塩の収率が低く、工業的なスルホンアミドオニウム塩の製造方法ではなかった。
【解決手段】
スルホンアミドを、水酸化アルカリ金属と反応させる第１工程を含む、一般式（２）
【化】


で表されるスルホンアミドアルカリ金属塩の製造方法。
（式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基または置換基を有していてもよい炭素数２以上の末端に重合性不飽和基を有する基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状の向上や、パターン倒れの抑制を達成できるレジスト組成物の、クエンチャーとして有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｃ１）で表される化合物［Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
［化１］
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【課題】解像性に優れ、パターン形状やＬＥＲ等のリソグラフィー特性にも優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（化合物（Ｃ１）を除く）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）１００質量部に対し、酸発生剤成分（Ｂ）の含有割合は１０〜６０質量部であり、化合物（Ｃ１）と酸発生剤成分（Ｂ）との合計に対し化合物（Ｃ１）の含有割合は１〜１５モル％である［Ｒ^Ｃ１は水酸基、アルコキシ基、シアノ基、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ^Ｃ２）＝ＣＨ_２又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^Ｃ３、Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基、ｐは１〜１０、Ａ^＋は有機カチオンを表す］。
[化１]
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【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）として、一般式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
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【課題】ビタミンＤ３様作用を有する、新規な２位アミノ置換ビタミンＤ３誘導体、その製造方法、この製造に用いられる光学活性な４位にアミノ置換基を持つ1-オクテン-7-イン誘導体を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるビタミンＤ３誘導体、その製造方法、この製造に用いられる光学活性な４位にアミノ置換基を持つ1-オクテン-7-イン誘導体。前記化合物を有効成分として含有する乾癬治療薬。
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