国際特許分類[C08F20/28]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素−炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体 (3,487) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (3,067) | エステル (2,452) | カルボキシ酸素以外に酸素を含有するエステル (813) | アルコール残基中に芳香族環を含有しないもの (340)
国際特許分類[C08F20/28]に分類される特許
51 - 60 / 340
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される樹脂を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂[式(I)中、R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。A1は、単結合、*−A2−O−、*−A2−CO−O−、*−A2−CO−O−A3−CO−O−又は*−A2−O−CO−A3−O−を表す。*は−O−との結合手を表す。A2及びA3は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキレン基を表す。]、当該樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
(もっと読む)
含フッ素アダマンタン誘導体
【課題】硬化物にしたときに耐熱性、低屈折率及び機械物性に優れる新規な含フッ素アダマンタン誘導体及びそれを含む樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式の化合物で代表される含フッ素アダマンタン誘導体及びそれを含む樹脂組成物。
(もっと読む)
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、基材成分(A)は、側鎖にOH基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する(メタ)アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する(メタ)アクリレート単位の少なくとも1種を有する樹脂成分(A1)を含有し、樹脂成分(A1)の全構成単位の合計に対し構成単位(a11)の割合が35モル%を超える。
(もっと読む)
モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法
【課題】アセタール部分を含む(メタ)アクリラートモノマー、このモノマーから形成される単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】2個のアセタール環構造を有するアルコールから得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマー。該モノマー、ポリマー、およびフォトレジスト組成物はフォトリソグラフィパターン形成に有用である。前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、および電子デバイスも提供する。この組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだした。
(もっと読む)
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性(CDU)に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、(D)溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
(もっと読む)
ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法
【課題】電子デバイス製造におけるネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトグラフィ法を提供。
【解決手段】特定のアセタール部分を有する単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法により、電子デバイスの製造においてフォトグラフィ処理における厚さ損失の低減、並びにパターン崩壊マージン、解像度およびフォトスピードの向上をもたらしうることが見いだされた。
(もっと読む)
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】マスクエラーファクター(MEF)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式(a)で表される化合物。
[式中、A1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式(a−1)
(式中、sは0又は1;A10及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基;ただしA10、A11、A12、X10及びX11の炭素数の合計は6以下である)で表される基;R1は水素原子又はメチル基;R2は芳香族炭化水素基を表す。]
(もっと読む)
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩を有効成分として含有する酸発生剤と、式(a3−2)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[式中、Q1及びQ2は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は2価の飽和炭化水素基;L2は単結合又は2価の飽和炭化水素基;R1は脂肪族炭化水素基;R2は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基等;Z+は有機対イオン;La5は、酸素原子又は*−O−(CH2)k3−CO−O−、k3は1〜7の整数、*は−CO−との結合手;Ra22はカルボキシ基、シアノ基又は脂肪族炭化水素基を表す。]
(もっと読む)
着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法、固体撮像素子、並びに液晶表示装置
【課題】良好なパターンプロファイル(矩形性)を示し、微細パターンの形成が可能となる着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(A)着色感放射線性組成物における全固形分中の45質量%〜80質量%の着色剤と、(B)酸性基を有し、酸価25mgKOH/g以上である多官能(メタ)アクリル化合物及び親水基を有する多官能(メタ)アクリル化合物から選ばれる少なくとも1種の光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)溶剤とを含み、前記(A)着色剤における10質量%〜80質量%が下記式(A−I)で表される化合物である着色感放射線性組成物である。
(もっと読む)
重合性液晶組成物およびその用途
【課題】室温付近でコレステリック相を示すとともに、組成物の組成を変えることで、赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することができ、さらに、対象となる基材上に、コレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物は、特定の単官能液晶性アクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも2種を含有することを特徴とする。
(もっと読む)
51 - 60 / 340
[ Back to top ]