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国際特許分類[C07C5/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | 同数の炭素原子を含有する炭化水素からの炭化水素の製造 (665)

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【課題】原料ガスと水を反応させて生成したガスハイドレートを脱水しながら生成容器外に円滑に払い出す。
【解決手段】耐圧容器2内で原料ガスgと水wとを反応させてガスハイドレートnを生成するガスハイドレート生成装置である。前記耐圧容器2内に当該耐圧容器2の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根4をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段3を回転自在に設ける。 (もっと読む)


【課題】 スプレー式ガスハイドレート生成器から排出される低濃度のガスハイドレートスラリーを簡単な構成で濃縮する。
【解決手段】 ガスハイドレートスラリーが供給される大径の入口管30と、ガスハイドレートスラリーが排出される小径の出口管31と、入口管と出口管を接続する円錐筒状に形成された多孔材からなるろ壁32と、ろ壁の外周を取り囲んで形成された分離水溜め部33と、分離水溜め部に設けられた排水ノズル34とを有して構成されてなる濃縮器2により、低濃度ガスハイドレートスラリーを濃縮することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 流動層反応塔に循環させる原料循環ガスに同伴する微細なガスハイドレートを効果的に分離捕集する。
【解決手段】 原料ガスを流動化ガスとするガスハイドレートの流動層を形成してガスハイドレートの濃度を高くする流動層反応塔1と、流動層反応塔の頂部から原料ガスを抜き出し、冷却して流動層反応塔の底部に戻す原料ガス循環装置4,5,6と、原料ガス循環装置によって頂部から抜き出される原料ガスに含まれるガスハイドレートを捕集するサイクロン7とを備えことにより、流動層反応塔に循環させる原料循環ガスに同伴する微細なガスハイドレートをサイクロンで分離捕集する。また、サイクロンで捕集しきれないより微細なガスハイドレートはNGH捕集器により効果的に捕集分離することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】所定の圧力条件及び温度条件の下に、原料水と原料ガスとを反応させて生成槽にてガスハイドレートを製造する際、撹拌機を用いることなく、原料水と原料ガスを効率よく撹拌して反応を促進させるとともに、設備上の製造コスト及び設備の維持費を抑制する。
【解決手段】生成槽12内の原料水を生成槽の下部から引き出して流速を与えるとともに、流速の与えられた原料水を、液路中の液路断面積が絞られたスロート部27bを用いて生成槽12内に噴出させる。原料水を生成槽12に噴出させる直前に、流速の与えられた原料水に、生成槽から引き出された原料ガスをスロート部27bで気泡にして混合させる。スロート部27bには誘導壁32を設け、原料水に、スロート部27bの周に沿った回転成分を与えてらせん状の動きを生じさせる。 (もっと読む)


【課題】 粒径が大きなハイドレートを生成する。
【解決手段】 ハイドレート生成装置10では、スプレー塔12内の未反応の天然ガスNGをガス循環ライン42で冷却して循環させる。また、ガス供給ライン36を分岐させて、天然ガスNGをスプレー塔12の底部から上部にかけて分割して送り込む。また、スプレー塔12内で天然ガスNGが底部から上部にかけて流れる気流を形成し、さらに、スプレー塔12のハイドレート生成領域Aの全高を10m以上とすることで、水Wの滞留時間を長くする。 (もっと読む)


【課題】 反応タンク内に水を噴射すると共に、天然ガスを導入するハイドレート生成装置において、反応タンクの内壁に水滴が付着してハイドレートが生成、成長するのを防止する。
【解決手段】 反応タンク12の上部にノズル14が配設されており、水循環ライン18から冷却された水がノズル14に供給され、反応タンク12内に水が噴射される。反応タンク12の導入パイプ32には、天然ガス供給ライン22から冷却された天然ガスが供給される。反応タンク12の側壁部12Bの内壁には、フッ素系樹脂からなる被覆層42が形成されている。被覆層42は、低熱伝導率で撥水性があるので、ノズル14から水が噴射されたときに被覆層42に水滴が付着しにくい。また、反応タンク12の底部12Aに貯留された低温の水によって被覆層42の水滴が冷却されにくいため、側壁部12Bでハイドレートが生成、成長するのを防止できる。 (もっと読む)


【課題】設備を単純化してコスト低減が可能で、生成したガスハイドレートの付着水を脱水しつつ、円滑に排出することができる排出機構を有するガスハイドレート生成装置を提供する。
【解決手段】生成したガスハイドレートHを、耐圧容器1内側面に沿って上方搬送装置5のらせん状の搬送路5aを回転させて上方に搬送した後、排出羽根6の上方に配置した通気性のある回転円盤7で、ハイドレート形成ガスGの循環を確保しつつ、ガスハイドレートHがさらに上方に移動することを防ぎ、回転する排出羽根6で耐圧容器1の内側面の排出路2の開口部2aに向けて導入して排出路2の排出フィーダ3で排出する。 (もっと読む)


【課題】 反応タンク内にノズルから水を噴射すると共に、天然ガスを導入するハイドレート生成装置において、ノズルがハイドレートで閉塞したとき、ノズルの閉塞を迅速に解除する。
【解決手段】 反応タンク12の上部に2つのノズル14A,14Bが配設されており、水循環ライン18から分岐された配管パイプ19A,19Bがノズル14A,14Bに接続されている。配管パイプ19A,19Bには、圧力計44A,44B、開閉弁46A,46Bが設けられている。ノズル14A,14Bの周囲には、ヒータ48A,48Bが設けられている。開閉弁46Aが開放され、ノズル14Aから水が噴射されるときは、ノズル14Bの開閉弁46Bは閉止されている。ノズル14Aにハイドレートが詰まり、圧力計44Aの圧力が所定値よりも高くなったとき、CPU42は、開閉弁46Aを閉止し、ヒータ48Aでノズル14Aを加熱する。これにより、ノズル14Aに詰まったハイドレートが分解される。また、開閉弁46Bを開放してノズル14Bに切り換えることで、生産性は低下しない。 (もっと読む)


【課題】ガスハイドレートによる水切り部の目詰まりを防止して脱水器の安定的な運転を実現するとともに、定脱水率の運転を実現する。
【解決手段】天然ガス等の原料ガスgと水wとを反応させてガスハイドレートnを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーsを脱水器12によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器12内の液面を上下させて水切り部19を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】 クラスター状のガスハイドレートが搬送中に塊となっても、流動層内には、そのガスハイドレートが塊となった状態では投入されないようにできるガスハイドレート生成装置の提供を課題とする。
【解決手段】 脱水器12から排出されるクラスター状のガスハイドレートを流動層14へ搬送するフィーダー16を備えたガスハイドレート生成装置10において、フィーダー16の流動層14側出口付近に、搬送中に塊となったガスハイドレートを解砕可能な解砕部材30を設ける。 (もっと読む)


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