【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種と、芳香族基と、塩基の作用により分解して極性が増大する極性変換基とを有する樹脂成分（Ｃ）と、露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）（ただし前記樹脂成分（Ｃ）を除く。）と、を含有し、前記樹脂成分（Ｃ）中の前記芳香族基を有する構成単位の割合が２０モル％以上であることを特徴とするＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性に優れ、耐久性とリワーク性を同時に満たすことができ、養生期間を画期的に短縮させることができる粘着剤組成物およびそれを含む偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明は、粘着剤組成物およびそれを含む偏光板に関し、さらに詳しくは、ヒドロキシアルキルビニルエーテル単量体を繰り返し単位として含有するビニル−アクリレート共重合体、架橋剤、イオン性固体およびシランカップリング剤を含むことによって、イオン性化合物の表面への移行による耐久性の低下がなく、リワーク性も同時に満たすことができ、粘着剤のゲル化が効率的に進行し、養生期間も画期的に短縮させることができる粘着剤組成物およびそれを含む偏光板に関する。 （もっと読む）

【課題】モノマーもしくはモノマー溶液を、少なくとも一時的な殺胞子性の特性を有し、かつそれによって該モノマーもしくはモノマー溶液が自己滅菌性であり、そのため特に滅菌セメントペーストを製造できるように変質するための廉価で容易な方法を見出すことにあった。
【解決手段】成分Ａメタクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーの混合物、成分Ｂ１過酸化水素、及び／又は成分Ｂ２過酸化水素を遊離する物質又は過酸化水素を遊離する物質混合物、及び成分Ｃ少なくとも１種のラジカル安定剤を含有する殺胞子性の組成物であって、成分Ｂ１と、成分Ｂ２から遊離された過酸化水素と、成分Ｃとが、成分Ａ中に均質に溶解されており、かつＣと（Ｂ１＋Ｂ２）との物質量比が、１対１［モル／モル］より大きい、又はそれと同じである、殺胞子性の組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）(メタ)アクリロイルオキシ有機酸とビシクロラクトン化合物から誘導される特定の構成単位（ａ０）、および該構成単位（ａ０）に該当しない、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】最終的な製品の分散性能などに悪影響を及ぼす不純物の極めて少ない高純度の、アルコールと（メタ）アクリル酸との反応により得られるエステル化物を提供する。
【解決手段】高分子量体の含有率が、２．０面積％以下であることを特徴とする下記一般式（１）


（ただし、Ｒ^１は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表わし、Ｒ^２Ｏは炭素原子数２〜１８のオキシアルキレン基を表わし、この際、各Ｒ^２Ｏの繰り返し単位は同一であってもあるいは異なっていてもよく、およびＲ^２Ｏが２種以上の混合物の形態である場合には各Ｒ^２Ｏの繰り返し単位はブロック状に付加していてもあるいはランダム状に付加していてもよく、Ｒ^３は水素原子またはメチル基であり、ならびにｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表わし、０〜３００の数である）で示されるエステル化物。 （もっと読む）

同じ重合体鎖末端に２個の反応性基を有するテレケリックポリマーを開示する。これらの重合体は、シクロボラン開始剤と、少なくとも１個のフリーラジカル重合性単量体と、酸素とを結合することによって、シクロボラン開始剤から得られる重合体セグメントの一端にボラン残基を有する重合体セグメントを形成することで製造することができ、該ボラン残基を、少なくとも２個の官能基に変換して、テレケリックポリマーを形成する。 （もっと読む）