【解決手段】活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分を含有し、その樹脂成分中の酸の作用によって生じる樹脂可溶化基の少なくとも一部がカルボキシル基であって、カルボキシル基を活性化もしくは縮合する化合物を含むポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料により、微細加工技術、いわゆるリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、良好なマスク忠実性をもつレジストパターンが得られ、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐加水分解性を示し、組成物に高い接着性を付与するリン酸エステル化合物とそれを含有する重合性組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物。


（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ4は置換基を有してもよい炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｒ5は、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｒ6は置換基を有してもよい炭素数２〜４０の有機基を表し、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の炭化水素基、又は金属原子を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−などからなる群から選択される１種を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表す。） （もっと読む）

【課題】フッ素を含まない縮合環複素芳香族光酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、フッ素を含まない光酸発生剤（ＰＡＧ）と、それを含むフォトレジスト組成物とに関する。ＰＡＧは、オニウムカチオン性成分、および１つまたは複数の電子求引性置換基を含む、フッ素を含まない縮合環複素環式芳香族化合物スルホネートアニオン性成分の存在を特徴とする。ＰＡＧのオニウムカチオン性成分は、好ましくはスルホニウムまたはヨードニウムカチオンである。フォトレジスト組成物は、酸感応性イメージング・ポリマーをさらに含む。フォトレジスト組成物は、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）リソグラフィを用いて半導体基板上に材料パターンを形成するのに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、大面積化が可能で、高耐久性なフレキシブル透明電極基板を用いた、光電変換効率に優れた有機光電変換素子を提供することにある。
【解決手段】第一の電極と第二の電極の間に有機光電変換層を有する有機光電変換素子において、前記第一の電極が、少なくとも導電性繊維層と、π共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成る導電性ポリマーと水系バインダーを含有する透明導電層、とを有しており、且つ該導電性ポリマーと水系バインダーを含有する透明導電層の少なくとも一部が架橋されていることを特徴とする有機光電変換素子。 （もっと読む）

【課題】高顔料濃度レジストインキや微細顔料使用レジストインキの現像性を改善することができるレジストインキ用バインダー樹脂を提供する。
【解決手段】側鎖末端にカルボキシル基を有する特定構造の共重合体を主鎖構造として有することを特徴とするレジストインキ用バインダー樹脂。 （もっと読む）

【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(Ａ)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(Ｂ)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(Ｃ)溶剤を含有してなり、光酸発生剤（Ｂ）の含有率が、該組成物の全固形分を基準として８〜２０質量％であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機色素記録層を有する光ディスクにおいて、優れた記録信号特性及び耐久性を付与できる紫外線硬化型樹脂組成物の提供。
【解決手段】紫外線硬化型樹脂組成物は、有機色素記録層を有する光ディスクに適用される紫外線硬化型樹脂組成物であって、（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有する（メタ）アクリレート及び（Ｂ）光重合開始剤を含有すること。（式中、ｎは２〜１６の整数を示す。）
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【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）