【課題】 ビニル芳香族モノマーの改良された安定化方法を提供する。
【解決方法】 ビニル芳香族モノマーが重合するのを防止するのに十分な濃度で７−アリール−キノンメチドが存在しているビニル芳香族モノマーと７−アリール−キノンメチドの混合物を加熱し、ビニル芳香族モノマーと７−アリール−キノンメチドを分離して塔頂ビニル芳香族モノマー留出物と塔底物質を生成させ、そしてビニル芳香族モノマーが重合するのを防止するのに十分な濃度で４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコールを留出物に導入し、その際４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコールが本質的に塔底物質中に入らないように４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコールを留出物中に導入する。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートの保存性を高め、移送時、貯蔵時等におけるガスハイドレートの分解を抑制する技術を提供する。
【解決手段】塩素イオン、フッ素イオン、ナトリウムイオン、マグネシウムイオンほかよりなる群から選ばれる１種または２種以上のイオン、及び／または、亜鉛、鉄およびマンガンほかよりなる群から選ばれる１種または２種以上の金属のイオンからなる、電解質が溶液中で解離したイオンを、ガスハイドレート５０の分解抑制物質として含有し、且つ、表面がガスハイドレートの分解により形成された氷膜５２で覆われていることを特徴とする、高い自己保存効果を有し、例えば移送時や貯蔵時の分解量の少ないガスハイドレート。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物を含む混合ガスを冷却する際に、効率よく前記重合性化合物の重合を抑制することができる冷却方法を提供する。
【解決手段】並列する複数の冷却用流路を備え、かつ該流路に被冷却物質を送るための該流路入口部を連通するヘッダーを有する冷却器に、ヘッダー入口から重合性化合物を含む混合ガスを導入して冷却する際に、前記重合性化合物に対する重合抑制剤を、溶媒に対して１００重量ｐｐｍ〜１重量％となるように溶解して、少なくともヘッダーの上流1箇所
から添加する。 （もっと読む）

【課題】早期重合に対して安定化された組成物の提供。
【解決手段】下式Ｉ及びIIで表される安定な立体障害性有機ニトロキシル合物とエチレン性不飽和モノマーを含む早期重合に対して安定化された組成物。例えば１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ベンゾイルオキシピペリジンとスチレンとの１，２−ビス−付加物を含む。
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【課題】ガス化槽の液体相側（例えばガス化槽底部）からガスハイドレートを供給した時に、液体相内でのガスハイドレートの急激な液体表面への上昇を抑えるとともに、効率よくガスハイドレートをガス化するためのガスハイドレートのガス化装置を提供する。
【解決手段】ガス化槽１の液中に、一定以上の粒径のガスハイドレートを液中に留める液中留め部材３を設け、さらに、液中留め部材３に小粒化手段を設けることにより、供給されたガスハイドレートＰを小粒化し、ガス化促進を図りガス化効率を高める。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートの自己保存性を低下させないように、脱水工程で排水された水分を系外へ排出すると共に生成工程に純水を添加して原料水中のイオン濃度を調整しながらガスハイドレートを製造する方法とその装置を提供する。
【解決手段】ガスハイドレート生成装置１、ガスハイドレートに含まれる水分を排出する脱水装置２、およびガスハイドレートを圧縮成形する成形装置３とを備えたガスハイドレートの製造装置において、前記脱水工程の排水を系外に排出すると共にハイドレート生成工程に純水を添加し、この生成工程の原料水ｗ１中のイオン濃度を、ガスハイドレートの分解抑制濃度に調整することを特徴とするハイドレートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートペレットの脱圧工程における分解を防止するために、ペレットに１０μｍから５００μｍの薄くてかつ均一な水膜を形成し、前記ペレットを冷却することで氷膜を形成したガス含有率が高い高品質ペレットの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】ガスハイドレートの生成条件下でガスハイドレートを生成する生成工程と、前記ハイドレートを脱水・圧搾成型してハイドレートペレット２０を成型する成型工程と、前記ペレット２０にマイナスに帯電した前記ペレット２０の原料水３０を噴霧し表面に水膜を形成する水膜形成工程と、前記ペレット２０を冷却する冷却工程と、脱圧して大気圧とする脱圧工程からなる。 （もっと読む）

【課題】少量の水を含み、かつ多量のシクロプロペンを有するシクロプロペン複合体を含有する組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）１種以上のシクロプロペン複合体、および（ｂ）組成物の重量を基準にして０〜１０重量％の水を含む組成物であって、当該組成物中のシクロプロペンの、当該組成物中の分子封入剤に対するモル比が０．９２：１もしくはそれより高いか、または当該組成物は粉体の形態であり、当該粉体の代表サンプルの二次元画像において、当該サンプルの当該画像における当該シクロプロペン複合体のすべての粒子のすべての画像の領域を基準にして２０％以上の、当該シクロプロペン複合体の粒子の画像の領域が、１０マイクロメートル以上の幅寸法を有する当該シクロプロペン複合体の粒子の形態である組成物が提供される。シクロプロペン複合体を含む組成物を製造する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】ガスハイドレートの保存性を高め、移送時、貯蔵時等におけるガスハイドレートの分解を抑制する技術を提供する。
【解決手段】ガスハイドレートの生成条件下で、原料水とガスハイドレート形成物質とを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、ガスハイドレートの分解抑制作用を持つ物質として、例えば、次のａ、ｂから選ばれる１種または２種以上の物質の存在下でガスハイドレートを生成させる。ａ：塩素イオン（Ｃｌ⁻）、フッ素イオン（Ｆ⁻）、臭素イオン（Ｂｒ⁻）、ヨウ素イオン（Ｉ⁻）、ナトリウムイオン（Ｎａ^＋）、カリウムイオン（Ｋ^＋）、リチウムイオン（Ｌｉ^＋）、カルシウムイオン（Ｃａ^２＋）、マグネシウムイオン（Ｍｇ^２＋）およびアンモニウムイオン（ＮＨ_４^＋）よりなる群から選ばれる１種または２種以上のイオン。ｂ：亜鉛、鉄およびマンガンよりなる群から選ばれる１種または２種以上の金属、または該金属のイオン。 （もっと読む）

【課題】不飽和炭化水素前駆体の安定化された組成物の提供。
【解決手段】安定化された組成物は基本的に、不飽和炭化水素系物質並びにヒドロキシベンゾフェノン及びニトロキシルラジカル系安定剤の群から選択される安定剤からなる。安定化された組成物は基本的に、不飽和炭化水素系物質、少なくとも１つの極性溶媒並びに、ヒドロキシベンゾフェノン、ニトロキシルラジカル系安定剤及びヒドロキノン系安定剤の群から選択される安定剤からなる。重合に対する不飽和炭化水素系前駆体を安定化する方法は、ヒドロキシベンゾフェノン及びニトロキシルラジカル系安定剤からなる群から選択される安定剤を加える工程を含む。重合に対する不飽和炭化水素系前駆体と少なくとも１つの極性溶媒の混合物を安定化する方法は、ヒドロキシベンゾフェノン及びニトロキシルラジカル系安定剤からなる群から選択される安定剤を混合物に加える工程を含む。 （もっと読む）