【課題】 ガスクラスレート生成過程において生成されたガスクラスレートによって反応管路が閉塞することを可及的に防止して、効率よくガスクラスレートを製造する方法および装置を得る。
【解決手段】 原料液と原料ガスとを反応させてガスクラスレートを製造する方法において、原料液と原料ガスとをライン途中で混合して原料ガスを原料液に溶解させる混合・溶解工程と、混合・溶解されたものを反応管路に流しながら冷却してガスクラスレートを生成するガスクラスレート生成工程と、既に生成されたガスクラスレートを前記反応管路に注入するガスクラスレート注入工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートスラリーから、不具合なく効率的に原料水を脱水除去してガスハイドレートを抽出するガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート製造方法を提供する。
【解決手段】原料水と原料ガスとを反応させて、原料水にガスハイドレートが混合したスラリーを生成するガスハイドレートスラリー生成手段２０、生成したガスハイドレートスラリーから、このスラリーに混合した原料ガスを除去するとともに、ガスハイドレートスラリーにおけるガスハイドレートスラリー濃度を高めて濃縮スラリーとする原料ガス除去手段３０、およびこの濃縮スラリー（原料ガスが除去されている）から、原料水を除去してガスハイドレートを抽出する脱水手段４０を有して構成されるガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低圧下でも、ハイドレート化でき、ガス選択性に優れたハイドレート製造法及びガス精製法の提供
【解決手段】 低級炭化水素を含有する燃料ガスを有機物水溶液に１ＭＰａ以下の圧力で接触させるハイドレートの製造法であって、該有機物が、テトラヒドロフラン及びその誘導体、並びに４級アミン類及びその塩の中から選ばれる１種又は２種以上であり、且つ該有機物水溶液のｐＨを５以下又は８以上に調整したものであることを特徴とするハイドレートの製造法。 （もっと読む）

【課題】低圧のガスを昇圧する圧縮機を必要としない省エネ型のペレット供給方法。
【解決手段】ガスハイドレートと水を混合器で混合して高圧ガス化槽に供給する方法。（１）混合器１８に常圧下でガスハイドレートａを供給する充填工程と、（２）混合器内の旋回室３４に高圧ガス化槽１７からの高圧水ｗ’を供給して旋回流を発生させ、該旋回流に乗って旋回室の下方にある攪乱乱流室３３内のガスハイドレートを旋回させ、かつ、水位の上昇を利用して混合器内で発生したガスｇを圧縮する加圧水注入工程と、（３）攪乱排出室内で旋回しているガスハイドレートと高圧水の混合体ｂを高圧ガス化槽に供給する排出工程と、（４）混合器内のガスハイドレートを高圧ガス化槽に払出した後、混合器の上部に溜まっていた高圧ガスｇ’を、高圧ガス化槽からの高圧水を利用して高圧ガス化槽内に導く注水ガス抜き工程とから成る。 （もっと読む）

【課題】複数の装置から構成されるガスハイドレート生成装置を一体化してシンプルで効率的なガスハイドレート製造設備にする。
【解決手段】水ｗとガスｇとを反応させてガスハイドレートｈを生成した後、このガスハイドレートを脱水して高濃度のガスハイドレートを製造する装置である。水ｗとガスｇとを反応させてガスハイドレートｈを生成するハイドレート生成装置１と、該ハイドレート生成装置１で製造されたガスハイドレートｈの水分を分離するハイドレート脱水装置２とを上下に配置する。 （もっと読む）

【課題】メタンを含む天然ガス中の全ての成分を容易且つ確実にガスハイドレート化すると共に、再ガス化したときに、原料となる天然ガスと同じ成分のガスを得られるようにしたガスハイドレート生成方法及び装置を提供する。
【解決手段】メタンを含む天然ガス中の生成圧力の低いエタン、プロパン、ブタン等と水Ｗを、水に不溶で且つメタンより大きな分子量を有する液状ゲスト物質Ｌｇを用い水和反応させ、主として構造ＩＩ型のガスハイドレートＧＨ_ＩＩを生成させる第一生成槽１と、第一生成槽１で生成されたメタンリッチのガスと水Ｗと前記液状ゲスト物質Ｌｇを用い水和反応させ、構造Ｈ型のガスハイドレートＧＨ_Ｈを生成させる第二生成槽２とを備える。 （もっと読む）

【課題】構造Ｈハイドレートを高能率に製造する。
【解決手段】ゲスト物質流４体内において、冷却した大分子ゲスト物質６と水８とを衝突させ、衝突によって形成される混合微細液滴１０をゲスト物質流体４と接触させることにより構造Ｈハイドレートを生成する。 （もっと読む）

【課題】 均一性が高く最適な粒径のハイドレート粒子が得られるハイドレート生成装置、およびハイドレート粒径制御方法を得る。
【解決手段】 反応タンク１２内もしくは循環水ライン２６に、ＣＣＤカメラ３１（もしくはＣＣＤカメラ３３）を設け、このＣＣＤカメラ３１（もしくはＣＣＤカメラ３３）で撮像された画像を、粒径計測器３２へ入力し、ハイドレート粒子の粒径ｄを求め、制御部３４へ入力し、制御部３４によって、反応タンク１２内のハイドレート生成条件を制御することで、均一性が高く最適な粒径のハイドレート粒子を反応タンク１２内で生成することができる。 （もっと読む）

【課題】原料ガスと水とを反応させて生成したガスハイドレートの脱水率を高め、ガスハイドレート生成プロセスの簡略化を図る。
【解決手段】容器２ｂ内で原料ガスｇと水ｗとを反応させてガスハイドレートｎを生成するガスハイドレート生成装置である。前記容器２ｂの下部をガスハイドレート生成部Ａ、その上方を脱水部Ｂとすると共に、前記容器２ｂ内に、ガスハイドレート生成部Ａから脱水部Ｂにわたってスクリュウ状の掻き上げ装置３を回転自在に設置する。 （もっと読む）

【課題】 輸送中、貯蔵中におけるハイドレート中のガスの残存率を向上させる。
【解決手段】 演算・制御装置６０のハイドレート化率演算部７２は、水分センサ５６が検出信号に基づいてガスハイドレート生成物のハイドレート化率ｘを求め、評価関数・制御目標温度演算部７８に入力する。残存率演算部８０は、粒子径演算部７６が求めたガスハイドレート生成物の粒子径と、製造・輸送条件設定部８４に設定された製造条件、輸送条件と、残存率データ記憶部８６に記憶されている粒子径に対応したガスハイドレートの残存率から、ガスハイドレートの残存率ｙを求めて評価関数・制御目標温度演算部７８の入力する。評価関数・制御目標温度演算部７８は、評価関数Ｊ＝ｘ・ｙを求めるとともに、評価関数Ｊが最大となる生成温度を求めて制御部８２に制御目標温度として出力する。制御部８２は、温度センサ５４の検出する生成温度が制御目標温度となるように制御する。 （もっと読む）