【課題】 好適な脱水装置とガスハイドレート濃度の制御とを実現する。
【解決手段】 縦型容器と、容器の上部からガスハイドレートを排出するスクリューコンベア２６と、容器の側部に形成された複数の孔５２と、複数の孔５２を包囲する水抜き室５１を形成する水抜き部２１と、水抜き室５１の下部に接続された水抜き管路５３とを備えた脱水塔２において、水抜き管路５３に流量制御弁２３を設け、水抜き室５１の水位が設定水位になるように制御器で流量制御弁の開度を制御することにより、水抜き室５１の水面、つまり粉粒状のガスハイドレートが浸漬する水面を調整できるので、脱水塔２から排出されるガスハイドレート濃度を制御できる。 （もっと読む）

【課題】 クラスレート水和物の高速生成を実現できるクラスレート水和物の製造方法及び製造装置を提供すること。
【解決手段】 本発明は、原料ガス及び水を接触させてクラスレート水和物を製造する装置１において、反応槽２内に水を噴霧する電極を兼ねるノズル１０、電極１１、電極１０，１１間に電界を印加する電界印加手段１２を備え、ノズル１０及び電極１１が、電界印加手段１２によりノズル１０及び電極１１間に印加される電界を、電極１０から噴霧される水に印加可能な位置に配置される。この装置１によれば、反応槽２内に水を供給すると、水は電極１０により反応槽２内に噴霧され、微少な水滴を形成する。このとき、反応槽２内に原料ガスが供給されると、原料ガス及び水滴が接触してクラスレート水和物が製造される。ここで、電界印加手段１２により、上記水滴に電界が印加されることで、クラスレート水和物の結晶核の高速生成、ひいてはクラスレート水和物の高速生成が実現可能となる。また水滴の熱伝達率が増加し、水滴の冷却が容易となる。 （もっと読む）

【課題】 反応容器に気体を供給する際の気体供給圧力を気液接触反応圧よりも小さくして、気体等の加圧のために必要な動力を小さくすることができて、装置をコンパクトにすることができる気液接触反応方法及び気液接触反応装置を提供する。
【解決手段】 反応容器１０内に、所定の気体注入圧力Ｐ２以上に加圧された気体Ｇを注入し、該気体注入後に所定の気液接触反応圧Ｐ３以上に加圧された液体Ｌを前記反応容器１０に注入し、該液体Ｌの注入により、前記気体Ｇを前記気液接触反応圧Ｐ３以上に昇圧して、前記気体Ｇと前記液体Ｌを気液接触反応させる。 （もっと読む）

本明細書で開示したのはエチレン系不飽和単量体類の早期重合および重合成長を阻止する方法で、（Ａ）式（Ｉ）のスルホン化フェノール、（１）Ｒ_２は水素、およびヒドロカルビルからなる群より選ばれ、（２）Ｒ_１とＲ_３は独立に水素およびＳＯ_３Ｈからなる群より選ばれるが、ただし少なくともＲ_１とＲ_３の１つはＳＯ_３Ｈである少なくとも１種の重合禁止剤、（Ｂ）ニトロフェノールである少なくとも１種の重合禁止剤、そして任意に（Ｃ）ニトロキシル化合物類とニトロソアニリン類からなる群より選ばれる重合禁止剤と、（Ｄ）アミンの組合せの有効量を前記単量体類に添加する方法を含む。
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【課題】高圧下で生成したガスハイドレートを常圧、氷点下で貯蔵する際に、パージガスの発生を抑制する。
【解決手段】高圧下で原料ガスｇと水ｗを反応させてガスハイドレートを生成し、このガスハイドレートを高圧下でペレットｐに成形し、次に、このガスハイドレートペレットｐを脱圧して常圧下で貯蔵する。ペレット成形工程で成形したガスハイドレートペレットｐを、原料ガス以外のガスを液化させた高圧の作動液ａに浸漬した後、減圧ドラム１５内に導入する。この減圧ドラム１５内の高圧の作動液ａをフラッシュ弁１８からフラッシュして減圧ドラム１５内を常圧まで脱圧する。 （もっと読む）

【課題】メタンガスハイドレートの分解方法とは相違して、大量に存在し、供給しやすい安定な媒体を供給してメタンガスハイドレートを分解する方法及び装置の提供
【解決手段】低温高圧下にあるメタンガスハイドレートを分解させてメタンガスを取り出す方法において、相平衡状態で安定しているメタンガスハイドレート中に空気を送入することにより、メタンガスハイドレートが分解領域となり、前記メタンガスハイドレートの分解反応によるメタンガスを取り出して回収することを特徴とするメタンガスハイドレートを分解してメタンガスを取り出す方法及び前記装置において、メタンガスハイドレートが蓄えられている部分に必要量の空気を供給する手段、前記メタンを回収する回収手段、空気を供給する手段及びメタンガスハイドレートが分解されて発生するメタンを回収する回収手段がプラットホーム上に設置されている装置。 （もっと読む）

【課題】 脱水素触媒と水蒸気の存在下でエチルベンゼンの脱水素反応によるスチレンの製造において、脱水素反応装置以降の熱交換器、冷却凝縮器および／又は圧縮凝縮器、移送ラインおよび給排ライン、蒸留精製工程の蒸留塔およびこれらの周辺装置やその移送／給排ラインでのスチレンの重合に由来する汚れの発生、付着を防止する方法を提供することにある。
【解決手段】 脱水素触媒と水蒸気の存在下でエチルベンゼンの脱水素反応によるスチレンの製造において、脱水素反応装置から排出され、冷却凝縮器および／又は圧縮凝縮器への供給前の脱水素反応生成物及び／又は凝縮分離したベントガスに、沸点が２００℃〜３５０℃（１気圧）の重合抑制剤を添加することを特徴とするスチレン製造における汚れ防止方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ガスクラスレートの自己保存性に着目して、クラスレートとガス体の間での圧力平衡現象下の状態でクラスレートを容器内に密封することにより、ガスをクラスレートとして貯蔵し、また輸送するに際して、その貯蔵、輸送を容易且つ安全に効率よく行えるのに加え、そのガスクラスレートの分解操作も容易に行えるようにしてなると共に、貯蔵容積効率のよいガスクラスレートの貯蔵方法及び輸送方法及び貯蔵用の容器を提供することを目的とする。
【解決手段】 ガスをクラスレートとして貯蔵する方法であって、ガスクラスレート又はその粉末を、前記ガスと同種のガス体を充填した容器内に収容して貯蔵することを特徴とするガスクラスレートの貯蔵方法。 （もっと読む）

エチレン性不飽和モノマーを含む炭化水素流中での汚損及び粘度上昇を抑制する方法が開示される。本方法は、式（Ｉ）で表される１種以上のキノンメチドの有効量を炭化水素流に添加する段階を含んでいる。式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はＨ、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ_２、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロ及びアリールからなる群から独立に選択される。
【化１】
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【課題】 メタンハイドレートの生成、貯蔵、供給を安定して行うことのできるシステムを具体的に実現する。
【解決手段】 本発明のメタンハイドレート生成装置は、気体状の炭化水素と水とが収容され、ブラインにより冷却される冷却槽２と、該冷却槽内へ多孔質材料の傾斜型マイクロガスバブラー６を介して炭化水素を供給するガス供給手段と、冷却槽内へ水を噴霧する噴霧手段と、前記ガスと水とを攪拌する攪拌機９、脱水機６０、および成型器６１とからなり、前記冷却槽内で、ガスと水とを循環させペレット形状に脱水固形成形することを特徴とする。 （もっと読む）