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国際特許分類[C08F20/28]の内容

国際特許分類[C08F20/28]に分類される特許

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【課題】ポジ型フォトレジストに用いたときに、ラフネス低減、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、露光感度等に優れる重合体及びこれを与える単量体を提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される化合物。式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。)
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【課題】本発明は、ジオールの調製プロセスに関する。
【解決手段】式(I)の重合性モノマーの調製プロセスが提供され、このプロセスは、式(II)の化合物を、固定化された酸と接触させる工程であって、ここでX、Y、Z、R1、PおよびQは独立して、ヒドロカルビル基または水素から選択され、そしてAは(CH2nであり、ここでnは0または1である、工程を包含する。このとき、固定化された酸は強酸であったり、また、イオン交換樹脂上に固定化される。 (もっと読む)


【課題】界面活性剤を配合しなくても油性成分を乳化できる高分子乳化剤を開発する。
【解決手段】ポリメタクリル酸メトキシポリエチレングリコールを含有することを特徴とする高分子乳化剤。 (もっと読む)


【課題】ラインエッジラフネス(LER)に優れるレジストパターンを製造可能なレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する重合体。[式(I)中、Rは水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。Y1及びY2は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。Xは、炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基を表す。]
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【課題】感度、PEB温度依存性及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性組成物は、下記一般式(B−I)により表され、活性光線又は放射線の照射により分解して一般式HBにより表される化合物を発生する第1化合物を含有している。
【化1】
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【課題】ラクトン環とペルフルオロアルキル基とを有する新規な樹脂の製造に有用な、新規化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。(式(I)中、Rは水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。Y1及びY2は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。Xは、炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基を表す。)
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【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】(A)下記一般式(A1)で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び(C)フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式中、Rは水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はCHOHを表す。Rはアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた2価の連結基を表す。nは0〜5の整数を表す。nが2以上の場合、複数のRは同一でも異なっていてもよい。)
【化1】
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【課題】イミド系化合物を高濃度で含み、粘度などの様々なパラメータがインクジェット用に最適化されており、かつ反り量の少ない絶縁膜を得ることができる、インクジェット用インクを提供する。
【解決手段】式(1)で表されるジイミド化合物(A)と、溶媒(B)とを含むインクジェット用インク。


[式(1)中、Xは炭素数2〜100の四価の有機基であり、R1は炭素数1〜100の
二価の有機基であり、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素またはメチルである。] (もっと読む)


【課題】 ノズルからの吐出性及び活性光線照射による速硬化性に優れる高速印刷可能なインクジェット印刷インク用重合性化合物及びインク組成物を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表されるインクジェット印刷インク用重合性化合物(A)。
【化1】


[式中、R1及びR3はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10の1価の脂肪族炭化水素基であり、R2は炭素数2〜4のアルキレン基であり、a及びbは、それぞれ独立に0〜5でかつ1≦a+b≦5を満たす整数であり、c及びdはそれぞれ独立に0〜5の整数である。] (もっと読む)


【課題】レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】有機溶剤(X)で現像を行うレジストパターン形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物であって、重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、溶剤(C)とを含有し、上記重合体(A)は、側鎖にラクトン構造もしくはカーボネート構造を有する特定のアクリル系繰り返し単位を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


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