【課題】組成物の保存時におけるパーティクル発生の抑制能に優れ、且つ、経時による線幅変動が抑制されたパターン形成を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこの組成物の製造方法を提供することにある。更に、本発明の目的は、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する第１樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤として少なくともアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、該組成物中に溶存する酸素の濃度と窒素の濃度の合計が０．１８０μｇ／μｌ以下である組成物。 （もっと読む）

【課題】 酸素存在下における光硬化アクリレート樹脂の表面硬化性と透明性の両立を実現する光硬化性樹脂組成物とそれを用いた光硬化性樹脂組成物ワニス、光硬化性樹脂組成物硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ−１）一般式（Ｉ）に示すポリエチレンオキサイド構造を有する重合性（メタ）アクリレートまたは（Ａ−２）一般式（ＩＩ）に示すポリグリセロール構造を有する（メタ）アクリレートと、（Ｂ）ベンゾフェノン系光開始剤を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物、又は、下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物、及び、（Ｇ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（ａ５−１）で表される構成単位と、酸分解させるための活性化エネルギーの差が１〜５０ｋＪ／ｍｏｌである、少なくとも２種のアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好で、レジストパターンを形成した場合に欠陥の発生数を低減することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−等ｍ１〜ｍ３はそれぞれ１〜６の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】
低粘度で耐熱性と硬化性に優れた特定のポリグリセリン構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化物と、それを用いて硬化させた際、硬度と耐熱性に優れた塗膜が得られる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
トリグリセリン濃度とテトラグリセリン濃度の合計が６０重量％以上であるポリグリセリンとアルキレンオキサイド（炭素数２〜４）を反応して得られるポリグリセリンアルキレンオキサイド付加物（付加モル数４〜２０）に（メタ）アクリル酸（または低級アルコールの（メタ）アクリル酸エステル）を反応して得られる（メタ）アクリル酸エステル化物、及び該化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、下記Ｘが、炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、下記Ｚが、Ｘに結合する炭素原子と共に炭素数５〜８の２価の単環の脂環式基を形成する基であるとよい。
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【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】高い顔料濃度であっても、保護膜及び支持体との密着性に優れたカラーフィルター基板を提供する。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）有機系着色剤、（Ｃ）アクリル系ポリマー、（Ｅ）光重合性モノマー、および（Ｄ）溶媒を含有するカラーフィルター用感光性着色組成物において、（Ｅ）光重合性モノマーが少なくとも（Ｅ−１）下記一般式（１）で表される光重合性モノマーを含有し、かつ（Ｅ）光重合性モノマーの含有量が、（Ｃ）アクリル系ポリマーと（Ｅ）光重合性モノマーの質量の総和に対して５０〜７５質量％であることを特長とするカラーフィルター用感光性着色組成物。 （もっと読む）